产品耗材展示-深圳市矢量科学仪器有限公司

全部配件耗材新品推荐促销产品

单片清洗机
型号： KS-S300-SR 参考价：￥咨询

用于晶圆封装及oled中的清洗工艺，配合清洗化学药液、高压水清洗、常压水清洗、兆声波清洗、二流体水清洗、毛刷和喷洒清洗剂等手段，可有效去除晶圆表面颗粒、有机物、金属离子等杂质，同时适用于t..

所在地：中国大陆发布时间：2024/8/14
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单片式化学清洗机
型号： KS-CM300/200 参考价：￥咨询

ks-cm300/200 单片式化学清洗机适用于沉积清洗、蚀刻后清洗、离子注入后清洗、cmp后清洗等多种段工艺（feol）和后段工艺（beol）清洗进程，可适配高温spm工艺，工艺覆盖率达..

所在地：中国大陆发布时间：2024/8/14
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全自动SCRUBBER清洗机
型号： KS-CF300/200-8SR 参考价：￥咨询

清洗机可以用于对晶圆表面，背面及晶圆边缘的清洗，通过创新研发的二流体喷嘴技术可将附着在晶圆表面的细微颗粒污染物去除，实现高效去除。通过大量仿真与工艺试验相结合，优化出佳的清洗工艺参数，确保..

所在地：中国大陆发布时间：2024/8/14
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匀胶机
型号： EDC-650-15B 参考价：￥咨询

laurell的edc-650-15b型匀胶机结构紧凑，具有先进的功能。这款650系列edc系统将可容纳高达300mm的晶圆和9英寸×9英寸（229mm×229mm）基板。虽然这个系统有1..

所在地：美洲发布时间：2024/8/14
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12寸集束型涂胶显影机
型号： KS-C300 参考价：￥咨询

ks-c300涂胶显影机可用于封装、 mems、oled等域的涂覆显影制程，每小时可加工180片晶片，同时产品可兼容不同材质的晶片如硅、玻璃片、键合片、化合物等。产品可应用于逻辑类、存储类..

所在地：中国大陆发布时间：2024/8/14
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等离子增强化学气相沉积PECVD
型号： PlasmaPro 800 参考价：￥咨询

plasmapro 800 为大批量晶圆和 300mm 晶圆的等离子增强化学气相沉积（pecvd）工艺提供了灵活的解决方案，它采用了紧凑的开放式装载系统。可实现大型晶圆大规模的批量生产..

所在地：欧洲发布时间：2024/8/14
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激光光刻机
型号： DWL 2000 GS / DWL 4000 GS 参考价：￥咨询

dwl 2000 gs / dwl 4000 gs 激光光刻系统是快速、灵活的高分辨率图形发生器。它们针对工业灰度光刻进行了优化，设计用于集成电路、mems、微光学和微流体器件、传感器、全..

所在地：欧洲发布时间：2024/8/14
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12寸喷雾式涂胶机
型号： KS-S300-SP 参考价：￥咨询

ks-s300全自动喷雾式涂胶机通过超声波将光阻雾化为微小颗粒，适用于在大深宽比的图形表面以高分辨率均匀地涂敷光刻胶，可以有效覆盖沟槽的侧壁和边缘，避免沟槽堆积，节省光刻胶；同时针对轻薄易..

所在地：中国大陆发布时间：2024/8/14
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等离子增强化学气相沉积PECVD
型号： PlasmaPro 80 PECVD 参考价：￥咨询

plasmapro 80是一种结构紧凑且使用方便的小型直开式系统，可以提供多种刻蚀和沉积的解决方案。它易于放置，便于使用，且能确保工艺性能。直开式设计可实现快速晶圆装卸，是研究、原型设计..

所在地：欧洲发布时间：2024/8/14
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涂胶显影半自动机台
型号： KS-M300 参考价：￥咨询

ks-m300半自动机台可用于单片晶片涂胶、显影、喷胶、清洗、刻蚀、去胶工艺及掩膜板涂胶、显影、清洗工艺。适用于小批量生产的工艺试验和生产线。占地面积小，操作时手动上下片，工艺过程可自动完..

