液体原料CVD设备 PD-200STL负载锁定系统，大可达Ø200毫米（8"）

概要

PD-200STL是一种用于研发的低温(80~400℃)、高速(>300nm/min)等离子体增强型CVD系统。Samco的液态源CVD系统采用自偏置沉积技术和液态TEOS源，以低应力沉积SiO2薄膜，从薄膜到厚的薄膜（高达100μm）。PD-200STL具有时尚、紧凑的设计，只需要小的洁净室空间。

主要特点和优点

• 加工范围达Ø200毫米（8"）。

• 阴耦合自偏析沉积技术可以实现低应力薄膜的高速（>300nm/min）沉积。

• 通过低温沉积，可以在塑料表面上沉积薄膜。

• 高纵横比结构的优秀阶梯覆盖率

• 使用锗、磷、硼液源控制折射率。

• PD-200STL设计时尚、紧凑，只需要小的洁净室空间。

应用

• 塑料材料上保护膜的沉积

• 在3D LSI的通孔侧壁上沉积绝缘膜。

• 光波导的制造（光纤芯/包层）。

• 制造用于微型机械生产的面罩。

• 覆盖高纵横比结构，如MEMS器件。

• SAW设备的温度补偿膜和钝化膜。