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更新时间:2026/9/8 1:56:35关注度:630
关键词标签:清洗机,半导体,CMP后清洗机
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该系列设备是晶圆CMP后的用清洗设备,有单工位、转位式、连线式等不同结构,以适用不同应用场景,其中连线式设备加配全自动上下片系统。该系列设备配有漂洗、双面刷洗、兆声清洗、N2吹干、高速甩干功能,集成度高,占地面积小,湿进干出,适用于各类CMP后晶圆的清洗。
功能齐全
系列设备均配有漂洗、双面刷洗、兆声清洗、N2吹干、高速甩干功能
操作简便
PLC系统,触摸屏控制,一键式自动完成刷洗清洗加工,其中连线式设备配有全自动上下片系统,cassette to cassette使用更加方便
兼容性好
通过更换夹具,可兼容4-12英寸晶圆
占地面积小
尽量减少洁净间的占地面积
产品参数
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