1. 产品概述

WE3102系列 12英寸槽式清洗设备，可配备 i-Clean 多药液工艺槽，支持 DN unit, DIO3 等附属功能。

2. 设备用途/原理

WE3102系列 12英寸槽式清洗设备，可配备 i-Clean 多药液工艺槽，支持 DN unit, DIO3 等附属功能。软件量身定制，具备快速更新能力，较高的温度控制稳定性，超高的补水精度，精准的蚀刻速率控制，优秀的干燥效果。

3. 设备特点

晶圆尺寸 12 英寸，适用材料 光阻、单晶硅、多晶硅、氧化硅、氮化硅、金属膜、金属氧化物。适用工艺 炉清洗、刻蚀 / 抛光后清洗、光阻去除、金属氧化物去除、氮化物去除、控挡片回收。适用域 新兴应用、集成电路。