产品耗材展示-深圳市矢量科学仪器有限公司

全部配件耗材新品推荐促销产品

匀胶机
型号： WS-650-8B 参考价：￥咨询

laurell的ws-650-8 b 型匀胶机结构紧凑，具有先进的功能。这款650系列涂布机系统将可容纳大200mm晶圆和 7英寸×7英寸（178mm×178mm）基板，大转速为12..

所在地：美洲发布时间：2024/8/13
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SiC分子外延系统MBE
型号： Epiluvac ER3-C1 参考价：￥咨询

epiluvac 产品通常作为完整的系统交付，包括反应器模块、气体输送系统、过程控制、安全系统、安装和调试。每个系统在发货都经过广泛的测试，一旦安装，交付还包括所有必要的客户操作和维护培训..

所在地：美洲发布时间：2024/8/13
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通用晶圆键合平台
型号： XBS300 参考价：￥咨询

通用xbs300晶圆键合平台设计用于（混合）热键合对准的200mm和300mm晶圆。其高度模块化的设计便于客户以低拥有成本来实现大的配置灵活性。提供多种配置，可满足研发和大批量生产（h..

所在地：欧洲发布时间：2024/8/13
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高真空磁控溅射薄膜沉积系统
型号： TRP450 参考价：￥咨询

产品概述：高真空磁控溅射薄膜沉积系统可用于制备光学薄膜、电学薄膜、磁性薄膜、硬质保护薄膜和装饰薄膜等，工艺性能稳定、模块化结构，采用行业的软件控制系统。设备用途：可广泛应用于大院校、科研院..

所在地：中国大陆发布时间：2024/8/13
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匀胶机
型号： WS-650-23B 参考价：￥咨询

laurell的ws-650-23b型匀胶机结构紧凑，具有先进的功能。这款650系列涂布机系统将可容纳大150mm晶圆和5英寸×5英寸（127mm×127mm）基板，大转速为12,00..

所在地：中国大陆发布时间：2024/8/13
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晶圆贴片机
型号： XBS200 参考价：￥咨询

通用的xbs200平台可以对尺寸大为200毫米的晶圆进行对准的晶圆键合。它的多功能性和模块化设计为所有的键合任务提供了大的工艺灵活性。一种新颖的对准晶圆传输方法消除了传统系统的复杂性，并提..

所在地：欧洲发布时间：2024/8/13
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磁控溅射薄膜沉积系统
型号： Linear type 参考价：￥咨询

磁控溅射薄膜沉积系统可用于制备光学薄膜、电学薄膜、磁性薄膜、硬质保护薄膜和装饰薄膜等，工艺性能稳定、模块化结构，采用行业的软件控制系统。

所在地：中国大陆发布时间：2024/8/13
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磁控溅射薄膜沉积系统
型号： SMART 参考价：￥咨询

磁控溅射薄膜沉积系统可用于制备光学薄膜、电学薄膜、磁性薄膜、硬质保护薄膜和装饰薄膜等，工艺性能稳定、模块化结构，采用行业的软件控制系统。

所在地：中国大陆发布时间：2024/8/13
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匀胶机
型号： H6-15 参考价：￥咨询

laurell的h6-15系列匀胶机结构紧凑，具有先进的功能，设计为容易安装在手套箱中的旋涂机。这款650系列hl涂布机系统将可容纳高达300mm 的晶圆和9英寸×9英寸（229mm×..

所在地：美洲发布时间：2024/8/13
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掩膜版清洗系统
型号： MaskTrack Pro 参考价：￥咨询

掩模的完整性对高标准光刻工艺的成功起主要作用。masktrack pro 掩膜清洗处理系统满足下一代光刻节点在掩模清洗、烘烤和显影工艺方面的所有标准。它是应对 193i 1x half-p..

所在地：欧洲发布时间：2024/8/13
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晶圆清洗机
型号： 977 参考价：￥咨询

977晶圆清洗机系统为切割后工件清洗和干燥而设计，配有旋转卡盘台、旋转清洗/干燥臂。臂可配置雾化清洁喷嘴或高压喷嘴，满足各种清洁度要求。

所在地：中国大陆发布时间：2024/8/13
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金属有机化学气相沉积MOCVD
型号： TurboDisc EPIK 868 参考价：￥咨询

用于 led 生产的 turbodisc epik 868 mocvd 系统

所在地：美洲发布时间：2024/8/13
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匀胶机
型号： H6-23 参考价：￥咨询

laurell的h6-23型的匀胶机结构紧凑，具有先进的功能，设计为容易安装在手套箱中的旋涂机。这款 650 系列 hl 涂布机系统将可容纳大 150mm 晶圆和 5 英寸 × 5 英..

所在地：美洲发布时间：2024/8/13
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高真空磁控溅射薄膜沉积系统
型号： PVD500 参考价：￥咨询

高真空磁控溅射薄膜沉积系统可用于制备光学薄膜、电学薄膜、磁性薄膜、硬质保护薄膜和装饰薄膜等，工艺性能稳定、模块化结构，采用行业的软件控制系统。

所在地：中国大陆发布时间：2024/8/13
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匀胶机
型号： H6-8 参考价：￥咨询

laurell的h6-8型的匀胶机结构紧凑，具有先进的功能，设计为容易安装在手套箱中的旋涂机。这款 650 系列 hl 涂布机系统将可容纳大 200mm 晶圆和 7 英寸 × 7 英寸..

所在地：美洲发布时间：2024/8/13
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高真空磁控溅射薄膜沉积系统
型号： PVD400 参考价：￥咨询

本沉积系统可用于制备光学薄膜、电学薄膜、磁性薄膜、硬质保护薄膜和装饰薄膜等，工艺性能稳定、模块化结构，采用行业先的软件控制系统。

所在地：中国大陆发布时间：2024/8/13
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超高真空激光分子束外延薄膜沉积系统
型号： LMBE450 参考价：￥咨询

超高真空激光分子束外延薄膜沉积系统由真空腔室（外延室、进样室）、样品传递机构、样品架、立式旋转靶台、基片加热台、抽气系统、真空测量、工作气路、电控系统、计算机控制等各部分组成。

所在地：中国大陆发布时间：2024/8/13
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超声扫描显微镜
型号： SAM Premium 参考价：￥咨询

pva tepla 超声扫描显微镜sam premium系列结合了声学显微镜和光学显微镜。它使超声扫描平台与倒置光学显微镜或反射式光学显微镜相结合。sam premium系列所使用的技术是..

所在地：欧洲发布时间：2024/8/13
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原子层沉积ALD
型号： Genesis ALD 参考价：￥咨询

用于电池、太阳能和柔性电子产品的功能性原子层沉积涂层。 genesis ald 是涂布任何卷筒格式基材以及多种功能应用的理想选择。

所在地：欧洲发布时间：2024/8/13
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原子层沉积ALD
型号： Beneq TFS 200/500 参考价：￥咨询

beneq tfs 200 是有史以来灵活的原子层沉积研究平台，为学术研究和企业研发而设计。beneq tfs 200 经过门设计，可大限度地减少多用户研究环境中可能发生的任何交叉污染。t..

所在地：欧洲发布时间：2024/8/13
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