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深圳市矢量科学仪器有限公司

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原子层沉积ALDGenesis ALD

  • 参考价: 咨询
  • 型号:Genesis ALD
  • 品牌: $brandModel.Title
  • 所属地区:欧洲
  • 原产地:国外-国外
  • 产品摘要:用于电池、太阳能和柔性电子产品的功能性原子层沉积涂层。 Genesis ALD 是涂布任何卷筒格式基材以及多种功能应用的理想选择。

产品完善度:

更新时间:2026/9/8 1:56:35关注度:615

关键词标签:ALD,原子层沉积,薄膜沉积,半导体道工艺,Beneq

支付方式:

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1.市场和应用:

用于电池、太阳能和柔性电子产品的功能性原子层沉积涂层。 Genesis ALD 是涂布任何卷筒格式基材以及多种功能应用的理想选择。

各种类型锂离子和固态电池的阴和阳的钝化

用于柔性太阳能电池的导电层和封装

用于柔性电子产品的防潮层

2.材料选择:

多种 ALD 材料可供选择,可满足您的要求。 多年来,Beneq 一直是用于研发和工业生产的卷对卷原子层沉积系统的先驱。我们的常用材料包括 Al₂O₃、TiO₂、ZnO、ZnS、SiO₂ 或可根据要求提供的任何其他材料。

3.功能亮点:

卷筒纸宽度:大420mm

ALD镀膜厚度:大100nm

动态沉积速率 (Al2O3): 10 nm *m/min

过程温度:高 250°C

4.定制:

在大420mm的卷筒纸宽度下,Genesis ALD适用于实验室研发或中试规模生产。 设计用于将 ALD 薄膜处理到聚合物或金属等柔性基材上。通过与我们的合作伙伴 E+R Group合作,我们为客户提供更宽的卷筒纸和生产线集成的可选设计。






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