碳化硅高温氧化炉 http://www.app17.com/c166351/products/d13554632.html 1. 产品概述veric a6151a 碳化硅高温退火炉,适用于碳化硅高温激活 & 退火的设备。2. 设备用途/原理veric a6151a 碳化硅高温退火炉，适用于碳化硅高温激活 & 退火的设备，高温度 2000℃，升温速率可达 100℃......

电子束光刻设备 http://www.app17.com/c166351/products/d13672727.html /* style definitions */table.msonormaltable{mso-style-name:普通表格;mso-tstyle-rowband-size:0;mso-tstyle-colband-size:0;mso-style-noshow:yes;ms......

ae物理气相沉积平台 http://www.app17.com/c166351/products/d13676598.html 1 产品概述:   物理气相沉积（pvd）平台是一种在真空环境中，通过物理方法将固体或液体材料源表面气化成气态原子、分子或离子，并沉积在基体表面形成具有特定功能的薄膜的设备。pvd平台通常包括真空系统、加热系统、气体控制系统、沉积室、基体支撑及驱动系统......

等离子增强化学气相沉积pecvd http://www.app17.com/c166351/products/d13686076.html 1. 产品概述设计pecvd工艺模式的目的是要在控制薄膜性能，如折射率、应力、电学特性和湿法化学刻蚀速率的提下，生产均匀性好且沉积速率高的薄膜。plasmapro 100 pecvd 由于电温度均匀性和电中的喷淋头设计，可提供出色的保形沉积和低颗粒生......

电感耦合等离子体刻蚀 http://www.app17.com/c166351/products/d13686198.html 1. 产品概述plasmapro 100 cobra icp rie系统利用高密度电感耦合等离子体实现快速刻蚀速率。该工艺模块可提供出色的均匀性、高吞吐量、高精度和低损伤工艺，适用于大尺寸为200毫米的晶圆，支持包括gaas和inp激光光电子、sic和gan电力......

波形/函数发生器 http://www.app17.com/c166351/products/d13694152.html 1.产品概述：trueform 系列波形 / 函数信号发生器采用了独特的 trueform 信号生成技术，可提供比传统 dds（直接数字合成）发生器更出色的功能、保真度和灵活性，能轻松生成各种满足器件测试需求的纯净、稳定、可靠且低失真的信号。 2.设备应用：电子电路......

射频和通用频率计数器/计时器 http://www.app17.com/c166351/products/d13694475.html 1.产品概述：keysight 53200 系列包括 53210a、53220a 和 53230a 等型号，是新一代 350mhz 射频 / 通用频率计数器 / 计时器，可选 6ghz 或 15ghz 输入。该系列具备强大的分辨功能，在一选通的基础上，单次频率分辨......

12英寸立式中高温氧化炉 http://www.app17.com/c166351/products/d13735705.html 1. 产品概述：theoris x302p/h主要用于12英寸600℃-1200℃氧化及退火工艺。该机台为立式单腔炉管系统，工艺处理过程实现了高度自动化。系统主要由传输模块、工艺模块、电源柜等部分组成。2. 设备应用：晶圆尺寸12英寸 适......

深硅刻蚀设备适用范围有哪些？http://www.app17.com/c166351/products/d13689275.html 1. 产品概述：rie-802bct是采用电感耦合等离子体作为放电形式的两个反应室的量产用硅深孔系统。标准配置有空气盒和晶圆边缘保护环，以及高精度的晶圆对准器。该高性能系统能够进行高长宽比加工（超过100）和低扇形加工，同时保持高蚀刻率和抗蚀剂选择率。&n......

等离子体沉积ald注意事项有哪些？http://www.app17.com/c166351/products/d13688404.html 1. 产品概述：等离子体化学气相沉积（ plasma chemical vapor deposition）简称pcvd，是一种用等离子体激活反应气体,促进在基体表面或近表面空间进行化学反应,生成固态膜的技术。等离子体化学气相沉积技术的基本原......

