1.产品概述：

本沉积系统可用于制备光学薄膜、电学薄膜、磁性薄膜、硬质保护薄膜和装饰薄膜等，工艺性能稳定、模块化结构，采用行业的软件控制系统。

2.设备特点：

本设备是一个镀膜平台，可把磁控靶拆下换电子枪成为电子束镀膜系统、或换蒸发源作为热蒸发系统、或换上离子枪作为离子束镀膜系统等。

设备用途：用于纳米单层及多层功能膜、硬质膜、金属膜、半导体膜、介质膜等新型薄膜材料的制备。可广泛应用于大院校、科研院所的薄膜材料的科研项目。

3.真空室：

真空室结构:方形开门

真空室尺寸:φ500x500x500mm

限真空度:≤3.0E-5Pa

沉积源:永磁靶4套，φ2英寸

样品尺寸，温度:φ4英寸，1片，高800℃

占地面积（长x宽x高）:约2米×1.7米×2米

电控描述:全自动

工艺:具备计算机化的工艺自动化功能。

片内膜厚均匀性：≤±3%