CIF推出的CPC系列生产型等离子清洗机是为研发型客户和工业客户而设计的等离子体表面处理设备，配置丰富，且真空腔体里可分层，适合大多数生产场景。适用于等离子清洗，活化以及刻蚀等多种应用，设备可在严苛环境下稳定运行，产品性能稳定，样品处理重复性、一致性好。
二、产品特点

1. 7寸彩色触摸屏互动操作界面，图形化用户操作界面显示，自动监测工艺参数状态，0~99个配方程序，可存储、输出、追溯工艺数据，机器运行、停止提示。

2. PLC工控机控制整个清洗过程，手动、自动两种工作模式。

3. 采用质量流量计，气体流量控制更准确。标配双路气体输送系统，可选多气路气体输送系统，气体分配均匀。可输入氧气、氩气、氮气、四氟化碳、氢气或混合气体等气体。

4. 采用花洒式多孔进气方式，改变传统等离子清洗机单孔进气不均匀问题。

5. HEPA高效过滤，气体返填吹扫，防止二次污染。

6. 316不锈钢真空仓，洁净无污染。

7. 全真空管路系统采用316不锈钢材质。

8. 处理高效均匀，效率高，工艺重复性好。

9. 合理的结构设计，设备占用空间小。

10. 可处理各种材质、形状、尺寸样品。

11. 样品处理温度低，无热损伤和热氧化。

12. 使用成本低、耗损小。

13. 产品性能稳定，安装与维护，简便方便。

14. 安全保护，仓门打开，自动关闭电源。

三、技术参数