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自然氧化膜去除设备
型号： RISE-300 参考价：￥咨询

批处理式自然氧化膜去除设备 rise-300批处理式自然氧化膜去除设备risetm-300是用于去除位于lsi的deep-contact底部等难以去除的自然氧化膜的批处理式预清洗装置。可处..

所在地：日本发布时间：2024/6/27
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干法刻蚀装置
型号： NLD-5700 参考价：￥咨询

对应光学器件、mems制造的干法刻蚀装置nld-5700对应光学器件、mems制造的干法刻蚀装置nld-5700是搭载了磁性中性线（nld- neutral loop discharge）..

所在地：日本发布时间：2024/6/27
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干法刻蚀设备
型号： APIOS NE-950EX 参考价：￥咨询

干法刻蚀设备 apios ne-950ex对应led量产用的干法刻蚀设备｢ne-950ex｣相对我司以往设备实现了140%的生产力。是搭载了icp高密度等离子源..

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NLD干法刻蚀设备
型号： NLD-570 参考价：￥咨询

研究开发向nld干法刻蚀设备nld-570研究开发向nld干法刻蚀设备nld-570，是搭载了爱发科磁性中性线（nld- neutral loop discharge）等离子源的装置，此n..

所在地：日本发布时间：2024/6/27
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高密度等离子刻蚀装置
型号： ULHITETM NE-7800H 参考价：￥咨询

高密度等离子刻蚀装置ulhitetm ne-7800h高密度等离子客户装置ulhite ne-7800h是对应刻蚀feram、mram、reram、pcram等器件所用的高难度刻蚀材料（强..

所在地：日本发布时间：2024/6/27
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刻蚀设备
型号： NE-5700/NE-7800 参考价：￥咨询

量产用刻蚀设备ne-5700/ne-7800量产用刻蚀设备ne-5700/ne-7800是可以对应单腔及多腔、重视性价比拥有扩展性的刻蚀设备。

所在地：日本发布时间：2024/6/27
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溅射镀膜设备（立式）
型号： SMD系列参考价：￥咨询

溅射镀膜设备smd系列（立式）smd 系列是镀金属膜、ito、igzo、诱电体膜等的枚叶式溅射镀膜设备。仅smd系列就有超过1000台的丰富的采用实绩，在各种各样的生产环境下运转。及时反映..

所在地：日本发布时间：2024/6/27
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Load-lock式溅射设备
型号： CS-200 参考价：￥咨询

load-lock式溅射设备cs-200load-lock式溅射设备cs-200，是可对应从研究开发到小规模量产的溅射设备。

所在地：日本发布时间：2024/6/27
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批次式溅射设备
型号： SV系列参考价：￥咨询

批次式溅射设备sv系列sv系列为纵型batch式溅射设备。为可以处理大量基板的回转型设备。

所在地：日本发布时间：2024/6/27
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去胶设备
型号： NA-1300系列参考价：￥咨询

去胶设备na-1300系列从关键的新世代晶圆制程到晶圆封装，luminous na系列可对应广范围的各类晶圆尺寸的各类工艺需求。

所在地：日本发布时间：2024/6/27
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SiC用高温离子注入设备
型号： IH-860DSIC 参考价：￥咨询

sic用高温离子注入设备 ih-860dsic搭载了高温esc（静电吸附卡盘）的面向sic量产用的高能粒子注入装置。

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离子注入设备
型号： IMX-3500 参考价：￥咨询

研究开发用中电流离子注入设备imx-3500中电流离子注入装置imx-3500为大能量200kev、对应大晶圆尺寸8inch的离子注入装置，适用于大学等机构的研究开发。

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离子注入设备
型号： SOPHI-400 参考价：￥咨询

高能对应离子注入设备sophi-400可达2400kev的高能离子注入设备。

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离子注入设备
型号： SOPHI-30 参考价：￥咨询

可对应低速高浓度的离子注入设备sophi-30低加速、高浓度对应的离子注入设备。

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枚叶式等离子CVD设备
型号： CMD系列参考价：￥咨询

枚叶式等离子cvd设备cmd系列cmd系列是用sih4和teos成膜的a-si膜、氧化硅膜、氮化膜成膜用的枚叶式cvd设备。

所在地：日本发布时间：2024/6/27
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Load-lock式Plasma CVD设备
型号： CC-200/400 参考价：￥咨询

load-lock式plasma cvd设备 cc-200/400load-lock式plasma cvd设备cc-200/400是小型的使用便利的可对应从研究开发到量产的设备。

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枚叶式PECVD设备
型号： CME-200E/400 参考价：￥咨询

枚叶式pecvd设备cme-200e/400枚叶式pe-cvd设备cme-200e/400是适用于si系绝缘膜、barrier膜等成膜的量产用pecvd设备。

所在地：日本发布时间：2024/6/27
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纵向式Cat-CVD设备
型号： CCV系列参考价：￥咨询

纵向式cat-cvd设备ccv系列ccv series是a-si镀膜用的纵向式cvd设备。有30年以上的量产实绩。在各个chamber通过低压镀膜，得到高品质的膜质。

所在地：日本发布时间：2024/6/27
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真空炉
型号： FB系列参考价：￥咨询

真空炉fb系列安装了egr冷却器、散热器、蒸发器等各种热交换器的真空炉设备。公司开发了从批次式到连续炉的丰富产品系列。同时面向特殊用途的设备定制。

所在地：日本发布时间：2024/6/27
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卷绕式真空蒸镀设备
型号： EW系列参考价：￥咨询

卷绕式真空蒸镀设备 ew系列塑料薄膜、纸、金属箔等连续卷绕的同时，对金属和氧化物进行蒸镀的成膜设备。从小型的实验机到大量的生产设备，此外，还提供一系列用于包装材料，电容器，磁带等其他应用的..

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