1. 产品概述

RIE-300NR是一种理想的反应离子蚀刻系统，适用于加工ø300mm晶圆和多晶圆（ø3"×12，ø4"×8等），具有优异的均匀性。该系统的设计旨在大限度地减少工厂空间需求，提高产量，大限度地延长正常运行时间，并通过可靠的硬件和便捷的服务降低拥有成本。

2. 设备用途/原理

去除夹层膜，用于ø300mm的失效分析。蚀刻Si、SiO2、SiN和聚硅氧烷。树脂的蚀刻和脱胶。光阻剂的灰化、剥离和除尘。表面改性（润湿性和粘附性的改善。

3. 设备特点

大加工范围：ø350 mm (ø3" x 12, ø4" x 8, ø12" x 1)。用户友好的触摸屏界面全自动 "一键式 "操作，可完全手动操作。优化的喷淋头可提供工艺气体的均匀性。减少停留时间的近距离耦合气体输送箱。对称的疏散设计与TMP相结合，形成了有效的流动。自动压力控制，可精确控制工艺压力，不受气体流量影响。干式泵和系统布局便于维护。