半导体道工艺设备(第9页)_深圳市矢量科学仪器有限公司

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分类半导体道工艺设备

产品分类

原子层沉积ALD
型号：Beneq TFS 200/500 参考价：￥咨询

beneq tfs 200 是有史以来灵活的原子层沉积研究平台，为学术研究和企业研发而设计。beneq tfs 200 经过门设计，可大限度地减少多用户研究环境中可能发生的任何交叉污染。t..

所在地：欧洲
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原子层沉积ALD
型号：Genesis ALD 参考价：￥咨询

用于电池、太阳能和柔性电子产品的功能性原子层沉积涂层。 genesis ald 是涂布任何卷筒格式基材以及多种功能应用的理想选择。

所在地：欧洲
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超高真空激光分子束外延薄膜沉积系统
型号：LMBE450 参考价：￥咨询

超高真空激光分子束外延薄膜沉积系统由真空腔室（外延室、进样室）、样品传递机构、样品架、立式旋转靶台、基片加热台、抽气系统、真空测量、工作气路、电控系统、计算机控制等各部分组成。

所在地：中国大陆
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高真空磁控溅射薄膜沉积系统
型号：PVD400 参考价：￥咨询

本沉积系统可用于制备光学薄膜、电学薄膜、磁性薄膜、硬质保护薄膜和装饰薄膜等，工艺性能稳定、模块化结构，采用行业先的软件控制系统。

所在地：中国大陆
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匀胶机
型号：H6-8 参考价：￥咨询

laurell的h6-8型的匀胶机结构紧凑，具有先进的功能，设计为容易安装在手套箱中的旋涂机。这款 650 系列 hl 涂布机系统将可容纳大 200mm 晶圆和 7 英寸 × 7 英寸..

所在地：美洲
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高真空磁控溅射薄膜沉积系统
型号：PVD500 参考价：￥咨询

高真空磁控溅射薄膜沉积系统可用于制备光学薄膜、电学薄膜、磁性薄膜、硬质保护薄膜和装饰薄膜等，工艺性能稳定、模块化结构，采用行业的软件控制系统。

所在地：中国大陆
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匀胶机
型号：H6-23 参考价：￥咨询

laurell的h6-23型的匀胶机结构紧凑，具有先进的功能，设计为容易安装在手套箱中的旋涂机。这款 650 系列 hl 涂布机系统将可容纳大 150mm 晶圆和 5 英寸 × 5 英..

所在地：美洲
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金属有机化学气相沉积MOCVD
型号：TurboDisc EPIK 868 参考价：￥咨询

用于 led 生产的 turbodisc epik 868 mocvd 系统

所在地：美洲
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晶圆清洗机
型号：977 参考价：￥咨询

977晶圆清洗机系统为切割后工件清洗和干燥而设计，配有旋转卡盘台、旋转清洗/干燥臂。臂可配置雾化清洁喷嘴或高压喷嘴，满足各种清洁度要求。

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匀胶机
型号：H6-15 参考价：￥咨询

laurell的h6-15系列匀胶机结构紧凑，具有先进的功能，设计为容易安装在手套箱中的旋涂机。这款650系列hl涂布机系统将可容纳高达300mm 的晶圆和9英寸×9英寸（229mm×..

所在地：美洲
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磁控溅射薄膜沉积系统
型号：SMART 参考价：￥咨询

磁控溅射薄膜沉积系统可用于制备光学薄膜、电学薄膜、磁性薄膜、硬质保护薄膜和装饰薄膜等，工艺性能稳定、模块化结构，采用行业的软件控制系统。

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磁控溅射薄膜沉积系统
型号：Linear type 参考价：￥咨询

磁控溅射薄膜沉积系统可用于制备光学薄膜、电学薄膜、磁性薄膜、硬质保护薄膜和装饰薄膜等，工艺性能稳定、模块化结构，采用行业的软件控制系统。

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匀胶机
型号：WS-650-23B 参考价：￥咨询

laurell的ws-650-23b型匀胶机结构紧凑，具有先进的功能。这款650系列涂布机系统将可容纳大150mm晶圆和5英寸×5英寸（127mm×127mm）基板，大转速为12,00..

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高真空磁控溅射薄膜沉积系统
型号：TRP450 参考价：￥咨询

产品概述：高真空磁控溅射薄膜沉积系统可用于制备光学薄膜、电学薄膜、磁性薄膜、硬质保护薄膜和装饰薄膜等，工艺性能稳定、模块化结构，采用行业的软件控制系统。设备用途：可广泛应用于大院校、科研院..

所在地：中国大陆
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SiC分子外延系统MBE
型号：Epiluvac ER3-C1 参考价：￥咨询

epiluvac 产品通常作为完整的系统交付，包括反应器模块、气体输送系统、过程控制、安全系统、安装和调试。每个系统在发货都经过广泛的测试，一旦安装，交付还包括所有必要的客户操作和维护培训..

所在地：美洲
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匀胶机
型号：WS-650-8B 参考价：￥咨询

laurell的ws-650-8 b 型匀胶机结构紧凑，具有先进的功能。这款650系列涂布机系统将可容纳大200mm晶圆和 7英寸×7英寸（178mm×178mm）基板，大转速为12..

所在地：美洲
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高真空磁控溅射粉末颗粒表面薄膜沉积系统
型号：PC450 参考价：￥咨询

高真空磁控溅射粉末颗粒表面薄膜沉积系统可以在粉末颗粒状样品表面镀制金属膜、磁性膜、绝缘膜等，采用行业的软件控制系统。可广泛应用于大院校、科研院所的粉末样品表面镀制薄膜材料的科研项目。

所在地：中国大陆
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高真空磁控溅射薄膜沉积系统
型号：JGP450 参考价：￥咨询

产品概述：高真空磁控溅射薄膜沉积系统可用于制备光学薄膜、电学薄膜、磁性薄膜、硬质保护薄膜和装饰薄膜等，工艺性能稳定、模块化结构，采用行业的软件控制系统。设备用途：用于纳米单层及多层功能膜、..

所在地：中国大陆
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高真空磁控溅射薄膜沉积系统
型号：JGP560 参考价：￥咨询

产品概述：高真空磁控溅射薄膜沉积系统可用于制备光学薄膜、电学薄膜、磁性薄膜、硬质保护薄膜和装饰薄膜等，工艺性能稳定、模块化结构，采用行业的软件控制系统。设备用途：用于纳米单层及多层功能膜、..

所在地：中国大陆
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高真空磁控溅射与离子束复合薄膜沉积系统
型号：FJL560 参考价：￥咨询

本沉积系统可用于制备光学薄膜、电学薄膜、磁性薄膜、硬质保护薄膜和装饰薄膜等，工艺性能稳定、模块化结构，采用行业先的软件控制系统。用于纳米单层及多层功能膜、硬质膜、金属膜、半导体膜、介质膜等..

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