产品耗材展示-深圳市矢量科学仪器有限公司

全部配件耗材新品推荐促销产品

环境控制激光尖峰退火设备
型号： LSA 201 参考价：￥咨询

veeco 的 lsa201 激光尖峰退火（lsa）系统具有与 lsa101 相同的架构，但包括获得利的微室设计，可在扫描激光系统中实现全晶圆环境控制。该微室的独特之处在于它不需要使用..

所在地：美洲发布时间：2024/8/13
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晶片清洗机
型号： TWB-200 参考价：￥咨询

本机是一款全自动晶片刷洗机，全程封闭环境采用机械手自动操作，具备刷洗甩干功能，适用于各种半导体衬底材料抛光后的刷洗，可有效减少晶片表面颗粒污染。

所在地：中国大陆发布时间：2024/8/13
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固体蜡贴片机（贴蜡机）
型号： TWB-1150V/1360V 参考价：￥咨询

固体蜡贴片机（贴蜡机）是一款高精度桌上型贴片机，采用手动涂蜡&放片方式，具有加热和冷却功能，自动压片，蜡层均匀。可升真空贴片功能，先抽真空再热压冷却，贴片效果更佳。

所在地：中国大陆发布时间：2024/8/13
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钙钛矿用涂膜机
型号： PF200-H 参考价：￥咨询

钙钛矿用涂膜机，配备4.3寸全彩触屏，操作便捷。采用硬质阳氧化铝面板，带真空吸附，确保涂膜稳定。精准控制移动速率，提高涂膜重复性。可选配多种涂膜工具，适应不同需求。风刀角度与高度可调，工艺..

所在地：中国大陆发布时间：2024/8/13
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固体蜡贴片机
型号： TWB-1150S 参考价：￥咨询

固体蜡贴片机（贴蜡机）是一款高精度桌上型贴片机，采用手动涂蜡&放片方式，具有加热和冷却功能，自动压片，蜡层均匀。可升真空贴片功能，先抽真空再热压冷却，贴片效果更佳。

所在地：中国大陆发布时间：2024/8/13
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IoN系列等离子清洗去胶系统
型号： IoN 10Q 参考价：￥咨询

ion系列等离子清洗去胶系统具有多种射频电源选项，可满足客户的特定工艺和产量要求。我们提供不同腔体和电配置，大腔体可达 1200 升。

所在地：美洲发布时间：2024/8/13
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全自动液体蜡贴片机
型号： TLB-360FM/485FM 参考价：￥咨询

该系列设备适用来键合晶片到载具（衬底，陶瓷盘等），操作简单，搭配不同夹具可实现不同尺寸，不同厚度晶片的键合。该系列设备具有两种模式，半自动和全自动模式。半自动液体蜡贴片机实现自动取片，需要..

所在地：中国大陆发布时间：2024/8/13
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液体蜡贴片机
型号： TLB-360A/485A 参考价：￥咨询

固体蜡贴片机（贴蜡机）是一款高精度桌上型贴片机，采用手动涂蜡&放片方式，具有加热和冷却功能，自动压片，蜡层均匀。可升真空贴片功能，先抽真空再热压冷却，贴片效果更佳。

所在地：中国大陆发布时间：2024/8/13
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激光尖峰退火设备
型号： LSA 101 参考价：￥咨询

veeco 的 lsa101 系统安装在全球先的 idm 和晶圆代工厂，是大批量制造 40nm 至 140nm 节点的先进逻辑器件的选技术。lsa 101 的扫描技术基于 veeco 的可..

所在地：美洲发布时间：2024/8/13
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CMP抛光机
型号： POLI-762 参考价：￥咨询

poli-762是小型12英寸cmp机台，采用手动装片方式，可选配半自动loading托盘，气囊薄膜柔性加压，可配置摩擦力&温度终点监控系统，用于氧化物、金属、sti、soi、mems等产..

