清洗设备(第1页)_深圳市矢量科学仪器有限公司

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分类清洗设备

产品分类

CMP后清洗机
型号：customized 参考价：￥咨询

该系列设备是晶圆cmp后的用清洗设备，有单工位、转位式、连线式等不同结构，以适用不同应用场景，其中连线式设备加配全自动上下片系统。该系列设备配有漂洗、双面刷洗、兆声清洗、n2吹干、高速甩干..

所在地：其它
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全自动SCRUBBER清洗机
型号：customized 参考价：￥咨询

清洗机可以用于对晶圆表面，背面及晶圆边缘的清洗，通过创新研发的二流体喷嘴技术可将附着在晶圆表面的细微颗粒污染物去除，实现高效去除。通过大量仿真与工艺试验相结合，优化出佳的清洗工艺参数，确保..

所在地：中国大陆
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CMP后清洗机
型号：GNP CLEANER-812L 参考价：￥咨询

gnp cleaner-812l型cmp后清洗机集成了两个双刷站，设计紧凑，占地面积小，可清洗(8“~12")晶圆。

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CMP后清洗机
型号：GNP CLEANER-428L 参考价：￥咨询

gnp cleaner-428l型cmp后清洗机集成了两个双刷站，设计紧凑，占地面积小，可清洗(4“~8“)晶圆。

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CMP后清洗机
型号：GNP CLEANER-412R 参考价：￥咨询

gnp cleaner-412r型cmp后清洗机集成了两个双刷站，设计紧凑，占地面积小，可清洗(4“~12“)晶圆。

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CMP后清洗机
型号：GNP CLEANER-412S 参考价：￥咨询

gnp cleaner-412s型cmp后清洗机集成了两个双刷站，设计紧凑，占地面积小，可清洗(4“~12“)晶圆。

所在地：其它
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紫外线臭氧清洗机
型号：UV-300H 参考价：￥咨询

uv-300h是一款高性能的紧凑型紫外线臭氧清洗机。通过滑动抽屉将基材装入系统中。紫外线照射、高浓度臭氧和阶段性加热的组合，可温和而有效地去除硅、玻璃、化合物半导体（gan、sic、gaa..

所在地：日本
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紫外线臭氧清洗机
型号：UV-1 参考价：￥咨询

uv-1是一款紧凑型台式紫外线臭氧清洗机。该系统将紫外线照射、臭氧和平台加热结合在一起，温和而有效地去除硅、玻璃、化合物半导体（gan、gaas、inp、sic）、蓝宝石、陶瓷等各种基材上..

所在地：日本
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等离子清洗设备
型号：PC-300 参考价：￥咨询

pc-300是一种平行板式等离子清洗机，用于清洗样品表面的有机和无机污染。该工艺室允许用户安装多个电架，架式电配置的灵活性支持从研究到小批量生产的各种产品的批量处理。

所在地：日本
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硅片腐蚀清洗机
型号：customized 参考价：￥咨询

适用对象：蓝宝石晶片、砷化镓晶片、碳化硅晶片、其它衬底基片

所在地：中国大陆
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硅芯清洗机
型号：customized 参考价：￥咨询

设备介绍:本设备为柜体式腐蚀机,整台设备均采用进口件.基本材质:箱体材质:德国兹白色聚丙烯(pp) 门板材质:德国透明聚氯乙烯(pvc)腐蚀槽材质:德国自然色聚偏二佛乙烯(pvdf)清洗槽..

所在地：中国大陆
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晶片清洗机
型号：customized 参考价：￥咨询

本设备的设计、选购、制造、检验和测试均按照相关国家、半导体行业标准（semi-s2-93）执行，iso9001质量管理体系进行规范和保证，但合同中或技术文件中另有规定的除外。外购配件执行相..

所在地：中国大陆
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全自动硅料清洗机
型号：customized 参考价：￥咨询

主要用于对硅材料行业中多晶硅块进行清洗干燥处理

所在地：中国大陆
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晶片清洗机
型号：TWB-200 参考价：￥咨询

本机是一款全自动晶片刷洗机，全程封闭环境采用机械手自动操作，具备刷洗甩干功能，适用于各种半导体衬底材料抛光后的刷洗，可有效减少晶片表面颗粒污染。

所在地：中国大陆
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CMP后清洗机
型号：TSC-150C/200C 参考价：￥咨询

该系列设备是碳化硅晶圆抛光后的用清洗设备，采用连线式结构，设备加配全自动上下片系统。该系列设备配有漂洗、双面刷洗、兆声清洗、n2吹干、高速甩干功能，集成度高，占地面积小，湿进干出，适用于碳..

所在地：中国大陆
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CMP后清洗机
型号：TSC-100/300S/200L 参考价：￥咨询

该系列设备是晶圆cmp后的用清洗设备，有单工位、转位式、连线式等不同结构，以适用不同应用场景，其中连线式设备加配全自动上下片系统。该系列设备配有漂洗、双面刷洗、兆声清洗、n2吹干、高速甩干..

所在地：中国大陆
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大气式等离子清洁系统
型号：PlasmaPen™ 参考价：￥咨询

plasmapen™ 是pva tepla的大气式等离子清洁系统，可满足各种表面处理要求，如表面清洁及表面活化。

所在地：美洲
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条形等离子清洁系统
型号：80 Plus 参考价：￥咨询

80 plus 条形等离子清洁系统为半导体加工而开发，可支持手动及自动操作，两种操作方式均简单易用。该系统可以配备或不配备装卸站；此外，每个装卸站都可支持不同的配置。即便没有装卸站，也可将..

所在地：美洲
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清洗设备
型号：ASx系列参考价：￥咨询

suss microtecs asx 系列为加工掩模和 250 nm 至 90 nm 技术节点提供了先进的烘烤、显影和清洁方法。其可靠性、稳定性和高性能使平台能够满足无损加工掩模的要求，用..

所在地：欧洲
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掩膜版清洗系统
型号：MaskTrack Pro 参考价：￥咨询

掩模的完整性对高标准光刻工艺的成功起主要作用。masktrack pro 掩膜清洗处理系统满足下一代光刻节点在掩模清洗、烘烤和显影工艺方面的所有标准。它是应对 193i 1x half-p..

所在地：欧洲
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