其他道工艺设备(第2页)_深圳市矢量科学仪器有限公司

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产品分类

气相分解金属沾污收集（VPD）设备
型号：Seehund® A 系列参考价：￥咨询

seehund® a型气相分解金属沾污收集设备（vpd）是为集成电路制造、大晶圆生产及再生、先导工艺研发等行业提供金属沾污控制方案的产品。由于目的晶圆制造产业对金属沾污控制的要求..

所在地：中国大陆
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CMP
型号：GNP POLI-PCB系列参考价：￥咨询

g&p旗下的gnp poli-pcb系列cmp主要运用于研发，操作简单，成本低。

所在地：其它
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高研磨机
型号：Optium ASL-200 参考价：￥咨询

使用 veeco 的 optium® asl 200™ 研磨系统实现更高水平的控制和 tfmh 工艺产量。这种高精度硬盘头研磨系统可大程度地控制关键薄膜尺寸，并且设计..

所在地：美洲
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紫外线臭氧清洗机
型号：UV-300H 参考价：￥咨询

uv-300h是一款高性能的紧凑型紫外线臭氧清洗机。通过滑动抽屉将基材装入系统中。紫外线照射、高浓度臭氧和阶段性加热的组合，可温和而有效地去除硅、玻璃、化合物半导体（gan、sic、gaa..

所在地：日本
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紫外线臭氧清洗机
型号：UV-1 参考价：￥咨询

uv-1是一款紧凑型台式紫外线臭氧清洗机。该系统将紫外线照射、臭氧和平台加热结合在一起，温和而有效地去除硅、玻璃、化合物半导体（gan、gaas、inp、sic）、蓝宝石、陶瓷等各种基材上..

所在地：日本
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等离子清洗设备
型号：PC-300 参考价：￥咨询

pc-300是一种平行板式等离子清洗机，用于清洗样品表面的有机和无机污染。该工艺室允许用户安装多个电架，架式电配置的灵活性支持从研究到小批量生产的各种产品的批量处理。

所在地：日本
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直拉法晶体生长系统单晶炉
型号：CGS1218 参考价：￥咨询

直拉法晶体生长系统单晶炉cgs1218，为符合半导体行业的严格要求而设计。该系统采用模块化设计，且可以配置钢丝软轴或硬轴。配合特殊的晶体轴配置能够达到高的精度，因此确保了提拉速度的线性可调..

所在地：美洲
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直拉法晶体生长系统单晶炉
型号：SC28 参考价：￥咨询

直拉法晶体生长系统单晶炉sc28为200-300毫米（8-12英寸）单晶硅的工业生产而设计。该系统可灵活配置，满足客户对产品的特殊要求，例如客户要求的炉室部件的旋出方向，或将各种不同的泵组..

所在地：美洲
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直拉法晶体生长系统单晶炉
型号：SC24 参考价：￥咨询

直拉法晶体生长系统单晶炉sc 24为单晶硅晶体（硅锭）的工业生产而研发。该系统的模块化设计理念可根据客户的需求而进行灵活的调整。低能耗优化设计的24英寸热系统（热场）可以实现160公斤填料..

所在地：美洲
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直拉法晶体生长系统单晶炉
型号：CGS Lab 参考价：￥咨询

cgs-lab单晶炉是pva产品线中小的直拉法晶体生长系统，门为研究所和实验室设计。10 英寸热系统的设计用于多 5 公斤的加料量和生长直径为 100 毫米、长度为 300 毫米的硅锭。设..

所在地：美洲
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区熔晶体生长系统
型号：FZ-14 参考价：￥咨询

fz-14 区熔晶体生长系统是为工业生产直径达100毫米（4英寸）的单晶硅晶体而设计。根据源棒的尺寸，可以拉出长度达1. 1米的晶体。在这个过程中，晶体的直径和液体区的高度可以通过摄像系统..

所在地：美洲
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区熔晶体生长系统
型号：FZ-14M(G) 参考价：￥咨询

fz-14m(g)区熔晶体生长系统为制备单晶硅晶体样品而设计开发，该系统用于工业多晶硅生产中的材料分析。生产过程中的小型多晶体样品在氩气环境中被感应熔化，并在籽晶上结晶，形成单晶，然后进行..

所在地：美洲
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区熔晶体生长系统
型号：FZ-30和FZ-35 参考价：￥咨询

fz-30和fz-35区熔晶体生长系统为工业生产直径达200毫米（8英寸）的单晶硅晶体而设计。根据源棒的尺寸，可以拉出长度为2000毫米的晶体。在这个过程中，晶体的直径和液态区的高度可以用..

所在地：美洲
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区熔法硅芯炉
型号：SR110 参考价：￥咨询

sr110区熔法硅芯炉的工作方式与区熔系统类似。该系统使用一个在高频感应线圈下直径为100毫米的多晶硅棒（源棒）。根据硅棒的长度，在多个拉动工艺中可以产生特定数量的硅芯；然后这些硅芯被用作..

所在地：美洲
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物理气相传输系统
型号：SICma System 参考价：￥咨询

sicma系统为通过物理气相传输系统（pvt）的方式生产碳化硅晶体而开发。在此过程中，粉末状的原材料在高温下被加热和升华，后沉积在特定准备的基片上。这项工艺将通过使用一个感应线圈在千赫兹范..

所在地：美洲
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垂直梯度凝固法系统
型号：Kronos 参考价：￥咨询

kronos垂直梯度凝固法系统，用以解决基本工艺问题。该系统的高工作压力意味着，即使其组分具有高蒸气压的材料也可以结晶。该系统可在10-40巴的压力范围内用于不同化合物半导体的结晶。这种方..

所在地：美洲
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去胶清洗机
型号：customized 参考价：￥咨询

适用于 2寸～6寸硅片去胶清洗

所在地：中国大陆
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硅片腐蚀清洗机
型号：customized 参考价：￥咨询

适用对象：蓝宝石晶片、砷化镓晶片、碳化硅晶片、其它衬底基片

所在地：中国大陆
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硅芯清洗机
型号：customized 参考价：￥咨询

设备介绍:本设备为柜体式腐蚀机,整台设备均采用进口件.基本材质:箱体材质:德国兹白色聚丙烯(pp) 门板材质:德国透明聚氯乙烯(pvc)腐蚀槽材质:德国自然色聚偏二佛乙烯(pvdf)清洗槽..

所在地：中国大陆
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晶片清洗机
型号：customized 参考价：￥咨询

本设备的设计、选购、制造、检验和测试均按照相关国家、半导体行业标准（semi-s2-93）执行，iso9001质量管理体系进行规范和保证，但合同中或技术文件中另有规定的除外。外购配件执行相..

所在地：中国大陆
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