产品耗材展示-深圳市矢量科学仪器有限公司

全部配件耗材新品推荐促销产品

回流焊炉
型号： RSS-160-S 参考价：￥咨询

rss-160-s 回流焊炉是一种非常紧凑且易于使用的工具，适用于实验室和洁净室作为桌面单元。腔室是真空密封的，并配有观察窗。这允许对焊接过程进行视图控制。该装置标配一个用于工艺气体的质量..

所在地：欧洲发布时间：2024/8/12
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MPI探针台
型号： AVIOR系列参考价：￥咨询

mpi avior 系列为光通信市场提供了广泛的高性能探针系统阵容。我们的探针系统提供顶部发射（tp）、倒装芯片（fp）发射和裸片/封装（dp）配置，以满足您的特定测试要求。无论..

所在地：港澳台发布时间：2024/8/12
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阿莫德物理气相沉积平台
型号： Amod 参考价：￥咨询

angstrom engineering 的 amod pvd 平台是一款物理气相沉积系统该 pvd 平台开始允许更大的腔室投射距离，并能够适应更多的工艺增强功能。您的研究目标、生产需求和..

所在地：美洲发布时间：2024/8/12
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回流焊炉
型号： RSS-110-S 参考价：￥咨询

rss-110-s 回流焊炉是一种非常紧凑且易于使用的工具，适用于实验室和洁净室作为桌面单元。

所在地：欧洲发布时间：2024/8/12
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MPI探针台
型号： VEGA系列参考价：￥咨询

mpi vega 探针系列已准备好满足激光二管（vcsel、eel）和光学模块市场的各种测试和材料处理要求。

所在地：港澳台发布时间：2024/8/12
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新型离子枪
型号： ESC-101 参考价：￥咨询

通过采用结合空心阳离子枪和磁控管离子枪的新型离子枪，可实现了超精细结构的薄膜。

所在地：日本发布时间：2024/8/12
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AE物理气相沉积平台
型号： Nexdep 参考价：￥咨询

nexdep pvd平台在经济性和多功能性之间取得了平衡。它可以配备强大的工艺增强功能，而不会占用实验室的所有空间或预算。您的研究目标、生产需求和/或应用终目标将告知如何装备您的 nexd..

所在地：美洲发布时间：2024/8/12
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超显微压痕硬度计
型号： ELIONIX-5 参考价：￥咨询

“elionix "系列第五代超显微压痕硬度计，在日本制造的纳米压痕测试仪具有友好的 gui，通过抑制测量环境中的干扰实现高数据再现性。

所在地：日本发布时间：2024/8/12
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AE物理气相沉积平台
型号： Covap 参考价：￥咨询

covap pvd 平台为许多过程应用提供了紧凑、经济且仍然强大的解决方案。为需要安全可靠的工具的实验室而设计，该工具可在紧凑的占地面积内生产可重复的高质量薄膜。沉积源被隔离，以减少热效应..

所在地：美洲发布时间：2024/8/12
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Riber分子束外延系统
型号： MBE 6000 参考价：￥咨询

riber分子束外延（mbe）系统是一款在半导体及光电子域广泛应用的先进设备，以其高精度、高纯度和低温生长的特点而著称。

所在地：欧洲发布时间：2024/8/12
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Riber分子束外延系统
型号： MBE 49 参考价：￥咨询

riber mbe 49 系列全自动生产机器为材料质量、产量、产量以及与操作和维护相关的成本设定了行业标准。超过55个这样的系统已经在全球范围内交付，他们为客户带来的成功使该系列反应器获得..

所在地：欧洲发布时间：2024/8/9
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离子束刻蚀设备
型号： EIS-1500 参考价：￥咨询

eis-1500是由elionix研发的108mm的大直径光束，通过充分利用光束面内分布监控功能，可以实现各向异性干法蚀刻的离子束刻蚀设备。

所在地：日本发布时间：2024/8/9
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RIBER分子束外延4 英寸中试生产系统
型号： MBE 412 参考价：￥咨询

riber 的 mbe 412 正受到越来越多与工业合作伙伴合作开展应用项目的关键研究机构的关注。这种兴趣的增加部分归因于 4 英寸（或 3 x 2 英寸）容量在这种类型的战略合作伙伴关系..

所在地：欧洲发布时间：2024/8/9
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原子层沉积
型号： Genesis ALD 参考价：￥咨询

用于电池、太阳能和柔性电子产品的功能性原子层沉积涂层。 genesis ald 是涂布任何卷筒格式基材以及多种功能应用的理想选择。多种 ald 材料可供选择，可满足您的要求。多年来，be..

所在地：港澳台发布时间：2024/8/9
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离子束刻蚀设备
型号： EIS-200ERP 参考价：￥咨询

eis-200erp是由elionix研发的离子束刻蚀设备，紧凑和高性能，使用 ecr 离子束可以进行纳米蚀刻和沉积，制品特微。

所在地：日本发布时间：2024/8/9
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电子束光刻设备
型号： ELS-HAYATE 参考价：￥咨询

els-hayate是由elionix研发的超高吞吐量电子束光刻设备，提供业界大的 5 毫米偏转。非常适合需要关注字段间拼接错误的应用。

所在地：日本发布时间：2024/8/9
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RIBER 分子束外延系统MBE
型号： Compact 21 参考价：￥咨询

自新千年到来之推出以来，compact 21 已成为有史以来成功的商用 3 英寸 mbe 系统。凭借核心 compact 21 dna 在所有配置（iii-v、ii-vi、gp iv、氧化..

所在地：欧洲发布时间：2024/8/9
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电子束光刻设备
型号： ELS-BODEN 参考价：￥咨询

els-boden是由elionix开发的电子束光刻设备，非常适合研究和开发！支持从高清绘图到大电流高速绘图的广泛应用。

所在地：日本发布时间：2024/8/9
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电子束光刻设备
型号： ELS-BODEN Σ 参考价：￥咨询

els-boden σ这是elonix自创业以来多年来一直致力于开发的新型号的电子束光刻设备。采用模块系统，可以自由组合加速电压、腔室尺寸、传输机构和防振台，为每个应用构建佳单元。

所在地：日本发布时间：2024/8/9
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TCO激光划线设备
型号： ULT-1400 参考价：￥咨询

tco激光划线设备ult-1400本设备通过近红外脉冲激光烧蚀法除去玻璃基板上成膜的透明电（tco）膜，是一种枚用式激光划线设备。本设备由6个ir激光法阵器和光学系统、bridge式xy平..

所在地：日本发布时间：2024/6/27
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