1. 产品概述

离子束刻蚀的灵活性、均匀性俱佳且应用范围广。我们的设备具有灵活的硬件选项，包括直开式、单衬底传送模式和盒式对盒式模式。系统配置与实际应用紧密协调，以确保获得速率更快且重复性更好的工艺结果。

2. 设备特点

磁阻式随机存取存储器（MRAM）；

介电薄膜；

III-V族光电子材料刻蚀；

自旋电子学；

金属电和轨道；

超导体；

激光端面镀膜；

高反射（HR）膜；

防反射（AR）膜；

环形激光陀螺反射镜；

X射线光学系统；

红外（IR）传感器；

II-VI族材料；

通信滤波器。