深圳市矢量科学仪器有限公司
第5年
当前位置：阿仪网 > 半导体行业专用仪器设备 > 干法工艺设备 > 等离子体刻蚀设备 > 深圳市矢量科学仪器有限公司 > 产品展示 > 半导体道工艺设备 > 刻蚀设备 > 12英寸金属刻蚀设备Herent® Chimera® M
产品完善度：
更新时间：2026/9/8 1:56:36关注度：608
关键词标签：金属刻蚀,刻蚀机,半导体,鲁汶
支付方式：
1. 系统特性
Herent® Chimera® M 金属刻蚀设备是面向12英寸集成电路制造的量产型设备
设备由电感耦合等离子体刻蚀腔（ICP etch chamber）、去胶腔（strip chamber）、传输模块（transfer module）构成
适用于0.18微米及其他技术代逻辑应用中的高密度铝导线工艺，以及铝垫刻蚀
2. 详细介绍
Herent® Chimera® M 金属刻蚀设备，为针对12英寸IC产业0.18微米以下后道高密度铝导线互连工艺所开发的用产品， 同时也可应用于铝垫（Al pad）刻蚀。该设备承袭了 Chimera® A 的先进设计理念，具有出色的均匀性调控手段， 可以为客户提供高性价比的解决方案
推荐产品
冷热台，快速退火炉，光刻机，纳米压印、磁控溅射，电子束蒸发，热蒸发，脉冲激光沉积，化学气相沉积
在线咨询5分钟应答
