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深圳市矢量科学仪器有限公司

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CMP后清洗机GNP CLEANER-428L

  • 参考价: 咨询
  • 型号:GNP CLEANER-428L
  • 品牌: $brandModel.Title
  • 所属地区:其它
  • 原产地:国外-国外
  • 产品摘要:GNP CLEANER-428L型CMP后清洗机集成了两个双刷站,设计紧凑,占地面积小,可清洗(4“~8“)晶圆。

产品完善度:

更新时间:2026/9/8 1:56:36关注度:676

关键词标签:半导体,道,cmp后清洗,G&P

支付方式:

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1. 产品概述:

适用晶圆尺寸:100mm(4) ~ 200mm(8")

配置:独立配置4个清洗工位用DIW喷雾预清洗两个双面滚刷清洗用氮气吹干旋转漂洗

清洁器尺寸:1800 w 970D 1500 hmm

电刷尺寸:038(OD) 018(ID) 310(L)mm

预清洗工位:DIW喷雾清洗,工位间DIW帷幕清洗辊刷工位

化学:2个化学泵(每个刷室1个),NH4OH(< 0.1wt%)或DIW

刷型:双面PVA刷刷位调节:手动控制(可用刷隙范围:-1.5mm ~ 2mm)

转速:<满量程的2%

范围30 ~ 400rpm

化学品流量:满量程< 1L/min

DI流量:满量程< 5L/min

旋转速度:高2500转/分DIW冲洗/ N2吹扫/强扫

控制工艺:喷淋清洗/双面刷清洗/旋漂干洗/湿洗/干洗

程序控制:PC & PC触摸监控,程序可编程,计算机网络可比






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