紫外线臭氧清洗机好处你知多少？http://www.app17.com/c166351/products/d13688415.html 1. 产品概述：uv-1 是一款紧凑型台式紫外线臭氧清洗机。该系统将紫外线照射、臭氧和平台加热独特地结合在一起，能够温和而有效地去除硅、玻璃、化合物半导体（gan、gaas、inp、sic）、蓝宝石、陶瓷等各种基材上的有机物。2. 设备应用：&......

多功能溅射、电子束和热蒸发沉积平台涉及哪些领域的行业应用？http://www.app17.com/c166351/products/d13689210.html  kurt j. lesker company pro line pvd 200 是一种模块化、功能齐全的薄膜沉积系统，可实现 8 英寸晶圆转移、多达 8 个溅射阴和 eklipse 高控制软件。pvd 系列在全球拥有 500......

等离子体刻蚀设备的应用详解http://www.app17.com/c166351/products/d13689117.html  概要rie-400ip是用于ø4  "晶圆的负载锁定型蚀刻系统，可对各种半导体和绝缘膜进行高精度、高均匀性加工。采用龙卷风线圈的电感耦合等离子体(inductively  coupled plasma)作......

物理气相沉积pvd适用范围有哪些？http://www.app17.com/c166351/products/d13687823.html  灵活的沉积平台服务于广泛的应用veeco 的单靶点 nexus pvdi 物理气相沉积系统为各种薄膜沉积应用提供了大的灵活性。nexus pvd 的加工精度为 200 毫米，具有先进的工艺能力、无与伦比的均匀性和多种沉积模式。无与伦比的可靠性和均匀......

电容耦合等离子体刻蚀（ccp）设备好处你知多少？http://www.app17.com/c166351/products/d13687609.html 电容耦合等离子体刻蚀（ccp）设备                              &......

光谱椭偏仪涉及哪些领域的行业应用？http://www.app17.com/c166351/products/d13687611.html  unecs系列是可以高速、高精度测量薄膜膜厚和折射率的分光椭偏仪。采用的测量方式，实现了高速测量和机体的小型化。我们的产品阵容包括便携式，自动式和对应真空环境的设备内置式类型。特点高速測定：    快照方法可实现高达20 ms的......

8英寸等离子体增强化学气相沉积设备功能特点你知道吗？http://www.app17.com/c166351/products/d13687622.html  8英寸等离子体增强化学气相沉积（pecvd）设备系统特性可提供基于硅烷（sih4）体系的薄膜沉积方案，还可选正硅酸乙酯（teos）体系的沉积方案可提供双频设备，使氮化硅（sinx）的应力可调，范围从压应力-1.6gpa到张应力+0......

气相分解金属沾污收集（vpd）设备-功能特点有哪些？http://www.app17.com/c166351/products/d13687668.html  seehund® a型气相分解金属沾污收集设备（vpd）是为集成电路制造、大晶圆生产及再生、先导工艺研发等行业提供金属沾污控制方案的产品。由于目的晶圆制造产业对金属沾污控制的要求已经远远低于txrf和icp-ms能......

真空泵实验步骤有哪些？http://www.app17.com/c166351/products/d13687672.html  vs系列是旋片式（单）的油旋转真空泵。可搭配罗茨泵获得更大的排气量。内置油雾过滤器和回油装置，排气性能长期稳定。此外，设计上还考虑到了油和滤芯更换等维保的便宜性。特点水冷和强制给油    在高负荷运转下也能满足缸体的供油，排气性能比压差给油......

四探针电阻率测试仪注意事项有哪些？http://www.app17.com/c166351/products/d12332774.html产品介绍1. 应用：半导体材料、太阳能电池材料(硅、多晶硅、碳化硅等)，新材料、功能材料(碳纳米管、dlc、石墨烯、ag纳米线等)、导电薄膜(金属、离子等)，扩散层，硅相关外延材料，离子注入样品2. 样品尺寸：基于所选择的平台而定，圆形样品大支持300mm(12......