半导体道工艺设备(第6页)_深圳市矢量科学仪器有限公司

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分类半导体道工艺设备

产品分类

部件镀膜设备
型号：KaLine 8V 参考价：￥咨询

本装置是在真空状态中向产品外部涂层非导体的设备,在真空内产品做自空传,由能保持一定的膜厚度构成的.

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部件镀膜设备
型号：For Half Mirror Coating 参考价：￥咨询

在高真空环境中,我们发明了一种创新的in-line sputter生产技术,实现了高大量生产率和出色的品质。这款1carrier/20sheet(a4 size)产品采用了both sid..

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部件镀膜设备
型号：HVD-1800 Series 参考价：￥咨询

它实现高大量生产性的高真空基本sputter - 可以生产1batch/900ea以上的产品，以沉积及sputter工序的佳化，提升emi莫品质 - 证明“沉积-sputter-沉积-sp..

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部件镀膜设备
型号：Batch Type 参考价：￥咨询

实现高大量生产率的高真空基础in-line sputter

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部件镀膜设备
型号：KaRon 设备参考价：￥咨询

本装置是在真空状态下在产品外部涂层非导电体的coating设备，由真空内产品做着自传，公转,并能保持一定的膜厚度.

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卷对卷溅射镀膜系统
型号：Roll to Roll Sputtering System 参考价：￥咨询

本装置是在真空状态下用于micro phone的厚度为4u film的gold(au)做sputtering的设备.

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卷对卷溅射系统
型号：KaRoll RTR1C 参考价：￥咨询

本装置在真空状态中对pet film，以ito或metal coating的设备, heating, plasma etching, sputter工序可以.

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深硅刻蚀机
型号：HSE 系列参考价：￥咨询

hse m200主要用于4/6/8英寸深硅干法刻蚀工艺。可以配置手动及自动传输系统。产品配置高密度双立体等离子体源，中心边缘进气，快速气体切换，低频脉冲下电系统，可以实现高速、高深宽比、高..

所在地：中国大陆
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6/8英寸全自动槽式清洗机
型号：GAMA Series 参考价：￥咨询

gama系列6/8英寸全自动槽式清洗机满足全部湿法工艺需求，覆盖rca、pr strip、solvent、wet etch等应用，可用于典型0.35um、0.18um工艺节点，可支持90n..

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12英寸槽式清洗设备
型号：Pinnacle300 参考价：￥咨询

pinnacle300平台适用于集成电路、功率半导体、衬底材料、硅基微显示域的清洗工艺。该机台主要由传输模块、工艺模块、药液供给系统、电源柜等组成。传输模块将晶圆传送到指定位置，可同时传送..

所在地：中国大陆
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高真空电子束及热阻蒸发薄膜沉积系统
型号：DZS500 参考价：￥咨询

产品概述：高真空电子束及热阻蒸发薄膜沉积系统主要由蒸发真空室、e型电子枪、热阻蒸发组件、旋转基片加热台、工作气路、抽气系统、真空测量、安装机台及电控系统等部分组成，自动控制软件系统。设备用..

所在地：中国大陆
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深硅刻蚀机
型号：PSE V300 参考价：￥咨询

pse v300主要用于12英寸深硅刻蚀，同时兼具bosch/non-bosch工艺，实现多工艺域覆盖。该机台针对bosch循环工艺方式采用业先进的快速响应硬件配置及软件流程控制，结合先进..

所在地：中国大陆
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光刻胶
型号：RZJ-304 参考价：￥咨询

主要由丙二醇甲醚醋酸酯（cas-no.108-65-6，浓度 73%）、甲酚 - 甲醛酚醛树脂（cas-no.9016-83-5，浓度 21%）、6 - 重氮 - 5,6 - 二氢 - 5..

所在地：中国大陆
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箱式涂布机
型号：Box Coater 参考价：￥咨询

箱式涂布机是一种灵活的、与洁净室兼容的涂布平台，能够从小批量生产到大批量生产，能够主动建模和校正膜厚不均匀性、材料产量和产量。您的研究目标、生产需求和/或应用终目标将告知如何装备您的箱式涂..

所在地：美洲
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碳化硅沉积系统
型号：G10-碳化硅参考价：￥咨询

g10-碳化硅150 mm 和 200 mm – 支持双晶圆尺寸 – 为您的未来投资提供保障市场上高的晶圆产量 / m2市场上晶圆出色的运行过程性能高度均匀、低缺陷的 sic 外延工艺，可..

所在地：欧洲
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化合物半导体沉积系统
型号：CCS系统参考价：￥咨询

化合物半导体沉积系统用于研发的封闭耦合淋浴喷头® ccs系统“用于研发和小规模生产的灵活mocvd系统”

所在地：欧洲
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化合物半导体沉积系统
型号：AIX G5+ C 参考价：￥咨询

化合物半导体沉积系统“行星式反应器模块，用于在150/200毫米衬底（si/蓝宝石/sic）上应用氮化镓，可提高生产率和晶圆性能”

所在地：欧洲
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化合物半导体沉积系统
型号：AIX G5 WW C 参考价：￥咨询

化合物半导体沉积系统aix g5 ww c“下一代碳化硅电力电子器件的佳性能，以应对全球大趋势”高吞吐量批量外延与单晶圆控制 - 两全其美。

所在地：欧洲
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等离子清洗和加热机
型号：PTP-300 参考价：￥咨询

由德国unitemp研发的等离子清洗和加热机，大零件装载面积：305 mm x 305 mm（大零件高度为 25 mm）。

所在地：欧洲
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分子束外延薄膜沉积系统
型号：MBE 8000 参考价：￥咨询

分子束外延薄膜沉积系统mbe 8000旨在满足对高性能化合物半导体器件日益增长的需求。这种在超高压环境中使用超纯金属的 8×6ʺ 或 4×8ʺ 固源 mbe 系统在设计..

所在地：欧洲
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