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深圳市矢量科学仪器有限公司

第5年

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  • 快速退火炉RTP
    快速退火炉RTP
    型号:customized   参考价:¥咨询
    主要功能:快速热退火,快速热氧化,快速热氮化,扩散,化合物半导体退火,离子注入后退火,电合金化等。
    所在地:中国大陆    
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  • 激光退火设备
    激光退火设备
    型号:customized   参考价:¥咨询
    半导体激光退火机是用于半导体制造过程中的一种设备。退火是一种热处理过程,通过加热半导体材料来改变其性质,以实现所需的特性,如电导率、晶体结构和应力缓解。半导体激光退火机利用高能激光束来对半..
    所在地:中国大陆    
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  • 快速退火炉
    快速退火炉
    型号:RTP-100   参考价:¥咨询
    由德国尤尼坦公司研发的快速退火炉rtp-100,升温速率可高达 150 k/sec。
    所在地:欧洲    
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  • 快速退火炉
    快速退火炉
    型号:RTP-100-EP   参考价:¥咨询
    德国unitemp研发的符合真空标准的快速退火炉rtp-100-ep,升温速率高达 200 k/sec。
    所在地:欧洲    
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  • 快速退火炉
    快速退火炉
    型号:RTP-100-HV   参考价:¥咨询
    德国unitemp研发的符合高真空标准的快速退火炉rtp-100-hv,升温速率可高达 150 k/sec。主要特点:良好的温度均匀性、精确控制的斜坡上升速率和快速斜坡下降速率、工艺周转时..
    所在地:欧洲    
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  • 快速退火炉
    快速退火炉
    型号:RTP-100-HV-EP   参考价:¥咨询
    由德国unitemp研发的符合高真空标准的快速退火炉,升温速率高达 200 k/sec。主要特点:良好的温度均匀性、精确控制的斜坡上升速率和快速斜坡下降速率、工艺周转时间短、舒适的气体控制..
    所在地:欧洲    
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  • 快速退火炉
    快速退火炉
    型号:RTP-150   参考价:¥咨询
    由德国unitemp研发的快速退火炉rtp-150,升温速率高达 75 k/sec。主要特点:良好的温度均匀性、精确控制的斜坡上升速率和快速斜坡下降速率、工艺周转时间短、舒适的气体控制、台..
    所在地:欧洲    
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  • 快速退火炉
    快速退火炉
    型号:RTP-150-EP   参考价:¥咨询
    由德国unitemp研发的真空快速退火炉rtp-150-ep,升温速率高达 150 k/sec。主要特点:良好的温度均匀性、精确控制的斜坡上升速率和快速斜坡下降速率、工艺周转时间短、舒适的..
    所在地:欧洲    
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  • 快速退火炉
    快速退火炉
    型号:RTP-150-HV   参考价:¥咨询
    由德国unitemp研发符合高真空标准的快速退火炉,升温速率高达 75 k/sec。,升温速率高达 150 k/sec。主要特点:良好的温度均匀性、精确控制的斜坡上升速率和快速斜坡下降速率..
    所在地:欧洲    
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  • 快速退火炉
    快速退火炉
    型号:RTP-200   参考价:¥咨询
    由德国unitemp研发的用于 200 毫米(8 英寸)晶圆尺寸或 m10 182 x 182 毫米太阳能硅片的快速退火炉rtp-200。
    所在地:欧洲    
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  • 激光尖峰退火系统(下架)
    激光尖峰退火系统(下架)
    型号:LSA 101   参考价:¥咨询
    veeco 的 lsa101 系统安装在的 idm 和晶圆代工厂,是大批量制造 40nm 至 14nm 节点的先进逻辑器件的技术。lsa 101 的扫描技术基于 veeco 的可定制 un..
    所在地:美洲    
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  • 激光尖峰退火设备
    激光尖峰退火设备
    型号:LSA 101   参考价:¥咨询
    veeco 的 lsa101 系统安装在全球先的 idm 和晶圆代工厂,是大批量制造 40nm 至 140nm 节点的先进逻辑器件的选技术。lsa 101 的扫描技术基于 veeco 的可..
    所在地:美洲    
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  • 环境控制激光尖峰退火设备
    环境控制激光尖峰退火设备
    型号:LSA 201   参考价:¥咨询
    veeco 的 lsa201 激光尖峰退火 (lsa) 系统具有与 lsa101 相同的架构,但包括获得利的微室设计,可在扫描激光系统中实现全晶圆环境控制。该微室的独特之处在于它不需要使用..
    所在地:美洲    
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  • 碳化硅高温氧化炉
    碳化硅高温氧化炉
    型号:VERIC A6151A   参考价:¥咨询
    veric a6151a 碳化硅高温退火炉,适用于碳化硅高温激活 & 退火的设备。
    所在地:中国大陆    
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  • 8英寸立式炉
    8英寸立式炉
    型号:FLOURIS 201系列   参考价:¥咨询
    flouris 201系列 8英寸立式炉,高精度温度场控制技术,可实现 1200℃ 内氧化退火工艺。
    所在地:中国大陆    
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  • 12英寸立式低温退火炉
    12英寸立式低温退火炉
    型号:THEORIS A302L   参考价:¥咨询
    theoris a302l 12英寸立式低温退火炉,先进的压力控制系统。
    所在地:中国大陆    
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  • 12英寸单片快速热退火系统
    12英寸单片快速热退火系统
    型号:Sitara TA230A   参考价:¥咨询
    sitara ta230a 12英寸单片快速热退火系统,适用于 260-1200℃快速热处理工艺。
    所在地:中国大陆    
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  • 碳化硅快速热退火系统
    碳化硅快速热退火系统
    型号:Pallas A220   参考价:¥咨询
    pallas a220 碳化硅快速热退火系统,加热分区设计,具备良好的温度均匀性。
    所在地:中国大陆    
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  • 感应式碳化硅长晶炉
    感应式碳化硅长晶炉
    型号:APS系列   参考价:¥咨询
    aps系列 感应式碳化硅长晶炉,适用于 6 英寸、8 英寸,导电 / 高纯半绝缘型 sic 晶体生长。
    所在地:中国大陆    
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  • 电阻式碳化硅长晶炉
    电阻式碳化硅长晶炉
    型号:AGF系列   参考价:¥咨询
    agf系列 电阻式碳化硅长晶炉,适用于 6、8 英寸,导电 / 高纯半绝缘型 sic 晶体生长。
    所在地:中国大陆    
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