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8英寸通用物理气相沉积系统
型号： eVictor系列参考价：￥咨询

evictor系列 8英寸通用物理气相沉积系统，加热基座设计，具备良好的温度均匀性，高温厚铝工艺连续作业无累温。

所在地：中国大陆发布时间：2024/6/21
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ICP刻蚀机
型号： NMC 508系列参考价：￥咨询

nmc 508系列 icp刻蚀机，等离子体源设计，保证高刻蚀均匀性和高刻蚀速率。

所在地：中国大陆发布时间：2024/6/21
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电阻式碳化硅长晶炉
型号： AGF系列参考价：￥咨询

agf系列电阻式碳化硅长晶炉，适用于 6、8 英寸，导电 / 高纯半绝缘型 sic 晶体生长。

所在地：中国大陆发布时间：2024/6/21
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感应式碳化硅长晶炉
型号： APS系列参考价：￥咨询

aps系列感应式碳化硅长晶炉，适用于 6 英寸、8 英寸，导电 / 高纯半绝缘型 sic 晶体生长。

所在地：中国大陆发布时间：2024/6/21
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碳化硅快速热退火系统
型号： Pallas A220 参考价：￥咨询

pallas a220 碳化硅快速热退火系统，加热分区设计，具备良好的温度均匀性。

所在地：中国大陆发布时间：2024/6/21
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12英寸单片快速热退火系统
型号： Sitara TA230A 参考价：￥咨询

sitara ta230a 12英寸单片快速热退火系统，适用于 260-1200℃快速热处理工艺。

所在地：中国大陆发布时间：2024/6/21
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多片碳化硅外延系统
型号： MARS iCE120 参考价：￥咨询

mars ice120 多片碳化硅外延系统，产能大，6 英寸运营成本低。

所在地：中国大陆发布时间：2024/6/21
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碳化硅外延系统
型号： MARS iCE115 参考价：￥咨询

mars ice115 碳化硅外延系统，薄膜和厚膜外延兼容，工艺稳定性高。

所在地：中国大陆发布时间：2024/6/21
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12英寸单片减压硅外延系统
型号： Hesper I E430R 参考价：￥咨询

hesper i e430r 12英寸单片减压硅外延系统，优异的气流场和加热场设计提供优良的工艺性能。

所在地：中国大陆发布时间：2024/6/21
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12英寸单片常压硅外延系统
型号： Hesper E230A 参考价：￥咨询

hesper e230a 12英寸单片常压硅外延系统，优异的气流场和加热场设计提供优良的工艺性能。

所在地：中国大陆发布时间：2024/6/21
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12英寸减压选择性外延系统
型号： Hesper Ⅱ E630R plus 参考价：￥咨询

hesper ⅱ e630r plus 12英寸减压选择性外延系统，多区红外加热协同激光微区补偿，温场均匀可控。

所在地：中国大陆发布时间：2024/6/21
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8英寸单片常压/减压硅外延系统
型号： Esther/Eris 系列参考价：￥咨询

esther/eris 系列 8英寸单片常压/减压硅外延系统，传输系统和工艺模块设计可兼容多种工艺用途，友好的人机交互和安全性设计保障系统稳定、安全、高效，具有单腔和多腔两种机型，可满足不..

所在地：中国大陆发布时间：2024/6/21
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8英寸多片硅外延系统
型号： SES系列参考价：￥咨询

ses系列 8英寸多片硅外延系统，适用于 5-150 微米范围的硅外延工艺。

所在地：中国大陆发布时间：2024/6/21
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倒片机
型号： WS-PE100/150 参考价：￥咨询

ws-pe100/150 倒片机，晶圆全自动取放，人工替代，良好控制颗。

所在地：中国大陆发布时间：2024/6/21
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倒片机
型号： WS-ALN100/150 参考价：￥咨询

ws-aln100/150 倒片机，晶圆全自动取放，人工替代，良好控制颗粒。

所在地：中国大陆发布时间：2024/6/21
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溅射系统
型号： iTops PVD ITO 参考价：￥咨询

itops pvd ito 溅射系统,加热能力、精确的温度控制、优异的真空能力。

所在地：中国大陆发布时间：2024/6/21
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溅射系统
型号： iTops PVD AlN 参考价：￥咨询

itops pvd aln 溅射系统，采用托盘形式，可兼容 2/4/6 英寸。

所在地：中国大陆发布时间：2024/6/21
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芯片刻蚀机
型号： ELEDE® 380系列参考价：￥咨询

elede® 380系列芯片刻蚀机，先进的等离子体发生装置，适用多种材料刻蚀，工艺窗口宽。

所在地：中国大陆发布时间：2024/6/21
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8英寸槽式清洗设备
型号： WE2102系列参考价：￥咨询

we2102系列 8英寸槽式清洗设备，该平台工艺区为 12 吋先进槽式清洗设备的拓展，具备优异的工艺效果。

所在地：中国大陆发布时间：2024/6/21
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12英寸槽式清洗设备
型号： WE3102系列参考价：￥咨询

we3102系列 12英寸槽式清洗设备，可配备 i-clean 多药液工艺槽，支持 dn unit, dio3 等附属功能。

所在地：中国大陆发布时间：2024/6/21
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