1. 产品概述

RIE-10NR是一种新型的低成本、高性能的全自动反应离子蚀刻系统，它能满足非腐蚀性气体化学苛刻的工艺要求。计算机化的触摸屏为参数控制和存储提供了一个用户友好的界面。该系统可实现精确的侧壁轮廓控制和材料间的高蚀刻选择性。RIE-10NR具有时尚、紧凑的设计，需要小的洁净室空间。

2. 设备用途/原理

Si、SiO2、SiN、Poly-Si、GaAs、Mo、Pt、Polyimide等各种材料的蚀刻。故障分析中的选择性层蚀刻。光阻剂的灰化、剥离和除尘。表面改性（润湿性和附着力的改善）。

3. 设备特点

大加工范围：ø220 mm (ø3" x 5, ø4" x 3, ø8" x 1)。高选择性各向异性蚀刻满足苛刻的工艺要求。全自动 "一键式 "操作，可完全手动操作。计算机触摸屏为参数控制和存储提供了一个用户友好的界面。自动压力控制，可精确控制工艺压力，不受气体流量影响。干式泵和系统布局便于维护。可靠和耐用的系统，全球安装了400多个系统。