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更新时间:2026/9/8 1:56:36关注度:676
关键词标签:半导体,道,cmp后清洗,G&P
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1. 产品概述:
适用晶圆尺寸:100mm(4) ~ 200mm(8")
配置:独立配置4个清洗工位用DIW喷雾预清洗两个双面滚刷清洗用氮气吹干旋转漂洗
清洁器尺寸:1800 w 970D 1500 hmm
电刷尺寸:038(OD) 018(ID) 310(L)mm
预清洗工位:DIW喷雾清洗,工位间DIW帷幕清洗辊刷工位
化学:2个化学泵(每个刷室1个),NH4OH(< 0.1wt%)或DIW
刷型:双面PVA刷刷位调节:手动控制(可用刷隙范围:-1.5mm ~ 2mm)
转速:<满量程的2%
范围30 ~ 400rpm
化学品流量:满量程< 1L/min
DI流量:满量程< 5L/min
旋转速度:高2500转/分DIW冲洗/ N2吹扫/强扫
控制工艺:喷淋清洗/双面刷清洗/旋漂干洗/湿洗/干洗
程序控制:PC & PC触摸监控,程序可编程,计算机网络可比
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