所在地：中国大陆发布时间：2024/8/14
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星型全自动涂胶显影机
型号： KS-S150 参考价：￥咨询

ks-s150星型全自动涂胶显影机用于led-pss工艺的涂胶显影制程及化合物半导体的涂胶显影等制程。可兼容蓝宝石、砷化镓和碳化硅等材质的晶圆，产品涉及多个应用域，涂胶机产能大于190片/..

所在地：中国大陆发布时间：2024/8/14
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等离子增强化学气相沉积PECVD
型号： PlasmaPro 1000 参考价：￥咨询

提供大面积刻蚀与沉积的量产型解决方案，led工业要求高产量，高器件质量和低购置成本。 plasmapro 1000更好地解决了这些需求。

所在地：欧洲发布时间：2024/8/14
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涂胶显影机
型号： KS-FT200/300 道8/12寸参考价：￥咨询

ks-ft200/300系列堆叠式高产能道涂胶显影机，为芯源自主研发的突破晶圆道28nm工艺节点及以上工艺制程，适用于arf、krf、i-line、pi、barc，soc，sod，sog等..

所在地：中国大陆发布时间：2024/8/14
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半自动划片机
型号： 6110 参考价：￥咨询

6110是一款高精度、高性能单轴半自动划片机，机身宽度490mm，占地面积小，结合全新设计的操作系统，提供高效、低使用成本的切割体验。

所在地：中国大陆发布时间：2024/8/14
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匀胶机
型号： EDC-650-8B 参考价：￥咨询

laurell的edc-650-8b匀胶机结构紧凑，具有先进的功能。这款650系列edc系统将可容纳大200mm晶圆和7英寸×7英寸（178mm×178mm）基板。虽然这个系统有12,00..

所在地：美洲发布时间：2024/8/14
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双光子聚合直写光刻机
型号： MPO 100 参考价：￥咨询

mpo 100双光子聚合直写光刻机是一种双光子聚合（tpp）多用户工具，用于微结构的 3d 光刻和 3d 显微打印，适用于微光学、光子学、微机械学和生物医学工程。模块化 3d 打印平台..

所在地：欧洲发布时间：2024/8/14
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反应性离子刻蚀系统RIE
型号： PlasmaPro 80 RIE 参考价：￥咨询

plasmapro 80是一种结构紧凑、小尺寸且使用方便的直开式系统，可以提供多种刻蚀和沉积的解决方案。它易于放置，便于使用，且能确保工艺性能。直开式设计可实现快速晶圆装卸，是研究和小批..

所在地：欧洲发布时间：2024/8/14
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有掩膜光刻机
型号： VPG 200 / VPG 400 参考价：￥咨询

vpg 200 / vpg 400 体积图形发生器是光刻系统，为 i-line 光刻胶的多用途掩模制造而设计。它们支持所有标准的中小型面罩尺寸，大尺寸为 410 x 410 mm++2.应..

所在地：欧洲发布时间：2024/8/14
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反应性离子刻蚀系统RIE
型号： PlasmaPro 800 RIE 参考价：￥咨询

plasmapro 800系列是结构紧凑、且使用方便的直开式系统，该系统为大批量晶圆和300mm晶圆上的反应离子蚀刻（rie）工艺提供了灵活的解决方案。大尺寸的晶圆平台能够处理量产别的批量..

所在地：欧洲发布时间：2024/8/14
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匀胶机
型号： EDC-650-23B 参考价：￥咨询

laurell的edc-650-23b型匀胶机结构紧凑，具有先进的功能。这款650系列edc系统将可容纳大150mm晶圆和5英寸×5英寸（127mm×127mm）基板。虽然这个系统有12,..

所在地：美洲发布时间：2024/8/14
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