半导体道工艺设备(第7页)_深圳市矢量科学仪器有限公司

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分类半导体道工艺设备

产品分类

化合物半导体沉积系统
型号：AIX 2800G4-TM 参考价：￥咨询

化合物半导体沉积系统aix 2800g4-tm （ic2）“基于 gaas/inp 的光电子学和射频应用的 hvm 佳反应器”

所在地：欧洲
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金属有机源气相沉积系统
型号：MOCVD 参考价：￥咨询

mocvd系统主要由真空室反应系统、气体（载气与气相有机源）输运控制系统、有机源蒸发输运控制系统、电源控制系统、尾气处理及安全保护报警系统组成。

所在地：中国大陆
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高真空等离子体增强化学气相薄膜沉积系统
型号：线列式PECVD 参考价：￥咨询

产品概述：系统主要由真空反应室、上盖组件、热丝架、基片加热台、工作气路、抽气系统、安装机台、真空测量及电控系统等部分组成。设备用途：pecvd就是化学气相沉积法，是一种化工技术，该技术主要

所在地：中国大陆
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高真空等离子体增强化学气相薄膜沉积系统
型号：Cluster PECVD 参考价：￥咨询

系统主要由3个真空沉积室（分别沉积p、i、n结）、1个进样室、1个中央传输室、平板式电、基片加热台、工作气路、传送机械手、抽气系统、安装机台、射频电源、甚高频电源、尾气处理装置、真空测量及..

所在地：中国大陆
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高真空等离子体增强化学气相薄膜沉积及热丝CVD系统
型号：PECVD+热丝CVD400 参考价：￥咨询

系统主要由真空反应室、上盖组件、喷淋头装置、热丝架、基片加热台、工作气路、抽气系统、安装机台、真空测量及电控系统等部分组成。本系统具有pecvd功能和热丝cvd功能。

所在地：中国大陆
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高真空电子束蒸发薄膜沉积系统
型号：EB700 参考价：￥咨询

高真空电子束蒸发薄膜沉积系统主要由蒸发室、主抽过渡管路、旋转基片架、光加热系统、电子枪及电源、石英晶体振荡膜厚监控仪、工作气路、抽气系统、控制系统、安装机台等部分组成，体现立方整体外观，适..

所在地：中国大陆
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IoN系列等离子清洗去胶系统
型号：IoN 10Q 参考价：￥咨询

ion系列等离子清洗去胶系统具有多种射频电源选项，可满足客户的特定工艺和产量要求。我们提供不同腔体和电配置，大腔体可达 1200 升。

所在地：美洲
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钙钛矿用涂膜机
型号：PF200-H 参考价：￥咨询

钙钛矿用涂膜机，配备4.3寸全彩触屏，操作便捷。采用硬质阳氧化铝面板，带真空吸附，确保涂膜稳定。精准控制移动速率，提高涂膜重复性。可选配多种涂膜工具，适应不同需求。风刀角度与高度可调，工艺..

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全封闭式桌面显影机
型号：DM200-SE 参考价：￥咨询

钙钛矿用涂膜机，配备4.3寸全彩触屏，操作便捷。采用硬质阳氧化铝面板，带真空吸附，确保涂膜稳定。精准控制移动速率，提高涂膜重复性。可选配多种涂膜工具，适应不同需求。风刀角度与高度可调，工艺..

所在地：中国大陆
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手动光刻机
型号：MS6-CA 参考价：￥咨询

ms6-ca手动光刻机是一款高性能的精密加工设备，为微电子、半导体、光电等域的研发与生产设计

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高温型烤胶机
型号：HP100-HT-CTM 参考价：￥咨询

hp100-ht-ctm高温型烤胶机，不锈钢镀陶瓷加热，触屏控温，独立电路，隔热设计，安全耐用，高温均匀，适合精密实验。

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精密型烤胶机
型号：HP6 参考价：￥咨询

hp6精密型烤胶机，全铝机身，高精度控温，独立电路，真空吸附，数显温控，可选线性控温，小巧便携，适合手套箱使用。

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投影步进式光刻机
型号：AP200/300 参考价：￥咨询

ap200/300 系列光刻系统基于 veeco 的可定制 unity 平台™构建，可提供卓越的覆盖层、分辨率和侧壁轮廓性能，并可实现高度自动化和具有成本效益的制造。这些系统特..

所在地：美洲
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程控烤胶机
型号：HP100-SE标准型参考价：￥咨询

lebo science hp100-se程控烤胶机，7寸触屏plc控，硬质阳氧化铝面板，优异性能，业服务，实验理想之选。

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控温型匀胶机
型号：IC8000-S 参考价：￥咨询

控温型匀胶机，性能优秀，业服务，高品质材料，安全设计，桌面实验理想选择，为科学仪器域的优选产品

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高真空电子束蒸发薄膜沉积系统
型号：EB900 参考价：￥咨询

产品概述：系统主要由蒸发室、主抽过渡管路、旋转基片架、光加热系统、电子枪及电源、石英晶体振荡膜厚监控仪、工作气路、抽气系统、控制系统、安装机台等部分组成，体现立方整体外观，适用于超净间间壁..

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程控伺服匀胶机
型号：AC200-S-PP 参考价：￥咨询

ac200-s-pp匀胶机，伺服驱动，plc控制，7寸触屏，真空可调，支持加热，工业应用，处理基片能力强。概述了ac200-s-pp程控伺服匀胶机的核心特性与优势。

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离子束沉积设备
型号：NEXUS IBD-LDD 参考价：￥咨询

光掩模制造需要高水平的颗粒控制，同时沉积复杂的多层薄膜结构。veeco 的 nexus ibd-ldd 离子束沉积系统可以应对这一挑战。自 1990 年代以来，veeco 已成功服务于光掩..

所在地：美洲
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投影扫描光刻机
型号：DSC300 参考价：￥咨询

suss microtec公司推出了其下一代投影扫描光刻机‐dsc300投影扫描光刻机。这种有的扫描光刻平台拥有三位数的产能，并达到解析度（< 2 μm）的分辨率，是1x投影光刻系统中生产..

所在地：欧洲
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程控伺服匀胶机
型号：AC200-SE标准型参考价：￥咨询

ac200-se程控伺服匀胶机，高精度伺服驱动，plc智能控制，7寸触屏操作，耐溶剂材质，适用于多种工业应用。

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