半导体道工艺设备(第15页)_深圳市矢量科学仪器有限公司

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分类半导体道工艺设备

产品分类

干法刻蚀设备
型号：APIOS NE-950EX 参考价：￥咨询

干法刻蚀设备 apios ne-950ex对应led量产用的干法刻蚀设备｢ne-950ex｣相对我司以往设备实现了140%的生产力。是搭载了icp高密度等离子源..

所在地：日本
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干法刻蚀装置
型号：NLD-5700 参考价：￥咨询

对应光学器件、mems制造的干法刻蚀装置nld-5700对应光学器件、mems制造的干法刻蚀装置nld-5700是搭载了磁性中性线（nld- neutral loop discharge）..

所在地：日本
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电子束光刻设备
型号：ELS-BODEN Σ 参考价：￥咨询

els-boden σ这是elonix自创业以来多年来一直致力于开发的新型号的电子束光刻设备。采用模块系统，可以自由组合加速电压、腔室尺寸、传输机构和防振台，为每个应用构建佳单元。

所在地：日本
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电子束光刻设备
型号：ELS-BODEN 参考价：￥咨询

els-boden是由elionix开发的电子束光刻设备，非常适合研究和开发！支持从高清绘图到大电流高速绘图的广泛应用。

所在地：日本
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RIBER 分子束外延系统MBE
型号：Compact 21 参考价：￥咨询

自新千年到来之推出以来，compact 21 已成为有史以来成功的商用 3 英寸 mbe 系统。凭借核心 compact 21 dna 在所有配置（iii-v、ii-vi、gp iv、氧化..

所在地：欧洲
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电子束光刻设备
型号：ELS-HAYATE 参考价：￥咨询

els-hayate是由elionix研发的超高吞吐量电子束光刻设备，提供业界大的 5 毫米偏转。非常适合需要关注字段间拼接错误的应用。

所在地：日本
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离子束刻蚀设备
型号：EIS-200ERP 参考价：￥咨询

eis-200erp是由elionix研发的离子束刻蚀设备，紧凑和高性能，使用 ecr 离子束可以进行纳米蚀刻和沉积，制品特微。

所在地：日本
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原子层沉积
型号：Genesis ALD 参考价：￥咨询

用于电池、太阳能和柔性电子产品的功能性原子层沉积涂层。 genesis ald 是涂布任何卷筒格式基材以及多种功能应用的理想选择。多种 ald 材料可供选择，可满足您的要求。多年来，be..

所在地：港澳台
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RIBER分子束外延4 英寸中试生产系统
型号：MBE 412 参考价：￥咨询

riber 的 mbe 412 正受到越来越多与工业合作伙伴合作开展应用项目的关键研究机构的关注。这种兴趣的增加部分归因于 4 英寸（或 3 x 2 英寸）容量在这种类型的战略合作伙伴关系..

所在地：欧洲
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离子束刻蚀设备
型号：EIS-1500 参考价：￥咨询

eis-1500是由elionix研发的108mm的大直径光束，通过充分利用光束面内分布监控功能，可以实现各向异性干法蚀刻的离子束刻蚀设备。

所在地：日本
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Riber分子束外延系统
型号：MBE 49 参考价：￥咨询

riber mbe 49 系列全自动生产机器为材料质量、产量、产量以及与操作和维护相关的成本设定了行业标准。超过55个这样的系统已经在全球范围内交付，他们为客户带来的成功使该系列反应器获得..

所在地：欧洲
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Riber分子束外延系统
型号：MBE 6000 参考价：￥咨询

riber分子束外延（mbe）系统是一款在半导体及光电子域广泛应用的先进设备，以其高精度、高纯度和低温生长的特点而著称。

所在地：欧洲
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AE物理气相沉积平台
型号：Covap 参考价：￥咨询

covap pvd 平台为许多过程应用提供了紧凑、经济且仍然强大的解决方案。为需要安全可靠的工具的实验室而设计，该工具可在紧凑的占地面积内生产可重复的高质量薄膜。沉积源被隔离，以减少热效应..

所在地：美洲
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AE物理气相沉积平台
型号：Nexdep 参考价：￥咨询

nexdep pvd平台在经济性和多功能性之间取得了平衡。它可以配备强大的工艺增强功能，而不会占用实验室的所有空间或预算。您的研究目标、生产需求和/或应用终目标将告知如何装备您的 nexd..

所在地：美洲
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新型离子枪
型号：ESC-101 参考价：￥咨询

通过采用结合空心阳离子枪和磁控管离子枪的新型离子枪，可实现了超精细结构的薄膜。

所在地：日本
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阿莫德物理气相沉积平台
型号：Amod 参考价：￥咨询

angstrom engineering 的 amod pvd 平台是一款物理气相沉积系统该 pvd 平台开始允许更大的腔室投射距离，并能够适应更多的工艺增强功能。您的研究目标、生产需求和..

所在地：美洲
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物理气相沉积平台
型号：AE EvoVac 参考价：￥咨询

evovac pvd 平台可以做任何您需要的事情。它有一个大腔室，可以配备您需要的任何源或工艺增强。evovac 物理气相沉积平台是我们具可定制性的单腔室平台，因此它可以配备用于特定应用的..

所在地：美洲
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CIF 实验室型等离子清洗机
型号：CPC-F/Fplus 参考价：￥咨询

cif 实验室型等离子清洗机设备在材料学，光学，电子学，医药学，环境学、生物学等科研域，主要用于材料表面进行清洗、活化、改性等目的。cif推出的新一代等离子体清洗设备，合理的结构设计，优化..

所在地：中国大陆
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CIF 生产型等离子清洗机
型号：CPC系列参考价：￥咨询

cif推出的cpc系列生产型等离子清洗机是为研发型客户和工业客户而设计的等离子体表面处理设备，配置丰富，且真空腔体里可分层，适合大多数生产场景。适用于等离子清洗，活化以及刻蚀等多种应用，设..

所在地：中国大陆
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