物理气相沉积（PVD）平台是一种在真空环境中，通过物理方法将固体或液体材料源表面气化成气态原子、分子或离子，并沉积在基体表面形成具有特定功能的薄膜的设备。PVD平台通常包括真空系统、加热系统、气体控制系统、沉积室、基体支撑及驱动系统等部分。AE物理气相沉积平台可能集成了这些关键技术组件，以提供高效、精确的薄膜沉积解决方案。

2 设备用途：

AE物理气相沉积平台的主要用途包括：

1. 表面改性：通过沉积耐磨、耐腐蚀、导电、绝缘、润滑等特性的薄膜，改善基体材料的表面性能。
2. 功能薄膜制备：制备具有光导、压电、磁性、超导等功能的薄膜，应用于电子、光学、传感器等域。
3. 装饰和保护：在高档手表、珠宝、建筑材料等表面沉积金属或合金薄膜，提供美观和防腐蚀保护。
4. 微纳加工：在微电子、半导体、纳米技术等域，制备高精度、高质量的薄膜结构。

3 设备特点

高精度和均匀性：通过精确控制沉积参数，如温度、压力、气体流量等，实现薄膜的高精度和均匀性沉积。

多功能性：支持多种PVD技术，如真空蒸发镀膜、真空溅射镀膜、真空离子镀膜等，满足不同应用需求。

环保和节能：在真空环境中进行沉积，减少环境污染；采用高效能源利用技术，降低能耗。

自动化和智能化：集成计算机控制系统，实现自动化操作和智能化监控，提高生产效率和产品质量。

Angstrom Engineering 的 Amod PVD 平台是一款物理气相沉积系统，以下是其一些技术特点和应用：
技术参数和特点：

• 尺寸：可生产100-1200mm基板。
• 镀膜源：溅射（射频、直流、脉冲直流、HIPIMS 和反应式）、热蒸发（使用各种舟形、丝状和坩埚加热器）、电子束蒸发（提供多种源功率和电源选项）。
• 等离子和离子束处理：使用一系列离子源进行清洗和薄膜增强，包括辉光放电等离子清洗。

紧凑的 600 mm x 1000 mm 系统占用空间。涡轮分子泵提供高真空。QCM传感器经过精心隔离，以确保不会受到相邻源材料的干扰。包括全系统培训。
特征基于配方的高多层控制。顺序沉积或共同沉积。夹具支持高达 100mm x 100mm 的基材。准备进行手套箱集成。源配置可轻松安装大 100 mm x 100 mm 的基板尺寸。腔室可容纳 2 或 4 个热阻源。