1.产品概述：

掩模的完整性对高标准光刻工艺的成功起主要作用。MaskTrack Pro 掩膜自动处理系统满足下一代光刻节点在掩模清洗、烘烤和显影工艺方面的所有标准。它是应对 193i 1x half-pitch DPT、紫外光刻 (EUVL) 和纳米压印光刻 (NIL)高要求的创新解决方案。以创新技术大限度地提高光掩模性能。

2.产品优势：

MaskTrack Pro 允许用第三方的产品扩展工具集群，并提供一个方法，在全控、高洁环境中存储、处理和加工光掩模。模块化设计确保其具有高度的灵活性并能高度适应客户的要求。MaskTrack Pro 在次运行就能提供佳的清洁效果。

3.产品工艺：

物理清洗：
该系统为湿法清洗提供多种物理力技术，包括高可达3个的预清洗与终清洗腔室，用于剥离隔离、预清洗和终清洗工艺。

原位紫外表面处理与清洗技术

频率高达4 MHz的高频双兆声波清洗

精密的纳米二元喷雾

聚焦点清洗

化学清洗：
DIW-H20脱气，用于控制兆声波工艺中的空化控制

超洁净的冷/热CO2-DI水

臭氧DI水和pH值稳定的电解H2

超稀释的SC1

用于进一步减少图案损伤的碱基新介质

15 nm工艺介质过滤间