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等离子清洗&去胶机
型号： customized 参考价：￥咨询

1. 用途：材料清洗、材料活化、材料刻蚀、材料涂覆2. 80 khz：功率 1000 或 3000 w 13.56 mhz：功率 0 - 300 w；0 - 600 w；0 - 10..

所在地：其它发布时间：2023/3/10
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槽式湿法刻蚀清洗设备
型号： customized 参考价：￥咨询

应用域：rca清洗，湿法去胶，介质层湿法刻蚀，金属层湿法刻蚀，炉管清洗等

所在地：其它发布时间：2023/3/10
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电镀设备
型号： customized 参考价：￥咨询

1. 应用域：pillar，bump，rdl，tsv等工艺2. 晶圆尺寸：150mm~300mm

所在地：中国大陆发布时间：2023/3/9
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磁控溅射镀膜机Sputter
型号： customized 参考价：￥咨询

应用域：巨磁电阻（gmr）、组合材料科学（cms）、半导体、超导体、纳米器件、光子学、光伏（pv）、oled（发光二管）、有机薄膜

所在地：其它发布时间：2023/3/9
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热蒸发镀膜机Thermal Evaporation
型号： customized 参考价：￥咨询

设备用途：热蒸发是指把待镀膜的基片或工件置于真空室内，通过对镀膜材料加热使其蒸发气化而沉积于基体或工件表面并形成薄膜或涂层的工艺过程。可在高真空下蒸发高质量的不同厚度的金属薄膜。蒸镀薄膜种..

所在地：美洲发布时间：2023/3/9
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电子束蒸发镀膜机E-Beam
型号： customized 参考价：￥咨询

产品介绍 1.系统主要由蒸发室、主抽过渡管路、旋转基片架、光加热系统、电子枪及电源、石英晶体振荡膜厚监控仪、工作气路、抽气系统、控制系统、安装机台等部分组成2.设备用途：本系统配有一套电子..

所在地：美洲发布时间：2023/3/9
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脉冲激光沉积镀膜机PLD
型号： customized 参考价：￥咨询

设备用途：是一种利用激光高能量脉冲辐射冲击固体靶时，激光与物质之间的所有物理相互作用，亦包括等离子羽状物的形成，其后已熔化的物质通过等离子羽状物到达已加热的基片表面的转移，及后物质沉淀在不..

所在地：其它发布时间：2023/3/9
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等离子增强化学气相沉积PECVD
型号： customized 参考价：￥咨询

应用方向：高质量pecvd沉积氮化硅和二氧化硅，用于光子学、电介质层、钝化以及诸多其它用途；用于高亮度led生产的硬掩模沉积和刻蚀的研制和生产。

所在地：欧洲发布时间：2023/3/9
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电感耦合等离子体刻蚀ICP
型号： customized 参考价：￥咨询

应用方向：1.iii-v族材料的刻蚀工艺2.固体激光器inp刻蚀3.vcsel gaas/algaas刻蚀4.射频器件低损伤gan刻蚀5.硅 bosch和超低温刻蚀工艺6.类金刚石（dlc..

所在地：欧洲发布时间：2023/3/9
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