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深圳市矢量科学仪器有限公司

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  • G线光刻机
    G线光刻机
    型号:Nikon NSR   参考价:¥咨询
    nikon nsr g线光刻机nikon nsr g线步进式光刻机光源波长436nm分辨率优于0.65µm主要用于2寸、4寸、6寸生产线广泛应用于化合物半导体、mems、led等..
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  • 步进式光刻机
    步进式光刻机
    型号:Nikon NSR 1755/1505i7A/B   参考价:¥咨询
    nikon nsr 1755/1505i7a/bnikon nsr 1755/1505i7a/b步进式光刻机光源波长365nm分辨率优于0.6µm主要用于2寸、4寸、6寸生产线广..
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  • 步进式光刻机
    步进式光刻机
    型号:Nikon NSR 2005i8A   参考价:¥咨询
    nikon nsr 2005i8anikon nsr 2005i8a步进式光刻机光源波长365nm分辨率优于0.5µm主要用于2寸、4寸、6寸、8寸生产线广泛应用于化合物半导体、..
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  • 步进式光刻机
    步进式光刻机
    型号:Nikon NSR 2005i9C   参考价:¥咨询
    nikon nsr 2005i9cnikon nsr 2005i9c步进式光刻机光源波长365nm分辨率优于0.45µm用于2寸、4寸、6寸、8寸生产线广泛应用于化合物半导体、m..
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  • 步进式光刻机
    步进式光刻机
    型号:Nikon NSR 2005i10C   参考价:¥咨询
    nikon nsr 2005i10cnikon nsr 2005i10c步进式光刻机光源波长365nm分辨率优于0.45µm主要用于2寸、4寸、6寸及8寸生产线广泛应用于化合物半..
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  • 步进式光刻机
    步进式光刻机
    型号:Nikon NSR 2205i11D   参考价:¥咨询
    nikon nsr 2205i11dnikon nsr 2205i11d步进式光刻机光源波长365nm分辨率优于0.4µm主要用于2寸、4寸、6寸及8寸生产线广泛应用于化合物半导..
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  • Nikon NSR 2205i12D步进式光刻机
    Nikon NSR 2205i12D步进式光刻机
    型号:Nikon NSR 2205i12D步进式光刻机   参考价:¥咨询
    nikon nsr 2205i12dnikon nsr 2205i12d步进式光刻机光源波长365nm分辨率优于0.4µm主要用于2寸、4寸、6寸及8寸生产线广泛应用于化合物半导..
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  • 步进式光刻机
    步进式光刻机
    型号:Nikon NSR 2205i14E   参考价:¥咨询
    nikon nsr 2205i14enikon nsr 2205i14e步进式光刻机光源波长365nm分辨率优于0.35µm主要用于2寸、4寸、6寸及8寸生产线,广泛应用于化合物..
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  • 步进式光刻机
    步进式光刻机
    型号:Nikon SF120/130   参考价:¥咨询
    nikon sf120/130nikon sf120/130步进式光刻机光源波长365nm分辨率优于0.28µm主要用于6寸、8寸及12寸生产线广泛应用于化合物半导体、mems、..
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  • 步进式光刻机
    步进式光刻机
    型号:Nikon EX12B   参考价:¥咨询
    nikon ex12bnikon ex12b步进式光刻机光源波长248nm分辨率优于0.3µm主要用于2寸、4寸、6寸及8寸生产线广泛应用于化合物半导体、mems、led等域
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  • 步进式光刻机
    步进式光刻机
    型号:Nikon EX14C   参考价:¥咨询
    nikon ex14cnikon ex14c步进式光刻机光源波长248nm分辨率优于0.25µm主要用于2寸、4寸、6寸及8寸生产线广泛应用于化合物半导体、mems、led等域
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  • 扫描式光刻机
    扫描式光刻机
    型号:Nikon S203B   参考价:¥咨询
    nikon s203bnikon s203b扫描式光刻机光源波长248nm分辨率优于0.2µm主要用于4寸、6寸及8寸生产线广泛应用于化合物半导体、mems、led等域
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  • 扫描式光刻机
    扫描式光刻机
    型号:Nikon S204B   参考价:¥咨询
    nikon s204bnikon s204b扫描式光刻机光源波长248nm分辨率优于0.18µm主要用于4寸、6寸及8寸生产线广泛应用于化合物半导体、mems、led等域
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  • 扫描式光刻机
    扫描式光刻机
    型号:Nikon S205C   参考价:¥咨询
    nikon s205cnikon s205c扫描式光刻机光源波长248nm分辨率优于0.15µm主要用于8寸及12寸生产线广泛应用于化合物半导体、mems、led等域
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  • 扫描式光刻机
    扫描式光刻机
    型号:Nikon S206D   参考价:¥咨询
    nikon s206dnikon s206d扫描式光刻机光源波长248nm分辨率优于0.12µm主要用于8寸及12寸生产线广泛应用于化合物半导体、mems、led等域
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  • 扫描式光刻机
    扫描式光刻机
    型号:Nikon S207D   参考价:¥咨询
    nikon s207dnikon s207d扫描式光刻机光源波长248nm分辨率优于0.11µm主要用于8寸及12寸生产线广泛应用于化合物半导体、mems、led等域
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  • 扫描式光刻机
    扫描式光刻机
    型号:Nikon S208D   参考价:¥咨询
    nikon s208dnikon s208d扫描式光刻机光源波长248nm分辨率优于0.11µm主要用于8寸及12寸生产线广泛应用于化合物半导体、mems、led等域
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  • 扫描式光刻机
    扫描式光刻机
    型号:Nikon S308F   参考价:¥咨询
    nikon s308fnikon s308f扫描式光刻机光源波长193nm分辨率优于0.07µm主要用于4寸、6寸、8寸及12寸生产线广泛应用于化合物半导体、mems、led等域
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  • 步进式光刻机
    步进式光刻机
    型号:Canon FPA3000 EX4   参考价:¥咨询
    canon fpa3000 ex4canon fpa3000 ex4步进式光刻机光源波长248nm分辨率优于0.25µm主要用于主要用于4寸、6寸、8寸生产线广泛应用于化合物半导..
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  • 扫描式光刻机
    扫描式光刻机
    型号:Canon FPA5000 ES3   参考价:¥咨询
    canon fpa5000 es3扫描式光刻机,主要用于6寸、8寸及12寸生产线,广泛应用于化合物半导体、mems、led等域。
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