产品耗材展示-深圳市矢量科学仪器有限公司

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中央供药系统
型号： customized 参考价：￥咨询

中央供药系统用于厂内供药，通过该系统可以按照设定的配比，将特定的药液通过相应的管路供应到制程中。适用药液包括：酸性（h2so4,hcl,hno3,h3po4,hf,boe等），碱性（nh4..

所在地：中国大陆发布时间：2023/5/30
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半导体研磨抛光机
型号： customized 参考价：￥咨询

半导体研磨抛光机是一款操作简单的桌面型单面抛光设备，可搭配铜盘、锡盘、玻璃盘、不锈钢盘等，配合不同类型的抛光液，适用于各种半导体材料的研磨抛光，满足科研院校、企业的研发及小批量生产

所在地：欧洲发布时间：2023/5/30
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减薄机
型号： customized 参考价：￥咨询

1. 可根据客户需求定制化各类工作台，满足各类半导体材料的研削薄化工艺2. 大晶圆尺寸：8英寸3. 砂轮规格：Ø203(od)mm4. 砂轮轴转速范围：0~6000 rpm5. ..

所在地：中国大陆发布时间：2023/5/30
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划片机
型号： customized 参考价：￥咨询

应用方向：半导体晶圆、集成电路、qfn、发光二管、led芯片、太阳能电池、电子基片等的划切，适用于包括硅、石英、陶瓷、氧化铝、氧化铁、砷化镓、铌酸锂、蓝宝石和玻璃等

所在地：中国大陆发布时间：2023/5/30
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CMP后清洗机
型号： customized 参考价：￥咨询

该系列设备是晶圆cmp后的用清洗设备，有单工位、转位式、连线式等不同结构，以适用不同应用场景，其中连线式设备加配全自动上下片系统。该系列设备配有漂洗、双面刷洗、兆声清洗、n2吹干、高速甩干..

所在地：其它发布时间：2023/5/30
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化学机械抛光机CMP
型号： customized 参考价：￥咨询

1.该化学机械抛光机可用于各类半导体集成电路、氧化物、金属、sti、soi等产品的cmp平坦化抛光。通过更换抛光头可兼容4、6、8英寸晶圆2.系统功能：手动上下片，程序自动进行抛光，配有..

所在地：欧洲发布时间：2023/5/30
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激光退火设备
型号： customized 参考价：￥咨询

半导体激光退火机是用于半导体制造过程中的一种设备。退火是一种热处理过程，通过加热半导体材料来改变其性质，以实现所需的特性，如电导率、晶体结构和应力缓解。半导体激光退火机利用高能激光束来对半..

所在地：中国大陆发布时间：2023/5/30
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快速退火炉RTP
型号： customized 参考价：￥咨询

主要功能：快速热退火，快速热氧化，快速热氮化，扩散，化合物半导体退火，离子注入后退火，电合金化等。

所在地：中国大陆发布时间：2023/5/30
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离子注入机
型号： customized 参考价：￥咨询

离子注入机是高压小型加速器中的一种，应用数量多。它是由离子源得到所需要的离子，经过加速得到几百千电子伏能量的离子束流，用做半导体材料、大规模集成电路和器件的离子注入，还用于金属材料表面改性..

所在地：中国大陆发布时间：2023/5/30
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分子束外延薄膜沉积系统MBE
型号： customized 参考价：￥咨询

分子束外延薄膜沉积系统mbe 是在超高真空系统中把所需要的结晶材料放入到喷射炉中，将喷射炉加热。使结晶材料形成分子束，从炉中喷出后，沉积在高温的单晶基片上。如果设置几个喷射炉，就可以制取多..

所在地：中国大陆发布时间：2023/5/30
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化学气相沉积MOCVD
型号： customized 参考价：￥咨询

mocvd设备是通过将反应物质以有机金属化合物气体分子的形式，经载带气体送到反应室，进行热分解反应而生长出薄膜材料。应用方向：ga2o3,gan, inp, gaas, insb, gai..

所在地：中国大陆发布时间：2023/5/29
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深硅刻蚀系统DEEP SI ETCH
型号： customized 参考价：￥咨询

提供深硅蚀刻（dsie）域的mems，先进封装和纳米技术的广泛应用，从光滑侧壁工艺到高刻蚀速率腔刻蚀、高深宽比工艺和锥形通孔刻蚀，不需要更换腔室硬件就可以实现。

所在地：中国大陆发布时间：2023/5/29
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离子束刻蚀系统IBE
型号： customized 参考价：￥咨询

离子束刻蚀的灵活性、均匀性俱佳且应用范围广。我们的设备具有灵活的硬件选项，包括直开式、单衬底传送模式和盒式对盒式模式。系统配置与实际应用紧密协调，以确保获得速率更快且重复性更好的工艺结果。

所在地：中国大陆发布时间：2023/5/29
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反应性离子刻蚀系统RIE
型号： customized 参考价：￥咨询

可为多种材料提供各向异性干法刻蚀工艺，兼容200mm以下所有尺寸的晶圆，快速更换到不同尺寸的晶圆工艺，电的适用温度范围宽，-150°c至400°c。

所在地：欧洲发布时间：2023/5/29
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有掩膜光刻机
型号： MA12 Gen3 参考价：￥咨询

?1.手动、半自动、全自动有掩膜光刻机?2.高分辨率掩模对准光刻，特征尺寸优于0.5微米?3.基片尺寸可满足4、6、8、12英寸?4.经过特殊设计，方便处理各种非标准基片、例如混合、高频元..

所在地：欧洲发布时间：2023/3/10
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无掩膜/激光直写光刻机
型号： UV Litho-ACA 参考价：￥咨询

tp9000多路温度记录仪是一款支持多种温度传感器（热电偶、热电阻）同时测试记录，连接4g、wifi无线模块，实现数据远传，随时随地查看实时数据，数据超限手机微信/短信/电话等方式及时报警

所在地：中国大陆发布时间：2023/3/10
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电子束光刻系统
型号： eLINE Plus 参考价：￥咨询

eline plus -为多种原位纳米加工技术的宽带宽应用而设计，超越了典型的电子束光刻(ebl)。

所在地：欧洲发布时间：2023/3/10
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纳米压印系统
型号： GL6 R&D 参考价：￥咨询

1.支持基底材料：硅片、玻璃、石英、塑料、金属等2.纳米压印技术：旋涂胶基底高精度压印&点胶自动找平压印、旋涂胶基底压印、点胶自动找平压印模式3.压印精度：优于10nm4.自动压印/自动脱..

所在地：中国大陆发布时间：2023/3/10
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喷涂胶机
型号： AS8 参考价：￥咨询

产品介绍：1.在喷涂法中，喷嘴将要涂抹的溶液喷在晶圆上。经过优化后的晶圆上方喷嘴移动路径可以实现在衬底上均匀的涂层。喷涂所用的液体通常粘度低，以确保形成细小的液滴v 喷涂法即使在凹凸图形..

所在地：欧洲发布时间：2023/3/10
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实验型显影机
型号： customized 参考价：￥咨询

产品介绍：1.全封闭式桌面显影机，主要用于半导体制造中晶片的显影工艺，设备配有一路显影和一路水、一路气吹功能，并且喷嘴位置可程控移动，实现自动显影和清洗作业22.支持wafer尺寸：碎片至..

所在地：中国大陆发布时间：2023/3/10
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