1. 产品概述

Ganister™ A离子束沉积设备，是针对低温、高致密、高均匀性薄膜沉积工艺所开发的用产品，在硬盘磁头、硬磁偏置层、布拉格反射镜等器件的制备中有着重要的应用。该设备采用溅射成膜，靶材选择范围广。而其采用的四槽旋转靶材基座，更可处理多达四种靶材。选配的辅助离子源，可以实现原位预清洗、优化膜层致密性等功能。此外，Ganister™ A的辅助离子源也可进行离子束刻蚀，一个腔室内兼备两种工艺，显著提高了该设备的功能。

2. 系统特性

在低温、超低压工艺模式下，形成高致密优质膜层

双离子源结构（溅射+辅助离子源），辅助源用于清洗与辅助溅射

可高精度控制沉积过程，并能保障批次间的膜层重复性

实时光控设备，用来监控、分析、调整膜层光谱

选配：可在一个腔室内同时实现IBD和离子束刻蚀（IBE）功能

适用于8英寸晶圆