产品耗材展示-深圳市矢量科学仪器有限公司

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分子束外延MBE
型号： GEN10 参考价：￥咨询

gen10™ mbe 系统是成熟平台中经济、灵活的簇状工具系统，允许多达三个可配置的、特定于材料的生长模块。这使得系统利用率高，允许多个研究人员同时使用该系统，并在无人值守的情..

所在地：美洲发布时间：2024/8/14
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激光椭圆仪
型号： SE 400adv PV 参考价：￥咨询

多角度激光椭偏仪 se 400adv pv 在 hene 激光波长为 632.8 nm 时，在纹理单晶和多晶硅片上提供抗反射单膜的膜厚度和折射率。可更换晶圆支架允许在多晶硅片和碱性纹理单晶..

所在地：欧洲发布时间：2024/8/14
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全自动CMP晶圆清洗一体机
型号： GNP GPC-300A 参考价：￥咨询

韩国g&p的全自动cmp晶圆清洗一体机是一台可以自动抛光和清洁300毫米晶圆的机器。

所在地：其它发布时间：2024/8/14
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MBE分子束外延系统
型号： GENxplor R&D 参考价：￥咨询

genxplor® r&d mbe系统获得了化合物半导体制造的csindustry奖，采用veeco成熟的3英寸生长室设计，并具有无与伦比的工艺灵活性，非常适合uv led、高效..

所在地：美洲发布时间：2024/8/14
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光谱椭偏仪
型号： SENTECH SER 800 PV 参考价：￥咨询

sentech ser 800 pv光谱椭偏仪符合perc、topcon、hjt和钙钛矿技术等新型太阳能电池技术的研发要求。它操作简单，具有高测量灵敏度、去偏振校正和特殊的聚光光学元件，使..

所在地：欧洲发布时间：2024/8/14
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激光椭圆仪
型号： SENTECH SE 401adv 参考价：￥咨询

se 401adv 通过映射高达 200 毫米的液体单元、用于原位测量的液体单元、摄像机、自动对焦、模拟软件和经过认证的标准晶圆，可根据您的需求进行调整。

所在地：欧洲发布时间：2024/8/14
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无掩模光刻机
型号： μMLA 参考价：￥咨询

台式 μmla 系统是先进的无模板技术，建立在的 μpg 平台之上，该平台是全球高的台式无模板系统。

所在地：欧洲发布时间：2024/8/14
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湿法匀胶工作台
型号： WS-1000MH 参考价：￥咨询

laurell的ws-1000mh系列微型湿法匀胶工作台适用于更狭小的空间和较小的预算。这个简单的工作站被提炼出真正的湿式工作站必须具备的精髓，以实现大的经济性。

所在地：美洲发布时间：2024/8/14
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单片湿法刻蚀机
型号： KS-S300-E 参考价：￥咨询

满足半导体制造中湿法刻蚀工艺，单片加工，适用于sio2，sin，polysilicon和各种金属层的刻蚀，清洗等工艺流程。

所在地：中国大陆发布时间：2024/8/14
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电感耦合等离子体刻蚀
型号： PlasmaPro 100 Cobra ICP 参考价：￥咨询

plasmapro 100 cobra icp rie系统利用高密度电感耦合等离子体实现快速刻蚀速率。该工艺模块可提供出色的均匀性、高吞吐量、高精度和低损伤工艺，适用于大尺寸为200毫米的..

所在地：欧洲发布时间：2024/8/14
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去胶机
型号： KS-S150-6ST 参考价：￥咨询

用于封装域中的光阻去除工艺，掩膜版清洗，oled 域中的光阻去除及蒸镀后金属剥离等工艺及化合物半导体域中的光阻去除及蒸镀后金属剥离等工艺。

所在地：中国大陆发布时间：2024/8/14
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单片湿法去胶机
型号： KS-S300-ST 参考价：￥咨询

用于先进封装工艺过程中的晶圆去胶制程和金属剥离制程。设备可搭载槽式浸泡单元、高压喷淋或二流体喷淋去胶单元、清洗及干燥单元等工艺模块，满足各种品牌型号、各种厚度的正负性光阻去除及金属剥离等工..

所在地：中国大陆发布时间：2024/8/14
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微型轮廓仪（光学检测）
型号： ET200A型参考价：￥咨询

kosaka lab et 200a探针接触式台阶仪是株式会社小坂研究所的高精度微细形状测定机，基于windows系统，采用金刚石探针接触测量，适用于多种材料表面形貌分析，如台阶、粗糙度等..

所在地：日本发布时间：2024/8/14
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单晶圆刻蚀系统
型号： PlasmaPro 100 Polaris 参考价：￥咨询

凭借在蚀刻gan，sic和蓝宝石等材料方面的丰富经验，我们的技术既能够满足性价比的要求、又能使器件的性能得到更优化。plasmapro 100 polaris单晶圆刻蚀系统为得到更为精细的..

所在地：欧洲发布时间：2024/8/14
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湿法匀胶工作台
型号： WS-1000 参考价：￥咨询

laurell的ws-1000系列湿法匀胶工作台的配置和测试模块建造和运输安装时间短。易于装载和操作，所有物品都让操作员方便地触及。

所在地：美洲发布时间：2024/8/14
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电感耦合等离子体化学气相沉积ICPCVD
型号： PlasmaPro 100 ICPCVD 参考价：￥咨询

该icpcvd工艺模块设计用于在低生长温度下生产高质量的薄膜，通过高密度远程等离子体实现，从而实现优秀的薄膜质量，同时减少基板损伤。

所在地：欧洲发布时间：2024/8/14
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无掩模光刻机
型号： MLA 300 参考价：￥咨询

mla 300 无掩模光刻机提供高吞吐量、简化的工作流程以及与制造执行系统（mes）的集成。该工具用于生产传感器和传感器 ic、mems 和微流体器件。其他应用包括分立电子元件、模拟..

所在地：欧洲发布时间：2024/8/14
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去胶机
型号： KS-S150-4ST 参考价：￥咨询

适用于半导体及led芯片制造域中的光刻胶去除、金属剥离等工艺制程。

所在地：中国大陆发布时间：2024/8/14
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晶圆湿法清洗工作台
型号： 3300系列参考价：￥咨询

waferstorm平台是先进封装、mems、射频、数据存储和光子学市场中许多关键溶剂型工艺的行业选择。有 2 个版本——手动加载（ml）和 3300 系列平台。ml系统非常适合研发和..

所在地：美洲发布时间：2024/8/14
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等离子增强化学气相沉积PECVD
型号： PlasmaPro 100 PECVD 参考价：￥咨询

设计pecvd工艺模式的目的是要在控制薄膜性能，如折射率、应力、电学特性和湿法化学刻蚀速率的提下，生产均匀性好且沉积速率高的薄膜。plasmapro 100 pecvd 由于电温度均匀性和..

所在地：欧洲发布时间：2024/8/14
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