1.产品概述：
KS-FT200/300系列堆叠式高产能道涂胶显影机，为我司自主研发的突破晶圆道28nm工艺节点及以上工艺制程，适用于ArF、KrF、I-Line、PI、BARC，SOC，SOD，SOG等多种材料涂覆显影工艺的机台。支持与光刻机联机作业。该系列机台通过各种行业认证，占地面积小、可靠性高、易于维护，满足各种功能芯片制程需求。

2.产品优势：

1. 堆叠式高产能架构，占地面积小

2. 可与光刻机联机，满足工厂自动化需求

3. 配备多段回吸的多腔体共用供胶系统，有效节省光刻胶的用量

4. 选配高精度热板、WEE、AOI等单元部件，满足更高标准工艺需求

5. 核心单元模块化设计，组合方式灵活多变，大限度客制化

3.应用域：

● 逻辑电路

● CMOS射频电路

● 功率器件

● MEMS系统芯片

● 闪存内存

● CIS

● 驱动芯片

● OLED等