产品配件展示-深圳市矢量科学仪器有限公司

全部配件耗材新品推荐促销产品

等离子体增强型CVD系统
型号：PD-200STL 参考价：￥咨询

pd-200stl是一种用于研发的低温(80~400℃)、高速(>300nm/min)等离子体增强型cvd系统。samco的液态源cvd系统采用自偏置沉积技术和液态teos源，以低应力沉积..

所在地：日本发布时间：2024/8/15
查看详情索取资料
电感耦合等离子体
型号：RIE-800iPB 参考价：￥咨询

samco 的 rie-800ipb 是一种电感耦合等离子体刻蚀设备，使用高密度等离子体进行 mems 和 tsv 应用所需的深度硅蚀刻。rie-800ipb是为bosch工艺设计的用硅蚀..

所在地：日本发布时间：2024/8/15
查看详情索取资料
深硅刻蚀设备
型号：RIE-802BCT 参考价：￥咨询

rie-802bct深硅刻蚀设备是采用电感耦合等离子体作为放电形式的两个反应室的量产用硅深孔系统。标准配置有空气盒和晶圆边缘保护环，以及高精度的晶圆对准器。该高性能系统能够进行高长宽比加工..

所在地：日本发布时间：2024/8/15
查看详情索取资料
等离子体刻蚀设备
型号：RIE-800iPC 参考价：￥咨询

高密度等离子体刻蚀设备系统采用电感耦合等离子体作为放电形式。该系统配备了真空盒室，是一套完整的生产系统，具有优良的工艺重复性和稳定性。

所在地：日本发布时间：2024/8/15
查看详情索取资料
多功能溅射、电子束和热蒸发沉积平台
型号：PRO Line PVD 200 参考价：￥咨询

kurt j. lesker company pro line pvd 200 是一种模块化、功能齐全的薄膜沉积系统，可实现 8 英寸晶圆转移、多达 8 个溅射阴和 eklipse 高控制..

所在地：美洲发布时间：2024/8/15
查看详情索取资料
CT系统
型号：CA20型参考价：￥咨询

用于先进封装的亚微米3dx射线，ca20旨在以高分辨率提供卓越的2d和3d图像，它允许对微米细节进行快的检测，并有助于缩短复杂3d ic的上市时间。

所在地：欧洲发布时间：2024/8/15
查看详情索取资料
等离子体刻蚀设备
型号：RIE-400iP 参考价：￥咨询

rie-400ip是用于ø4 “晶圆的负载锁定型蚀刻系统，等离子体（icp）刻蚀设备可对各种半导体和绝缘膜进行高精度、高均匀性加工。采用龙卷风线圈的电感耦合等离子体(induct..

所在地：日本发布时间：2024/8/15
查看详情索取资料
等离子体刻蚀设备
型号：RIE-230iP 参考价：￥咨询

rie-230ip是以电感耦合等离子体为放电方式，高速进行各种材料的超精细加工的负载锁定型icp蚀刻系统。该系统通过采用龙卷风式线圈电，高效地产生稳定的高密度等离子体，可对硅及各种金属薄膜..

所在地：日本发布时间：2024/8/15
查看详情索取资料
等离子刻蚀设备
型号：RIE-10NR 参考价：￥咨询

rie-10nr是一种新型的低成本、高性能的全自动rie等离子刻蚀设备，它能满足非腐蚀性气体化学苛刻的工艺要求。计算机化的触摸屏为参数控制和存储提供了一个用户友好的界面。

所在地：日本发布时间：2024/8/15
查看详情索取资料
CT系统
型号：CC系列参考价：￥咨询

cc系列亮点可靠、快速、可重复的检测 - 手动和自动使用 voidinspect 自动计算空隙易于使用的动态增强滤镜，例如 ehdr&#

所在地：欧洲发布时间：2024/8/15
查看详情索取资料
等离子体（ICP）刻蚀设备
型号：RIE-800iP 参考价：￥咨询

高密度等离子体刻蚀设备采用电感耦合等离子体作为放电形式。该系统配备了真空盒室，是一套完整的生产系统，具有优良的工艺重复性和稳定性。

所在地：日本发布时间：2024/8/14
查看详情索取资料
等离子刻蚀设备
型号：RIE-200C RIE 参考价：￥咨询

rie-200c是在拥有丰富交货业绩的ccp rie系统 “rie-10nr “的基础上开发的量产型盒式装载系统。该系统可对si、poly-si、sio₂、sin等各种硅薄膜进..

所在地：日本发布时间：2024/8/14
查看详情索取资料
等离子刻蚀设备
型号：RIE-300NR RIE 参考价：￥咨询

rie-300nr是一种理想的rie等离子刻蚀设备，适用于加工ø300mm晶圆和多晶圆（ø3“×12，ø4“×8等），具有优异的均匀性。该系统的设计旨在大限度..

所在地：日本发布时间：2024/8/14
查看详情索取资料
紧凑型刻蚀设备
型号：RIE-1C 参考价：￥咨询

rie-1c是用于半导体芯片故障分析的小型台式干式蚀刻系统。可以高效、低损伤地去除钝化膜。它操作简单，样品放置后只需按一下按钮就可以完成整个过程。可以放在桌面上，也可以选择用支架。

所在地：日本发布时间：2024/8/14
查看详情索取资料
等离子清洗设备
型号：PC-300 参考价：￥咨询

pc-300是一种平行板式等离子清洗机，用于清洗样品表面的有机和无机污染。该工艺室允许用户安装多个电架，架式电配置的灵活性支持从研究到小批量生产的各种产品的批量处理。

所在地：日本发布时间：2024/8/14
查看详情索取资料
紫外线臭氧清洗机
型号：UV-1 参考价：￥咨询

uv-1是一款紧凑型台式紫外线臭氧清洗机。该系统将紫外线照射、臭氧和平台加热结合在一起，温和而有效地去除硅、玻璃、化合物半导体（gan、gaas、inp、sic）、蓝宝石、陶瓷等各种基材上..

所在地：日本发布时间：2024/8/14
查看详情索取资料
紫外线臭氧清洗机
型号：UV-300H 参考价：￥咨询

uv-300h是一款高性能的紧凑型紫外线臭氧清洗机。通过滑动抽屉将基材装入系统中。紫外线照射、高浓度臭氧和阶段性加热的组合，可温和而有效地去除硅、玻璃、化合物半导体（gan、sic、gaa..

所在地：日本发布时间：2024/8/14
查看详情索取资料
紫外线臭氧清洗设备
型号：UV-300HC 参考价：￥咨询

uv-300hc是一款高性能的盒式装载uv臭氧清洗机，用于生产。这个行业先的系统有2个装载盒，可以达到200-300nm/min的高灰化率。该系统利用紫外线照射、高浓度臭氧和可控阶段加热的..

所在地：欧洲发布时间：2024/8/14
查看详情索取资料
等离子体沉积ALD
型号：AD-230LP 参考价：￥咨询

ad-230lp是一种原子层沉积（ald）系统，能够在原子水平上控制薄膜厚度。有机金属原料和氧化剂交替供给反应室，仅通过表面反应进行薄膜沉积。该系统具有负载锁定室，且不向大气开放反应室，因..

所在地：日本发布时间：2024/8/14
查看详情索取资料
CT系统
型号：UX系列参考价：￥咨询

无论是大型电机缸体、大型钢制部件还是复杂的电动汽车部件，comet yxlon ux50 ct 系统都能在创纪录的时间内扫描具挑战性的物品。ux50 在线和平板探测器之间快速切换，用户界面..

所在地：欧洲发布时间：2024/8/14
查看详情索取资料