RIE-300NR是一种理想的反应离子蚀刻系统，适用于加工ø300mm晶圆和多晶圆（ø3"×12，ø4"×8等），具有优异的均匀性。该系统的设计旨在大限度地减少工厂空间需求，提高产量，大限度地延长正常运行时间，并通过可靠的硬件和便捷的服务降低拥有成本。

• 大加工范围：ø350 mm (ø3" x 12, ø4" x 8, ø12" x 1)

• 用户友好的触摸屏界面

• 全自动 "一键式 "操作，可手动操作。

• 优化的喷淋头可提供工艺气体的均匀性。

• 减少停留时间的近距离耦合气体输送箱。

• 对称的疏散设计与TMP相结合，形成了有效的流动。

• 自动压力控制，可精确控制工艺压力，不受气体流量影响。

• 干式泵和系统布局便于维护。