清洗设备(第2页)_深圳市矢量科学仪器有限公司

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分类清洗设备

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全自动SCRUBBER清洗机
型号：KS-CF300/200-8SR 参考价：￥咨询

清洗机可以用于对晶圆表面，背面及晶圆边缘的清洗，通过创新研发的二流体喷嘴技术可将附着在晶圆表面的细微颗粒污染物去除，实现高效去除。通过大量仿真与工艺试验相结合，优化出佳的清洗工艺参数，确保..

所在地：中国大陆
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单片式化学清洗机
型号：KS-CM300/200 参考价：￥咨询

ks-cm300/200 单片式化学清洗机适用于沉积清洗、蚀刻后清洗、离子注入后清洗、cmp后清洗等多种段工艺（feol）和后段工艺（beol）清洗进程，可适配高温spm工艺，工艺覆盖率达..

所在地：中国大陆
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单片清洗机
型号：KS-S300-SR 参考价：￥咨询

用于晶圆封装及oled中的清洗工艺，配合清洗化学药液、高压水清洗、常压水清洗、兆声波清洗、二流体水清洗、毛刷和喷洒清洗剂等手段，可有效去除晶圆表面颗粒、有机物、金属离子等杂质，同时适用于t..

所在地：中国大陆
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晶圆湿法清洗工作台
型号：3300系列参考价：￥咨询

waferstorm平台是先进封装、mems、射频、数据存储和光子学市场中许多关键溶剂型工艺的行业选择。有 2 个版本——手动加载（ml）和 3300 系列平台。ml系统非常适合研发和..

所在地：美洲
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CIF手套箱用等离子清洗机
型号：VGB3 参考价：￥咨询

cif推出vgb-p系列手套箱用等离子清洗设备，优化的腔体结构及合理的结构设计更适合手套箱内使用。安装简单方便，性能稳定，实用性强，容易维护。

所在地：中国大陆
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透射电镜样品杆清洗机
型号：CIF-TEM 参考价：￥咨询

cif透射电镜（tem）样品杆清洗机采用远程离子清洗源设计，清洗快速高效，低轰击损伤，同时可实现常规等离子清洗。主要用于tem透射电镜样品杆的等离子体清洗和真空检漏。

所在地：中国大陆
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扫描电镜等离子清洗机
型号：CIF-SEM 参考价：￥咨询

cif 扫描电镜（sem）等离子清洗机采用远程等离子清洗源设计，清洗快速、高效、低轰击损伤，主要用于sem或fib等电镜腔体内碳氢化合物的清洗。

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紫外臭氧清洗机
型号：UVO系列参考价：￥咨询

紫外臭氧清洗机（uvo），是一种简单，经济，快速高效的材料表面清洗设备，能快速去除大多数无机基材（比如石英，硅片，金，镍，铝，砷化镓，氧化铝等）上的有机污染物。cif紫外臭氧清洗机采用长寿..

所在地：中国大陆
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臭氧中和器
型号：CIF-UVO-N 参考价：￥咨询

cif臭氧中和器（uvo-n）用于紫外臭氧清洗机臭氧去除配套设备。主要是通过纳米金属氧化物催化剂分解臭氧，以及利用臭氧的不稳定性加速臭氧快速流动从而达到快速去除臭氧的目的。

所在地：中国大陆
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12英寸单片清洗设备
型号：Saqua SC3080A系列参考价：￥咨询

saqua sc3080a系列 12英寸单片清洗设备。

所在地：中国大陆
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12英寸槽式清洗设备
型号：WE3102系列参考价：￥咨询

we3102系列 12英寸槽式清洗设备，可配备 i-clean 多药液工艺槽，支持 dn unit, dio3 等附属功能。

所在地：中国大陆
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8英寸槽式清洗设备
型号：WE2102系列参考价：￥咨询

we2102系列 8英寸槽式清洗设备，该平台工艺区为 12 吋先进槽式清洗设备的拓展，具备优异的工艺效果。

所在地：中国大陆
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立式/卧式管舟清洗设备
型号：Bpure系列参考价：￥咨询

bpure系列立式/卧式管舟清洗设备,全自动清洗，浸泡式清洗与喷淋式清洗工艺可选。

所在地：中国大陆
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等离子清洗设备
型号：PC-1100 参考价：￥咨询

pc-1100是一种平行板式等离子清洗机，用于清洗样品表面的有机和无机污染。该工艺室允许用户安装多个电架，架式电配置的灵活性支持从小型电子元件到大型基板等多种产品的批量处理。

所在地：日本
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紫外线臭氧清洗机
型号：UV-1 参考价：￥咨询

uv-1是一款紧凑型台式紫外线臭氧清洗机。该系统将紫外线照射、臭氧和平台加热独特地结合在一起，温和而有效地去除硅、玻璃、化合物半导体（gan、gaas、inp、sic）、蓝宝石、陶瓷等各种..

所在地：日本
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紫外线臭氧清洗设备
型号：UV-300HC 参考价：￥咨询

uv-300hc是一款高性能的盒式装载uv臭氧清洗机，用于生产。这个行业先的系统有2个装载盒，可以达到200-300nm/min的高灰化率。该系统利用紫外线照射、高浓度臭氧和可控阶段加热的..

所在地：日本
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