半导体道工艺设备(第14页)_深圳市矢量科学仪器有限公司

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分类半导体道工艺设备

产品分类

深硅刻蚀设备
型号：RIE-400iPB 参考价：￥咨询

rie-400ipb是一款电感耦合等离子体放电设备，用于博世mems和电子元件工艺中的高速硅深孔加工。rie-800ipb是为研究和开发目的而改装的。该系统由robert bosch gm..

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等离子体（ICP）刻蚀设备
型号：RIE-400iPC 参考价：￥咨询

高密度等离子体蚀刻系统采用电感耦合等离子体作为放电形式。该系统配备了真空盒室，是一个具有优良工艺重复性和稳定性的全规模生产系统。该系统是直径4英寸等小直径晶圆的用系统，可以在小的洁净室空间..

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等离子体（ICP）刻蚀设备
型号：RIE-800iPC 参考价：￥咨询

高密度等离子体蚀刻系统采用电感耦合等离子体作为放电形式。该系统配备了真空盒室，是一套完整的生产系统，具有优良的工艺重复性和稳定性。

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等离子体（ICP）刻蚀设备
型号：RIE-350iPC 参考价：￥咨询

rie-350ipc是一种盒式装载电感耦合等离子体(icp)蚀刻设备，可处理多达ø350毫米的载盘，用于多晶圆批量处理。该系统为各种蚀刻应用提供了坚固可靠的硬件和卓越的工艺控制，..

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等离子体（ICP）刻蚀设备
型号：RIE-400iP 参考价：￥咨询

rie-400ip是用于ø4 "晶圆的负载锁定型蚀刻系统，可对各种半导体和绝缘膜进行高精度、高均匀性加工。采用独特的龙卷风线圈的电感耦合等离子体(inductively coup..

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等离子体（ICP）刻蚀设备
型号：RIE-230iPC 参考价：￥咨询

rie-230ipc是以电感耦合等离子体为放电方式，高速进行各种材料的超精细加工的盒式icp蚀刻系统。该系统通过采用独特的龙卷风式线圈电，高效地产生稳定的高密度等离子体，实现了对硅、各种金..

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等离子体（ICP）刻蚀设备
型号：RIE-230iP 参考价：￥咨询

rie-230ip是以电感耦合等离子体为放电方式，高速进行各种材料的超精细加工的负载锁定型icp蚀刻系统。该系统通过采用独特的龙卷风式线圈电，高效地产生稳定的高密度等离子体，可对硅及各种金..

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RIE等离子刻蚀设备
型号：RIE-10NR 参考价：￥咨询

rie-10nr是一种新型的低成本、高性能的全自动反应离子蚀刻系统，它能满足非腐蚀性气体化学苛刻的工艺要求。计算机化的触摸屏为参数控制和存储提供了一个用户友好的界面。该系统可实现精确的侧壁..

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等离子体（ICP）刻蚀设备
型号：RIE-800iP 参考价：￥咨询

高密度等离子体蚀刻系统采用电感耦合等离子体作为放电形式。该系统配备了真空盒室，是一套完整的生产系统，具有优良的工艺重复性和稳定性。

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RIE等离子刻蚀系统
型号：RIE-200NL 参考价：￥咨询

rie-200nl是一种负载锁定型的反应离子蚀刻系统，它提高了工艺的可重复性，并允许腐蚀性气体化学。完全优化的工艺室设计可在ø8 "晶圆或ø220mm小晶圆的载盘上提供..

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RIE等离子刻蚀设备
型号：RIE-200C 参考价：￥咨询

rie-200c是在拥有丰富交货业绩的ccp rie系统 "rie-10nr "的基础上开发的量产型盒式装载系统。该系统可对si、poly-si、sio₂、sin等各种硅薄膜进..

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RIE等离子刻蚀设备
型号：RIE-300NR 参考价：￥咨询

rie-300nr是一种理想的反应离子蚀刻系统，适用于加工ø300mm晶圆和多晶圆（ø3"×12，ø4"×8等），具有优异的均匀性。该系统的设计旨在大限度地减..

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紧凑型刻蚀机
型号：RIE-1C 参考价：￥咨询

rie-1c是用于半导体芯片故障分析的小型台式干式蚀刻系统。可以高效、低损伤地去除钝化膜。它操作简单，样品放置后只需按一下按钮就可以完成整个过程。可以放在桌面上，也可以选择用支架。

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卷绕式溅射设备
型号：SPW系列参考价：￥咨询

卷绕式溅射设备spw系列spw系列设备，是可在塑料薄膜上进行光学膜、金属膜等多层成膜的卷绕式设备。实施成膜室间的气氛分隔，可以使高性能的多层膜一次性成膜。

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批次式溅射设备
型号：SV系列参考价：￥咨询

批次式溅射设备sv系列sv系列为纵型batch式溅射设备。为可以处理大量基板的回转型设备。

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Load-lock式溅射设备
型号：CS-200 参考价：￥咨询

load-lock式溅射设备cs-200load-lock式溅射设备cs-200，是可对应从研究开发到小规模量产的溅射设备。

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溅射镀膜设备（立式）
型号：SMD系列参考价：￥咨询

溅射镀膜设备smd系列（立式）smd 系列是镀金属膜、ito、igzo、诱电体膜等的枚叶式溅射镀膜设备。仅smd系列就有超过1000台的丰富的采用实绩，在各种各样的生产环境下运转。及时反映..

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刻蚀设备
型号：NE-5700/NE-7800 参考价：￥咨询

量产用刻蚀设备ne-5700/ne-7800量产用刻蚀设备ne-5700/ne-7800是可以对应单腔及多腔、重视性价比拥有扩展性的刻蚀设备。

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高密度等离子刻蚀装置
型号：ULHITETM NE-7800H 参考价：￥咨询

高密度等离子刻蚀装置ulhitetm ne-7800h高密度等离子客户装置ulhite ne-7800h是对应刻蚀feram、mram、reram、pcram等器件所用的高难度刻蚀材料（强..

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NLD干法刻蚀设备
型号：NLD-570 参考价：￥咨询

研究开发向nld干法刻蚀设备nld-570研究开发向nld干法刻蚀设备nld-570，是搭载了爱发科磁性中性线（nld- neutral loop discharge）等离子源的装置，此n..

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