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深圳市矢量科学仪器有限公司

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CMP后清洗机GNP CLEANER-412S

  • 参考价: 咨询
  • 型号:GNP CLEANER-412S
  • 品牌: $brandModel.Title
  • 所属地区:其它
  • 原产地:国外-国外
  • 产品摘要:GNP CLEANER-412S型CMP后清洗机集成了两个双刷站,设计紧凑,占地面积小,可清洗(4“~12“)晶圆。

产品完善度:

更新时间:2026/9/8 1:56:36关注度:660

关键词标签:半导体,道,cmp后清洗,G&P

支付方式:

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1. 产品概述:

GNP CLEANER-412S型CMP后清洗机集成了两个双刷站,设计紧凑,占地面积小,可清洗(4“~12“)晶圆。

适用晶圆尺寸:100mm(4")和300mm(12")

配置:喷淋清洗、单边刷清洗、旋转漂洗干燥(可选:分离QDR)

清洁器尺寸:1,100W 1,100D 1,650Hmm

电刷尺寸:070(外径)032(内径)170(长)毫米

刷隙调节:PLC自动控制(可选刷隙范围:-10mm ~ 2mm)

化学:NH4OH ~ 1%

可用刷型:双面PVA刷

电刷转速:高400rpm

旋转速度:手动加载与自动顺序,湿入/干出,大2,000rpmDIW冲洗/ N2吹

2. 工艺流程

手动加载,自动顺序,湿/干液晶触摸屏显示器,程序控制PLC式






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