磁控溅射薄膜沉积系统Linear type

参考价：咨询
型号：Linear type
品牌： $brandModel.Title
所属地区：中国大陆
原产地：辽宁-沈阳市
产品摘要：磁控溅射薄膜沉积系统可用于制备光学薄膜、电学薄膜、磁性薄膜、硬质保护薄膜和装饰薄膜等，工艺性能稳定、模块化结构，采用行业的软件控制系统。

产品完善度：

更新时间：2026/9/8 1:56:35关注度：567

关键词标签：线列式磁控溅射系统,沈科仪

支付方式：

支付宝微信银行转账

1.产品概述：
本沉积系统可用于制备光学薄膜、电学薄膜、磁性薄膜、硬质保护薄膜和装饰薄膜等，工艺性能稳定、模块化结构，采用行业的软件控制系统。
2.设备用途：
用于纳米单层及多层功能膜、硬质膜、金属膜、半导体膜、介质膜等新型薄膜材料的制备。可广泛应用于大院校、科研院所的薄膜材料的科研项目。例如可用于制备各种功能性薄膜，如具有吸收、透射、反射、折射、偏光等作用的薄膜；适用于微电子域；在光学域，可用于制备增透膜、低辐射玻璃和透明导电玻璃等；在机械加工行业中，可沉积表面功能膜、超硬膜、自润滑薄膜等，以提高表面硬度、复合韧性、耐磨损性和抗高温化学稳定性能；还可应用于高温超导薄膜、铁电体薄膜、巨磁阻薄膜、薄膜发光材料、太阳能电池、记忆合金薄膜等的研究。

3.真空室：
真空室结构:长方形侧开门

真空室尺寸:1100X700X350mm

限真空度:≤6.0E-5Pa

沉积源:磁控靶尺寸：450X80mm、向上溅射，每个真空室配2个靶位

样品尺寸，温度:300X400mm；高温度300度

占地面积（长x宽x高）:约6米×3米×2米（设计待定）

电控描述:全自动

工艺:设计待定