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更新时间:2026/9/8 1:56:36关注度:795
关键词标签:半导体,晶圆,长晶炉,FZ-14,区熔晶体生长系统,PVA,TePla
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材料:硅晶体
晶体1,100 mm
晶体拉动长度:长达100 mm (4″)
晶体直径:2.5 x 10-5 mbar
限真空度:0.5 bar(g)
发电机
输出电压:30 kW
频率:2.4 MHz
上轴
进料速度:高30 mm/min
上部旋转:高35 rpm
下轴
拉动速度:高 30 mm/min
下部旋转:高 30 rpm
尺寸规格
高度6,280 mm
宽度:2,750 mm
深度:3,000 mm
重量(总):约4,900 kg
区熔(FZ)技术作为提纯方法为生产高电阻率的超纯硅单晶提供了技术可行性,该技术可应用于高性能电子和半导体技术域。其另一优点是可以从气相中连续掺入,这使得在整个晶体的电阻率沿长度方向保持一致。因此,几乎可以在整个晶体上均匀地实现所需的电性能。由于电荷载流子的高寿命和低的氧含量(无坩埚工艺),FZ晶体同样也适用于光伏行业。
区熔(FZ)技术作为提纯方法与CZ直拉工艺等竞争方法相比,FZ工艺的优势在于只有紧邻感应线圈的一小部分晶体需要被熔化,无需使用石英坩埚(每炉次耗用一个),可实现高拉速,因此降低了耗材成本的同时也降低了能源成本。此外,无论是从硅还是其他合适的材料中提取的晶体,可以通过多次处理,显著地提高纯度。
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