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8英寸离子束塑形（IBS）设备
型号： Lorem® A 系列参考价：￥咨询

lorem® a 系列常规 ibs 设备，由离子源栅引出正离子并加速，中性束流撞击样品表面，溅射形成刻蚀图像。由于等离子体的产生远离晶圆空间，起辉不受非挥发性副产物的影响。这种物..

所在地：中国大陆发布时间：2024/8/14
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12英寸离子束塑形（IBS) 设备
型号： Pangea® A 系列参考价：￥咨询

pangea®a系列常规ibs设备由离子源栅引出正离子并加速，中性束流撞击样品表面，溅射形成刻蚀图像。由于等离子体的产生远离晶圆空间，起辉不受非挥发性副产物的影响。这种物理方案，..

所在地：中国大陆发布时间：2024/8/14
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12英寸特种金属膜层刻蚀设备
型号： LMEC-300 参考价：￥咨询

lmec-300™ 是鲁汶仪器针对特种金属膜层刻蚀而推出的 12 英寸集成设备，应用于新兴存储器件的制备。此类器件的核心功能单元含有成分复杂的金属叠层，例如磁存储器的磁隧道节（..

所在地：中国大陆发布时间：2024/8/14
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CMP
型号： GNP POLI-610 参考价：￥咨询

gnp poli-610为蓝宝石等复合晶圆的cmp工艺开发而设计。特别是该系统对于晶圆工艺开发具有较低的拥有成本，材料评估和生产运行。

所在地：其它发布时间：2024/8/14
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CMP后清洗机
型号： GNP CLEANER-412S 参考价：￥咨询

gnp cleaner-412s型cmp后清洗机集成了两个双刷站，设计紧凑，占地面积小，可清洗(4“~12“)晶圆。

所在地：其它发布时间：2024/8/14
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低温ICP-RIE等离子体刻蚀系统
型号： SENTECH SI 500 C 参考价：￥咨询

sentech si 500 c 低温 icp-rie 等离子体蚀刻系统代表了电感耦合等离子体（icp）处理的沿技术，其宽温度范围为 -150 °c 至 150 °c。该工具包括 i..

所在地：欧洲发布时间：2024/8/14
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无掩膜光刻机
型号： UV Litho-ACA 参考价：￥咨询

aca无掩膜光刻机系列是科研版的无掩膜版紫外光刻机，其基于空间光调制技术，实现了数字掩膜光刻，灵活性使其成为科学研究。设备搭载长寿命、高功率的紫外光源，设备稳定，上手简单。其的原位光绘和交..

所在地：中国大陆发布时间：2024/8/14
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RIE等离子蚀刻系统
型号： SENTECH Etchlab 200 RIE 参考价：￥咨询

sentech etchlab 200 rie等离子蚀刻系统代表了一系列直接加载等离子体蚀刻系统，结合了rie平行板电设计的优点和直接负载的成本效益设计。

所在地：欧洲发布时间：2024/8/14
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CMP后清洗机
型号： GNP CLEANER-412R 参考价：￥咨询

gnp cleaner-412r型cmp后清洗机集成了两个双刷站，设计紧凑，占地面积小，可清洗(4“~12“)晶圆。

所在地：其它发布时间：2024/8/14
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等离子刻蚀系统RIE
型号： SENTECH SI 591 参考价：￥咨询

sentech si 591 紧凑型 rie 等离子蚀刻系统具有负载锁定功能，是氯基和氟基 rie 的紧凑型解决方案。具有出色的工艺可重复性和等离子蚀刻工艺灵活性，这得益于真空负载锁定和由..

所在地：欧洲发布时间：2024/8/14
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RIE等离子刻蚀系统
型号： SENTECH SI 500 CCP 参考价：￥咨询

sentech si 500 ccp 系统使用动态温度控制和氦背冷却，代表了材料蚀刻灵活性的优势。等离子体蚀刻过程中的衬底温度设置和稳定性是高质量蚀刻的严格标准。具有动态温度控制功能的衬底..

所在地：欧洲发布时间：2024/8/14
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原子层沉积ALD
型号： Savannah 参考价：￥咨询

veeco 是全球先的原子层沉积（ald）系统供应商，为研究和工业提供全面的服务和多功能的交钥匙系统，这些系统易于访问、经济实惠且精确到原子尺度。薄膜沉积是我们的长。我们的 savan..

所在地：美洲发布时间：2024/8/14
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无掩膜光刻机
型号： UV Litho-S 参考价：￥咨询

speed系列是高速版的无掩膜版紫外光刻机，其无掩膜光刻机配备了先进的高速空间光调制器以及高功率紫外激光器。这一系列的光刻机不仅保证了高精度和高灵活性，更在这一基础上，拥有了更高的光刻效率..

所在地：中国大陆发布时间：2024/8/14
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开盖等离子体沉积系统PECVD
型号： SENTECH Depolab 200 参考价：￥咨询

sentech depolab 200 是基本的等离子体增强化学气相沉积（pecvd）系统，适用于沉积用于蚀刻掩模、膜和电隔离膜以及许多其他材料的介电膜。结合了用于均匀薄膜沉积的平行板..

所在地：欧洲发布时间：2024/8/14
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无掩膜光刻机
型号： BIO L+ 参考价：￥咨询

bio系列是生命科学版的无掩膜紫外光刻机，该设备具有更高的深宽比，能满足生命科学域的特殊需求。它主要用于制备像微流控芯片之类的具有特定需求的样品。在微流控芯片的制造过程中，其高深宽比和高..

所在地：中国大陆发布时间：2024/8/14
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ICP沉积系统
型号： SENTECH SIPAR ICP 参考价：￥咨询

sentech sipar icp沉积系统是为使用灵活的系统架构的各种沉积模式和工艺开发和设计的。该工具包括 icp 等离子体源 ptsa、一个动态温控基板电和一个受控的真空系统。该系统将..

所在地：欧洲发布时间：2024/8/14
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CMP后清洗机
型号： GNP CLEANER-428L 参考价：￥咨询

gnp cleaner-428l型cmp后清洗机集成了两个双刷站，设计紧凑，占地面积小，可清洗(4“~8“)晶圆。

所在地：其它发布时间：2024/8/14
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AL实时监控器
型号： SENTECH AL 参考价：￥咨询

sentech al 实时监测器是一种经过验证的光学诊断工具，可实现单个 ald 和 ale 周期的超高分辨率。主要应用是在不破坏真空的情况下分析薄膜特性（生长速率、厚度、折射率以及蚀刻速..

所在地：欧洲发布时间：2024/8/14
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桌面式高精密3D光刻机
型号：织雀™PL-3D 参考价：￥咨询

织雀™pl-3d 是托托科技自主研发的桌面式高精密3d光刻设备，光学精度达5μm。在复杂三维微纳结构、高深宽比微纳结构以及复合材料三维微纳结构制造方面具有突出的潜能和优势，而且..

所在地：中国大陆发布时间：2024/8/14
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原子层沉积ALD
型号： Phoenix 参考价：￥咨询

phoenix®系统经过精心设计，可在从中试生产到工业制造的任何制造环境中实现高吞吐量和长的正常运行时间。技术人员和研究人员依靠 phoenix® 在平面和 3d 基板..

所在地：美洲发布时间：2024/8/14
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