产品耗材展示-深圳市矢量科学仪器有限公司

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PVD-间歇式滚筒系列
型号： PVD-BATCH DRUM 参考价：￥咨询

kurt j. lesker company pvd-batch drum系列由两种标准尺寸（pvd 200 和 pvd 500）组成，可配置为水平或垂直配置。当颗粒物是一个主要问题时，水..

所在地：美洲发布时间：2024/8/15
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键合机
型号： BA Gen4 参考价：￥咨询

ba gen4 键合机在键合过程中精确对准，键合对准器 ba gen4 series 是为手动对准并键合两个 200 毫米以下晶圆而设计的。选配掩模对准器工具后还可使用各种功能。ba ge..

所在地：欧洲发布时间：2024/8/15
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原子层沉积ALD
型号： ALD-150LE™ 参考价：￥咨询

kurt j. lesker company （kjlc） ald150le™是我们但其灵活的原子层沉积（ald）系统，为入门到中用户而设计。该ald150le™..

所在地：美洲发布时间：2024/8/15
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化学气相沉积设备
型号： PD-2201LC 参考价：￥咨询

pd-2201lc 是一种盒式装载等离子体增强化学气相沉积 (pecvd) 设备，能够沉积硅基薄膜（氧化硅、氮化硅、氧氮化硅和非晶硅）。该系统在节省空间的提下提供了pecvd的所有标准功能..

所在地：欧洲发布时间：2024/8/15
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原子层沉积ALD
型号： ALD-150LX™ 参考价：￥咨询

kurt j. lesker company （kjlc） ald150lx™是一种原子层沉积（ald）系统，为高研发（r&d）应用而设计。

所在地：美洲发布时间：2024/8/15
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探针台
型号： CM300xi型参考价：￥咨询

cm300xi 探针台可应对其复杂的环境带来的测量挑战，例如在长时间和多种温度下在小焊盘上进行无人值守的测试。在 emi 屏蔽、光密和无湿气的测试环境中，为各种应用实现了一流的测量性能。热..

所在地：美洲发布时间：2024/8/15
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化学气相沉积（PECVD）系统
型号： PD-3800L 参考价：￥咨询

pd-3800l 化学气相沉积系统是一种能够沉积硅基薄膜（氧化硅、氮化硅、氧氮化硅和非晶硅）的锁载等离子体增强化学气相沉积（pecvd）系统。该系统由于采用了大型反应室，并通过载盘装载多片..

所在地：日本发布时间：2024/8/15
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有机薄膜沉积和金属化系统
型号： Super-SPECTROS™ 200 参考价：￥咨询

概述：针对有机材料沉积进行了优化多达 12 个 lte 信号源;1cc、10cc或35cc 容量主体与掺杂剂比 1000：1 多达 4 个热蒸发源基板快门自动基板、掩膜存储和更换

所在地：美洲发布时间：2024/8/15
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化学气相沉积 (PECVD) 系统
型号： PD-220NL 参考价：￥咨询

pd-220nl 是一种负载锁定等离子体增强化学气相沉积 (pecvd) 系统，能够沉积硅基薄膜（氧化硅、氮化硅、氧氮化硅和非晶硅）。该系统以非常紧凑的占地面积提供了pecvd的所有标准功..

所在地：日本发布时间：2024/8/15
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有机薄膜沉积和金属化系统
型号： SPECTROS™ 150 参考价：￥咨询

kurt j. lesker company 的 spectros™ 150 是基于主力 spectros 平台的下一代薄膜沉积系统。spectros平台在全球拥有100多台设..

所在地：美洲发布时间：2024/8/15
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沉积和金属化系统
型号： Mini SPECTROS 参考价：￥咨询

kurt j. lesker company mini spectros™是基于主力spectros平台的下一代薄膜沉积系统。

所在地：美洲发布时间：2024/8/15
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探针台
型号： SUMMIT200 参考价：￥咨询

summit200探针台为研发、设备表征/建模或利基生产应用而设计，可在超低噪声、直流、射频、毫米波和太赫兹应用中进行温度范围内的精确电气测量，具有半自动和现在的全自动操作，可尽快获得准确..

所在地：美洲发布时间：2024/8/15
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溅射或热蒸发薄膜沉积系统
型号： NANO 36™ 参考价：￥咨询

kurt j. lesker company® nano 36™ 是我们优化的入门沉积系统。我们的腔室设计特别适合手套箱集成。nano 36 具有更高的功能和更小的占..

所在地：美洲发布时间：2024/8/15
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原子层沉积设备
型号： AD-230LP 参考价：￥咨询

ad-230lp 原子层沉积设备是一种原子层沉积（ald）系统，能够在原子水平上控制薄膜厚度。有机金属原料和氧化剂交替供给反应室，仅通过表面反应进行薄膜沉积。该系统具有负载锁定室，且不向大..

所在地：日本发布时间：2024/8/15
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探针台
型号： MPS150-SiPh 参考价：￥咨询

入门手动探针台，用于表面耦合和水平边缘耦合formfactor推出了一种具有成本效益的硅光子学测量解决方案，以支持新兴应用的基础研究工作。该系统的设计是formfactor多年开发自动光子..

所在地：美洲发布时间：2024/8/15
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无针孔薄膜沉积设备
型号： AL-1 参考价：￥咨询

al-1 无针孔薄膜沉积设备通过交替向反应室提供有机金属原料和氧化剂，仅利用表面反应沉积薄膜，实现了高膜厚控制和良好的步骤覆盖率。薄膜的厚度可以控制在原子层的数量。

所在地：日本发布时间：2024/8/15
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磁控溅射镀膜设备
型号： LAB Line 参考价：￥咨询

kurt j. lesker company lab line uhv 溅射平台为磁控溅射沉积应用而设计。为满足 uhv 溅射工艺需求而定制的腔室设计、具有高编程、负载锁定功能的行业佳软件..

所在地：美洲发布时间：2024/8/15
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电子束蒸发镀膜设备
型号： CMS系列参考价：￥咨询

其强大的先进研究工具设计用于适应特定的薄膜应用，如 gmr、cms、半导体、纳米器件、光子学和光伏独特的系统设计可以配置为真正的超高真空性能经过现场测试和验证的设计

所在地：美洲发布时间：2024/8/15
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等离子体增强CVD系统
型号： PD-100ST 参考价：￥咨询

pd-100st是一种用于研发的低温(80 ~ 400°c)、高速(>300 nm/min)等离子体增强cvd系统。samco的液态源cvd系统采用自偏置沉积技术和液态teos源，以低应力..

所在地：日本发布时间：2024/8/15
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等离子体增强CVD系统
型号： PD-270STLC 参考价：￥咨询

pd-270stlc是一种低温(80 ~ 400°c)、高速(>300 nm/min)的等离子体增强cvd系统，可用于大规模生产。samco的液态源cvd系统采用自偏置沉积技术和液态teo..

所在地：日本发布时间：2024/8/15
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