产品耗材展示-深圳市矢量科学仪器有限公司

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等离子刻蚀集群系统
型号： SENTECH 集群系统参考价：￥咨询

sentech 集群系统包括等离子体蚀刻和/或沉积模块、一个转移室和一个真空负载锁或盒式站。包括搬运机器人在内的转移室有三到六个端口。多可以使用两个盒式磁带站来提高吞吐量。

所在地：欧洲发布时间：2024/8/14
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薄膜计量光谱反射仪
型号： RM 1000/RM 2000 参考价：￥咨询

rm 1000 和 rm 2000 光谱反射仪可测量表面光滑或粗糙的平面或弯曲样品的反射率。使用sentech ftpadv expert软件计算单膜或层叠的厚度、消光系数和折射率。厚度分..

所在地：欧洲发布时间：2024/8/14
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高精密微3D光刻机
型号：织雀™PL-3D Premium 参考价：￥咨询

织雀™pl-3d premium 是托托科技自主研发的高精密微3d光刻设备，高光学分辨率可达1μm，支持大50 mm×50 mm×50 mm的加工尺寸，设备还支持对准套刻功能..

所在地：中国大陆发布时间：2024/8/14
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CMP后清洗机
型号： GNP CLEANER-812L 参考价：￥咨询

gnp cleaner-812l型cmp后清洗机集成了两个双刷站，设计紧凑，占地面积小，可清洗(8“~12")晶圆。

所在地：其它发布时间：2024/8/14
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薄膜计量膜厚探头
型号： FTPadv 参考价：￥咨询

ftpadv是一种经济高效的台式光谱反射解决方案，具有快速厚度测量功能。测量时间不到 100 ms，精度低于 0.3 nm，膜厚范围为 50 nm – 25 μm。包括一系列预定义的配方，..

所在地：欧洲发布时间：2024/8/14
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薄膜计量光谱反射仪软件
型号： FTPadv Expert 参考价：￥咨询

ftpadv expert薄膜测量软件具有ftpadv标准软件中包含的用户友好和以配方为导向的操作概念。突出显示拟合参数、测量和计算的反射光谱以及主要结果的光学模型同时显示在操作屏幕上。

所在地：欧洲发布时间：2024/8/14
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薄膜计量激光椭圆仪
型号： SENTECH SE 500adv 参考价：￥咨询

sentech se 500adv结合了椭圆偏振法和反射法，消除了测量透明薄膜层厚的模糊性。它将可测量的厚度扩展到 25 μm。因此，se 500adv 扩展了标准激光椭偏仪 se 400..

所在地：欧洲发布时间：2024/8/14
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CMP
型号： GNP POLI系列参考价：￥咨询

gnp poli-762是高通用性12英寸(300mm) cmp工艺而开发，也为先进晶圆制造商和耗材供应商设计的。gnp poli-500广泛用于耗材供应商，衬底制造商和芯片开发商的8“(..

所在地：其它发布时间：2024/8/14
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薄膜计量椭圆光谱仪
型号： SENresearch 4.0 参考价：￥咨询

sentech senresearch 4.0 使用快速 ftir 椭圆偏振法分别测量高达 2,500 nm 或 3,500 nm 的近红外光谱。它提供宽的光谱范围、佳的信噪比和高的可选光..

所在地：欧洲发布时间：2024/8/14
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3D显微镜
型号： Miracle Vision系列参考价：￥咨询

神影 miracle vision系列提供了非接触的表面形貌测量，具有可重复性，可广泛应用于半导体芯片、光学透镜、金属表面、汽车涂层、mems器件等广泛精密加工行业的形貌、粗造度长度、曲率..

所在地：中国大陆发布时间：2024/8/14
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薄膜计量椭圆光谱仪
型号： SENTECH SENpro 参考价：￥咨询

sentech senpro 椭圆偏振光谱仪具有操作简单、测量速度快、不同入射角椭偏振测量的组合数据分析等特点。它的测量光谱范围为 370 nm 至 1,050 nm。该工具的光谱范围与先..

所在地：欧洲发布时间：2024/8/14
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分子束外延MBE
型号： GEN2000 参考价：￥咨询

gen2000® mbe 系统提供卓越的吞吐量、更长的活动周期、更小的占地面积和集群工具晶圆处理。它是 hbt 和 phemt 等无线通信设备大批量生产以及需要以低拥有成本生产 ..

所在地：美洲发布时间：2024/8/14
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薄膜计量红外光谱椭圆仪
型号： SENTECH SENDIRA 参考价：￥咨询

sentech sendira 为红外（ftir）而设计。这款紧凑的台式仪器包括吹扫椭偏仪光学元件、计算机控制的测角仪、水平样品平台、自动准直望远镜、商用 ftir 和 dtgs 或 ..

所在地：欧洲发布时间：2024/8/14
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薄膜计量光谱仪软件
型号： SpectraRay/4 参考价：￥咨询

spectraray/4 是 sentech 有的光谱椭圆偏振仪软件，包括椭圆、反射和透射数据的数据采集、建模、拟合和扩展报告。它支持可变角度、多实验和组合光度测量。包括一个基于 sen..

所在地：欧洲发布时间：2024/8/14
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分子束外延MBE
型号： GEN200 参考价：￥咨询

veeco 的 gen200® mbe 系统是当市场上具成本效益和高容量的多 4 英寸生产 mbe 系统。该系统在用于泵浦激光器、vcsel 和 hbt 等设备的生长中提供卓越的..

所在地：美洲发布时间：2024/8/14
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无掩模光刻机
型号： VPG 300 DI 参考价：￥咨询

无掩模光刻机vpg 300 di是一款体积图案发生器，为在 i 线光刻胶中直接写入高分辨率微结构而设计。它源自掩模制作工具，具有所有先进的 vpg 系统组件，能够以高的精度和准确度进行书写..

所在地：欧洲发布时间：2024/8/14
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分子束外延MBE
型号： GEN20 参考价：￥咨询

veeco 的 gen20™ mbe 系统是一种超灵活的工具，其设计可针对 iii-v 族和新兴材料进行配置，包括需要集成电子束技术的应用。该系统采用生产设计技术，允许可选的集..

所在地：美洲发布时间：2024/8/14
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全自动薄膜质量控制
型号： SENTECH SENDURO®MEMS 参考价：￥咨询

sentech senduro®mems 提供配置灵活性，以满足生产控制和质量控制的要求。该工具可以配置反射法和椭圆偏振法中的μ点测量，以及提供准确测量位置的模式识别。所有测量都..

所在地：欧洲发布时间：2024/8/14
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分子束外延MBE
型号： GENxcel R&D 参考价：￥咨询

屡获殊荣的新型 genxcel™ 系统是在 genxplor 的基础上进行的扩展，genxplor™ 是自 2013 年 8 月推出以来畅销的 mbe 系统，与 g..

所在地：美洲发布时间：2024/8/14
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自动光谱反射仪
型号： SENTECH RM 1000 QC 参考价：￥咨询

sentech rm 1000 qc反射仪设计用于快速简单地测量透明或吸收基材上的透明和半透明薄膜的厚度，用于工业生产过程中的质量控制。该工具涵盖 20 nm 至 50 μm 的膜厚范围，..

所在地：欧洲发布时间：2024/8/14
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