所在地：中国大陆发布时间：2024/8/13
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CMP抛光机
型号： POLI-500 参考价：￥咨询

poli-500是小型8英寸cmp机台，采用手动装片方式，可选配半自动loading托盘，气囊薄膜柔性加压，可配置摩擦力&温度终点监控系统，用于氧化物、金属、sti、soi、mems等产品..

所在地：中国大陆发布时间：2024/8/13
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cmp抛光机
型号： POLI-400L 参考价：￥咨询

poli-400lcmp抛光机是4&6英寸小型化学机械抛光机，采用手动装片方式，气囊薄膜柔性加压，可配置摩擦力&温度终点监控系统，用于氧化物、金属、sti、soi、mems等产品的平坦化抛..

所在地：中国大陆发布时间：2024/8/13
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半自动CMP抛光机
型号： TMP-200S/300S 参考价：￥咨询

cmp抛光机是一款针对薄膜（介质层）的抛光设备，操作便捷，兼容性强，通过更换抛光压头实现不同尺寸晶圆的兼容，采用手动装片方式，可配置半自动loading系统，气囊薄膜柔性加压，用于氧化物、..

所在地：中国大陆发布时间：2024/8/13
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CMP抛光机
型号： TMP-150A/200A 参考价：￥咨询

cmp抛光机是一款针对薄膜（介质层）的抛光设备，操作便捷，兼容性强，通过更换抛光压头实现不同尺寸晶圆的兼容，采用手动装片方式，可配置半自动loading系统，气囊薄膜柔性加压，用于氧化物、..

所在地：中国大陆发布时间：2024/8/13
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高真空电子束蒸发薄膜沉积系统
型号： EB700 参考价：￥咨询

高真空电子束蒸发薄膜沉积系统主要由蒸发室、主抽过渡管路、旋转基片架、光加热系统、电子枪及电源、石英晶体振荡膜厚监控仪、工作气路、抽气系统、控制系统、安装机台等部分组成，体现立方整体外观，适..

所在地：中国大陆发布时间：2024/8/13
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全自动CMP抛光机
型号： TPC-2110 参考价：￥咨询

全自动cmp抛光机是一款针对薄膜（介质层）的全自动抛光设备，操作便捷，兼容性强，通过更换抛光压头实现不同尺寸晶圆的兼容，采用自动化装片方式，机械手自动取放片，同时搭配双面pva滚刷进行在线..

所在地：中国大陆发布时间：2024/8/13
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精密研磨抛光机
型号： TAP-400/600/450A/500 参考价：￥咨询

tap-400/600/450a/500精密研磨抛光机系列设备是两轴高精密单面抛光设备，抛光头可自转、可摆动，可实现高压力、高转速抛光，可以单片抛光，也可以多片抛光，满足各种材料的高精密抛..

所在地：中国大陆发布时间：2024/8/13
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单面抛光机
型号： TSP-610 /810/910/1270 参考价：￥咨询

单面抛光机是一款操作简单，兼容性强，搭配不同盘配合相应的液可实现多种半导体材料高精度抛光设备，抛光盘可定制，根据量产要求多种规格可选。

所在地：中国大陆发布时间：2024/8/13
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单面抛光机
型号： TSP-400/450/380 参考价：￥咨询

tsp-400/450/380晶片研磨机系列设备是落地式的高精度单面抛光设备，可搭配铜盘、锡盘、玻璃盘、不锈钢盘等，配合不同类型的抛光液，适用于各种半导体材料的高精密抛光。

所在地：中国大陆发布时间：2024/8/13
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高真空等离子体增强化学气相薄膜沉积及热丝CVD系统
型号： PECVD+热丝CVD400 参考价：￥咨询

系统主要由真空反应室、上盖组件、喷淋头装置、热丝架、基片加热台、工作气路、抽气系统、安装机台、真空测量及电控系统等部分组成。本系统具有pecvd功能和热丝cvd功能。

所在地：中国大陆发布时间：2024/8/13
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