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更新时间:2026/9/8 1:56:36关注度:578
关键词标签:有机薄膜沉积和金属化系统,KURT.J.LESKER
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SPECTROS 150与以下技术兼容:
1cc 或 10cc LTE 信号源(除热源外,多10个信号源)
4 英寸热源(除 LTE 源外,多4个源)
TORUS 磁控溅射源(多8个2"或3"源)
电子束蒸发源(4口袋8cc,8口袋12cc,6口袋20cc)
上述技术的组合也可用
可根据要求提供定制配置
SPECTROS™ 150 的工艺室提供两种类型的高真空泵:标配 Pfeiffer 790 L/s 涡轮分子泵或可选的 Brooks CTI-8F 1500 L/s 低温泵。SPECTROS 150的任何沉积配置都可以选择这两种泵。Pfeiffer 790 L/s 是总体成本效益、高质量泵送的理想选择,尤其适用于低温和热蒸发。Brook CTI-8F 可用于需要尽可能低真空度的应用,特别是热蒸发和电子束应用。
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