薄膜沉积设备PVD(第3页)_深圳市矢量科学仪器有限公司

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分类薄膜沉积设备PVD

产品分类

高真空磁控溅射薄膜沉积系统
型号：TRP450 参考价：￥咨询

产品概述：高真空磁控溅射薄膜沉积系统可用于制备光学薄膜、电学薄膜、磁性薄膜、硬质保护薄膜和装饰薄膜等，工艺性能稳定、模块化结构，采用行业的软件控制系统。设备用途：可广泛应用于大院校、科研院..

所在地：中国大陆
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高真空磁控溅射粉末颗粒表面薄膜沉积系统
型号：PC450 参考价：￥咨询

高真空磁控溅射粉末颗粒表面薄膜沉积系统可以在粉末颗粒状样品表面镀制金属膜、磁性膜、绝缘膜等，采用行业的软件控制系统。可广泛应用于大院校、科研院所的粉末样品表面镀制薄膜材料的科研项目。

所在地：中国大陆
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高真空磁控溅射薄膜沉积系统
型号：JGP450 参考价：￥咨询

产品概述：高真空磁控溅射薄膜沉积系统可用于制备光学薄膜、电学薄膜、磁性薄膜、硬质保护薄膜和装饰薄膜等，工艺性能稳定、模块化结构，采用行业的软件控制系统。设备用途：用于纳米单层及多层功能膜、..

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高真空磁控溅射薄膜沉积系统
型号：JGP560 参考价：￥咨询

产品概述：高真空磁控溅射薄膜沉积系统可用于制备光学薄膜、电学薄膜、磁性薄膜、硬质保护薄膜和装饰薄膜等，工艺性能稳定、模块化结构，采用行业的软件控制系统。设备用途：用于纳米单层及多层功能膜、..

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高真空磁控溅射与离子束复合薄膜沉积系统
型号：FJL560 参考价：￥咨询

本沉积系统可用于制备光学薄膜、电学薄膜、磁性薄膜、硬质保护薄膜和装饰薄膜等，工艺性能稳定、模块化结构，采用行业先的软件控制系统。用于纳米单层及多层功能膜、硬质膜、金属膜、半导体膜、介质膜等..

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高真空脉冲激光溅射薄膜沉积系统
型号：PLD300 参考价：￥咨询

产品概述：系统主要由溅射真空室、旋转靶台、抗氧化基片加热台、工作气路、抽气系统、安装机台、真空测量及电控系统等部分组成。设备用途：用于制备超导薄膜、半导体薄膜、铁电薄膜、超硬薄膜等。广泛应..

所在地：中国大陆
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高真空脉冲激光溅射薄膜沉积系统
型号：PLD450 参考价：￥咨询

产品概述：系统主要由真空室、旋转靶台、基片加热台、工作气路、抽气系统、安装机台、真空测量及电控系统等部分组成。设备用途：脉冲激光沉积(pulsed laser deposition，简称p..

所在地：中国大陆
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铝物理气相沉积系统
型号：eVictor Al PVD 参考价：￥咨询

evictor al pvd 铝物理气相沉积系统，先进的磁控溅射系统，有效提高薄膜均匀性及靶材利用率。

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8英寸通用物理气相沉积系统
型号：Polaris系列参考价：￥咨询

polaris系列 8英寸通用物理气相沉积系统，多种材料膜层工艺能力，低损伤，高深宽比填充能力。

所在地：中国大陆
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12英寸通用物理气相沉积系统
型号：Polaris系列参考价：￥咨询

polaris系列 12英寸通用物理气相沉积系统，磁控溅射源和腔室结构的设计有效提高靶材利用率。

所在地：中国大陆
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溅射系统
型号：iTops PVD AlN 参考价：￥咨询

itops pvd aln 溅射系统，采用托盘形式，可兼容 2/4/6 英寸。

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溅射系统
型号：iTops PVD ITO 参考价：￥咨询

itops pvd ito 溅射系统,加热能力、精确的温度控制、优异的真空能力。

所在地：中国大陆
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8英寸通用物理气相沉积系统
型号：eVictor系列参考价：￥咨询

evictor系列 8英寸通用物理气相沉积系统，加热基座设计，具备良好的温度均匀性，高温厚铝工艺连续作业无累温。

所在地：中国大陆
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卷绕式溅射设备
型号：SPW系列参考价：￥咨询

卷绕式溅射设备spw系列spw系列设备，是可在塑料薄膜上进行光学膜、金属膜等多层成膜的卷绕式设备。实施成膜室间的气氛分隔，可以使高性能的多层膜一次性成膜。

所在地：日本
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批次式溅射设备
型号：SV系列参考价：￥咨询

批次式溅射设备sv系列sv系列为纵型batch式溅射设备。为可以处理大量基板的回转型设备。

所在地：日本
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Load-lock式溅射设备
型号：CS-200 参考价：￥咨询

load-lock式溅射设备cs-200load-lock式溅射设备cs-200，是可对应从研究开发到小规模量产的溅射设备。

所在地：日本
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溅射镀膜设备（立式）
型号：SMD系列参考价：￥咨询

溅射镀膜设备smd系列（立式）smd 系列是镀金属膜、ito、igzo、诱电体膜等的枚叶式溅射镀膜设备。仅smd系列就有超过1000台的丰富的采用实绩，在各种各样的生产环境下运转。及时反映..

所在地：日本
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AE物理气相沉积平台
型号：Covap 参考价：￥咨询

covap pvd 平台为许多过程应用提供了紧凑、经济且仍然强大的解决方案。为需要安全可靠的工具的实验室而设计，该工具可在紧凑的占地面积内生产可重复的高质量薄膜。沉积源被隔离，以减少热效应..

所在地：美洲
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AE物理气相沉积平台
型号：Nexdep 参考价：￥咨询

nexdep pvd平台在经济性和多功能性之间取得了平衡。它可以配备强大的工艺增强功能，而不会占用实验室的所有空间或预算。您的研究目标、生产需求和/或应用终目标将告知如何装备您的 nexd..

所在地：美洲
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新型离子枪
型号：ESC-101 参考价：￥咨询

通过采用结合空心阳离子枪和磁控管离子枪的新型离子枪，可实现了超精细结构的薄膜。

所在地：日本
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