1. 产品概述

FLOURIS 201系列 8英寸立式炉，高精度温度场控制技术，可实现 1200℃ 内氧化退火工艺。

2. 设备用途/原理

FLOURIS 201系列 8英寸立式炉，高精度温度场控制技术，可实现 1200℃ 内氧化退火工艺，先进的颗粒控制技术，优良的膜厚均匀性控制技术，图形化操作界面和群组管理系统。

3. 设备特点

晶圆尺寸 8 英寸，适用材料 硅、碳化硅。适用工艺 高温氧化、退火、常压合金、Polyimide 固化。适用域 科研、化合物半导体、集成电路。