薄膜沉积设备PVD(第1页)_深圳市矢量科学仪器有限公司

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分类薄膜沉积设备PVD

产品分类

磁控溅射镀膜机Sputter
型号：customized 参考价：￥咨询

应用域：巨磁电阻（gmr）、组合材料科学（cms）、半导体、超导体、纳米器件、光子学、光伏（pv）、oled（发光二管）、有机薄膜

所在地：其它
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热蒸发镀膜机Thermal Evaporation
型号：customized 参考价：￥咨询

设备用途：热蒸发是指把待镀膜的基片或工件置于真空室内，通过对镀膜材料加热使其蒸发气化而沉积于基体或工件表面并形成薄膜或涂层的工艺过程。可在高真空下蒸发高质量的不同厚度的金属薄膜。蒸镀薄膜种..

所在地：美洲
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电子束蒸发镀膜机E-Beam
型号：customized 参考价：￥咨询

产品介绍 1.系统主要由蒸发室、主抽过渡管路、旋转基片架、光加热系统、电子枪及电源、石英晶体振荡膜厚监控仪、工作气路、抽气系统、控制系统、安装机台等部分组成2.设备用途：本系统配有一套电子..

所在地：美洲
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脉冲激光沉积镀膜机PLD
型号：customized 参考价：￥咨询

设备用途：是一种利用激光高能量脉冲辐射冲击固体靶时，激光与物质之间的所有物理相互作用，亦包括等离子羽状物的形成，其后已熔化的物质通过等离子羽状物到达已加热的基片表面的转移，及后物质沉淀在不..

所在地：其它
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原子层沉积ALD
型号：Phoenix 参考价：￥咨询

phoenix®系统经过精心设计，可在从中试生产到工业制造的任何制造环境中实现高吞吐量和长的正常运行时间。技术人员和研究人员依靠 phoenix® 在平面和 3d 基板..

所在地：美洲
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原子层沉积ALD
型号：Savannah 参考价：￥咨询

veeco 是全球先的原子层沉积（ald）系统供应商，为研究和工业提供全面的服务和多功能的交钥匙系统，这些系统易于访问、经济实惠且精确到原子尺度。薄膜沉积是我们的长。我们的 savan..

所在地：美洲
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8英寸离子束沉积（IBD）设备
型号：Ganister™ A 系列参考价：￥咨询

ganister™ a离子束沉积设备，是针对低温、高致密、高均匀性薄膜沉积工艺所开发的用产品，在硬盘磁头、硬磁偏置层、布拉格反射镜等器件的制备中有着重要的应用。该设备采用溅射成..

所在地：中国大陆
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等离子增强原子层沉积PEALD
型号：Fiji 参考价：￥咨询

我们的 fiji® 系列是一种模块化、高真空热原子层沉积系统，采用灵活的架构和多种驱体和等离子体气体配置，可适应各种沉积模式。fiji g2 是下一代 ald 系统，能够执行热成..

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物理气相沉积PVD
型号：NEXUS 参考价：￥咨询

veeco 的单靶点 nexus pvdi 物理气相沉积系统为各种薄膜沉积应用提供了大的灵活性。nexus pvd 的加工精度为 200 毫米，具有先进的工艺能力、无与伦比的均匀性和多种沉..

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多功能溅射、电子束和热蒸发沉积平台
型号：PRO Line PVD 200 参考价：￥咨询

kurt j. lesker company pro line pvd 200 是一种模块化、功能齐全的薄膜沉积系统，可实现 8 英寸晶圆转移、多达 8 个溅射阴和 eklipse 高控制..

所在地：美洲
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电子束蒸发镀膜设备
型号：CMS系列参考价：￥咨询

其强大的先进研究工具设计用于适应特定的薄膜应用，如 gmr、cms、半导体、纳米器件、光子学和光伏独特的系统设计可以配置为真正的超高真空性能经过现场测试和验证的设计

所在地：美洲
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磁控溅射镀膜设备
型号：LAB Line 参考价：￥咨询

kurt j. lesker company lab line uhv 溅射平台为磁控溅射沉积应用而设计。为满足 uhv 溅射工艺需求而定制的腔室设计、具有高编程、负载锁定功能的行业佳软件..

所在地：美洲
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无针孔薄膜沉积设备
型号：AL-1 参考价：￥咨询

al-1 无针孔薄膜沉积设备通过交替向反应室提供有机金属原料和氧化剂，仅利用表面反应沉积薄膜，实现了高膜厚控制和良好的步骤覆盖率。薄膜的厚度可以控制在原子层的数量。

所在地：日本
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原子层沉积设备
型号：AD-230LP 参考价：￥咨询

ad-230lp 原子层沉积设备是一种原子层沉积（ald）系统，能够在原子水平上控制薄膜厚度。有机金属原料和氧化剂交替供给反应室，仅通过表面反应进行薄膜沉积。该系统具有负载锁定室，且不向大..

所在地：日本
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溅射或热蒸发薄膜沉积系统
型号：NANO 36™ 参考价：￥咨询

kurt j. lesker company® nano 36™ 是我们优化的入门沉积系统。我们的腔室设计特别适合手套箱集成。nano 36 具有更高的功能和更小的占..

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沉积和金属化系统
型号：Mini SPECTROS 参考价：￥咨询

kurt j. lesker company mini spectros™是基于主力spectros平台的下一代薄膜沉积系统。

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有机薄膜沉积和金属化系统
型号：SPECTROS™ 150 参考价：￥咨询

kurt j. lesker company 的 spectros™ 150 是基于主力 spectros 平台的下一代薄膜沉积系统。spectros平台在全球拥有100多台设..

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有机薄膜沉积和金属化系统
型号：Super-SPECTROS™ 200 参考价：￥咨询

概述：针对有机材料沉积进行了优化多达 12 个 lte 信号源;1cc、10cc或35cc 容量主体与掺杂剂比 1000：1 多达 4 个热蒸发源基板快门自动基板、掩膜存储和更换

所在地：美洲
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PVD-间歇式滚筒系列
型号：PVD-BATCH DRUM 参考价：￥咨询

kurt j. lesker company pvd-batch drum系列由两种标准尺寸（pvd 200 和 pvd 500）组成，可配置为水平或垂直配置。当颗粒物是一个主要问题时，水..

所在地：美洲
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部件镀膜设备
型号：KaLine 8V 参考价：￥咨询

本装置是在真空状态中向产品外部涂层非导体的设备,在真空内产品做自空传,由能保持一定的膜厚度构成的.

所在地：其它
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