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更新时间:2026/9/8 1:56:36关注度:772
关键词标签:等离子体刻蚀,深硅刻蚀,刻蚀机,鲁汶
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8英寸电感耦合等离子体-深硅刻蚀(ICP-DSE)设备
1. 详细介绍
Pishow® D 系列深刻蚀设备,是针对8英寸~6英寸产线或科研深硅刻蚀工艺的用设备,拥有自主开发的优化设计,保证了优异的刻蚀精度控制和损伤控制。
提供Si Bosch工艺的解决方案。
该设备高性价比的解决方案和优秀的空间利用率,可帮助不同客户实现产能升。
2. 系统特性
Pishow® D 系列是采用深硅刻蚀技术的电感耦合等离子体(ICP)刻蚀设备
提供Bosch解决方案,实现对Si的高深宽比刻蚀
优化的气柜设计,缩短进气距离,短工艺切换时间小于1.0
Pishow® D 系列可选择8~4英寸晶圆,提供单腔式和多腔式等多种腔室搭配方。
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