产品耗材展示-深圳市矢量科学仪器有限公司

全部配件耗材新品推荐促销产品

CT系统
型号： FF系列参考价：￥咨询

comet yxlon开发了ctscan 3线探测器阵列（lda），以满足客户的特殊要求和具有挑战性的应用。凭借其所未有的信噪比、动态范围和 254 μm 的像素间距，它是对大型和/或密集..

所在地：欧洲发布时间：2024/8/14
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高研磨机
型号： Optium ASL-200 参考价：￥咨询

使用 veeco 的 optium® asl 200™ 研磨系统实现更高水平的控制和 tfmh 工艺产量。这种高精度硬盘头研磨系统可大程度地控制关键薄膜尺寸，并且设计..

所在地：美洲发布时间：2024/8/14
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划片机
型号： Optium ADS-800 参考价：￥咨询

veeco 在多元化切割应用方面拥有 30 多年的经验，提供广泛的工艺和工具设计解决方案，可以提高产量并带来更高的产量和质量。

所在地：美洲发布时间：2024/8/14
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物理气相沉积PVD
型号： NEXUS 参考价：￥咨询

veeco 的单靶点 nexus pvdi 物理气相沉积系统为各种薄膜沉积应用提供了大的灵活性。nexus pvd 的加工精度为 200 毫米，具有先进的工艺能力、无与伦比的均匀性和多种沉..

所在地：美洲发布时间：2024/8/14
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CMP
型号： GNP POLI-PCB系列参考价：￥咨询

g&p旗下的gnp poli-pcb系列cmp主要运用于研发，操作简单，成本低。

所在地：其它发布时间：2024/8/14
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等离子增强原子层沉积PEALD
型号： Fiji 参考价：￥咨询

我们的 fiji® 系列是一种模块化、高真空热原子层沉积系统，采用灵活的架构和多种驱体和等离子体气体配置，可适应各种沉积模式。fiji g2 是下一代 ald 系统，能够执行热成..

所在地：美洲发布时间：2024/8/14
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真空泵
型号： VS系列参考价：￥咨询

vs系列是旋片式（单）的油旋转真空泵。可搭配罗茨泵获得更大的排气量。内置油雾过滤器和回油装置，排气性能长期稳定。此外，设计上还考虑到了油和滤芯更换等维保的便宜性。

所在地：日本发布时间：2024/8/14
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气相分解金属沾污收集（VPD）设备
型号： Seehund® A 系列参考价：￥咨询

seehund® a型气相分解金属沾污收集设备（vpd）是为集成电路制造、大晶圆生产及再生、先导工艺研发等行业提供金属沾污控制方案的产品。由于目的晶圆制造产业对金属沾污控制的要求..

所在地：中国大陆发布时间：2024/8/14
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真空计
型号： SW系列参考价：￥咨询

皮拉尼真空计，可以测量从大气压到5×10-2pa的广泛的压力范围该真空计从传统的控制器（传感器单元）中除去操作·显示部，大限度凝缩精简功能，使「降成本」和「省空间」成为可能。

所在地：日本发布时间：2024/8/14
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8英寸等离子体增强化学气相沉积设备
型号： Shale® A 系列参考价：￥咨询

shale® a系列等离子体增强化学气相沉积设备（pecvd），通过平行电容板电场放电产生等离子体，可以在400℃及以下沉积比较致密、均匀性较好的氧化硅、teos、bpsg、氮化..

所在地：中国大陆发布时间：2024/8/14
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8英寸电感耦合等离子体化学气相沉积设备
型号： Shale® C 系列参考价：￥咨询

shale® c系列电感耦合等离子体化学气相沉积设备（icp-cvd），通过电感耦合（icp）产生高密度等离子体，并通过电容耦合（ccp）产生偏压，可实现低温、高致密、低损伤、优..

所在地：中国大陆发布时间：2024/8/14
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光谱椭偏仪
型号： UNECS系列参考价：￥咨询

unecs系列是可以高速、高精度测量薄膜膜厚和折射率的分光椭偏仪。采用的测量方式，实现了高速测量和机体的小型化。我们的产品阵容包括便携式，自动式和对应真空环境的设备内置式类型。

所在地：日本发布时间：2024/8/14
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电容耦合等离子体刻蚀（CCP）设备
型号： Haasrode® Avior® A 参考价：￥咨询

ccp腔室适用于制造微纳结构的等离子刻蚀技术。在反应离子刻蚀过程中，等离子体中会包含大量的活性粒子，与表面原子产生化学反应，生成可挥发产物后，随真空抽气系统排出。鲁汶仪器的 haasrod..

所在地：中国大陆发布时间：2024/8/14
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8英寸电感耦合等离子体-深硅刻蚀设备
型号： Pishow® D 系列参考价：￥咨询

pishow® d 系列深刻蚀设备，是针对8英寸~6英寸产线或科研深硅刻蚀工艺的用设备，拥有自主开发的优化设计，保证了优异的刻蚀精度控制和损伤控制。提供si bosch工艺的解决..

所在地：中国大陆发布时间：2024/8/14
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8英寸电感耦合等离子体刻蚀（ICP）设备
型号： Pishow® A 系列参考价：￥咨询

详细介绍icp是一种加工微纳结构的等离子刻蚀技术。具有刻蚀快、选择比高、各项异性高、刻蚀损伤小、均匀性好、断面轮廓可控性高、刻蚀表面平整度高等优点。目被广泛应用于si、sio2、sinx、..

所在地：中国大陆发布时间：2024/8/14
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8英寸金属刻蚀设备
型号： Kessel® Pishow® M 参考价：￥咨询

kessel™ pishow® m 金属刻蚀设备为可用于8英寸的ic产线铝金属工艺的量产型机台，基于自有开发的优化设计，保证了优异的刻蚀均匀性（片内<8%，片间<5%..

所在地：中国大陆发布时间：2024/8/14
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8英寸硅刻蚀设备
型号： Tebaank® Pishow® P 参考价：￥咨询

tebaank® pishow® p 硅刻蚀设备是面向8英寸集成电路制造的量产型设备设备由电感耦合等离子体刻蚀腔（icp etch chamber）以及传输模块（tra..

所在地：中国大陆发布时间：2024/8/14
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12英寸金属刻蚀设备
型号： Herent® Chimera® M 参考价：￥咨询

herent® chimera® m 金属刻蚀设备，为针对12英寸ic产业0.18微米以下后道高密度铝导线互连工艺所开发的用产品，同时也可应用于铝垫（al pad）刻..

所在地：中国大陆发布时间：2024/8/14
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12英寸硬掩膜刻蚀设备
型号： Herent® Chimera® A 参考价：￥咨询

herent® chimera® a 金属硬掩膜刻蚀设备，为针对 12 英寸 ic 产业的后道铜互连中氮化钛（tin）金属硬掩膜刻蚀（metal hardmask op..

所在地：中国大陆发布时间：2024/8/14
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8英寸离子束沉积（IBD）设备
型号： Ganister™ A 系列参考价：￥咨询

ganister™ a离子束沉积设备，是针对低温、高致密、高均匀性薄膜沉积工艺所开发的用产品，在硬盘磁头、硬磁偏置层、布拉格反射镜等器件的制备中有着重要的应用。该设备采用溅射成..

所在地：中国大陆发布时间：2024/8/14
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