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光刻机&3D打印机
- 德国Nnaoscrib
- 德国Heidelberg
- 德国Zeiss
- 德国Eulitha
- 瑞士Swisslitho AG
- 瑞典Mycronic
- 英国Durham
- 英国Nanobean
- NanoArch
- 德国ParcanNano 百及纳米针尖电子束光刻系统
- 德国SUSS
- 美国Sonoplot
- 美国Photonics
- 美国OAI
- China
- 俄罗斯Optosystem
- 美国Coherrent
- 中科院
- 纳米压印机
- Elinoix 电子束光刻机
- 尼康Nikon光刻机
- 奥地利EVG紫外纳米压印系统
- 激光微加工设备
- 瑞士 NnaoFrazor 光刻机
- 英国AML晶圆键合机
- 德国Raith 电子束光刻机
- 德 xiton 准分子激光器
镀膜沉积机
- 德国Iplas
- 德国Sentech
- 英国HHV
- 英国Oxford
- 英国Denton
- 芬兰Picosun
- 美国Nano-master
- 法国Iplas
- 美国TED Pella
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- 美国Denton Vacuum
- 美Arradiance
- 法国Plassys
- 英国Oxford Vacuum
- 日立Hitachi
- 美国Neocera
- 德国MBE-Komponenten 分子束外延系统
- 英国Quorum涡轮分子泵抽真空镀膜仪
- Syskey 镀膜系统
离子刻蚀与沉积
匀胶涂覆机
半导体辅助设备
半导体微纳检测仪器
- 德国Zeiss扫描电镜
- 德国KSI超声波扫描显微镜
- 德国Mecwins扫描式激光分析仪
- 美国Nanovea三维表面形貌仪
- 德国Sentech薄膜测量仪/光伏测量仪
- 德国Klocke Nanotech 3D纳米级三维测量仪
- 德国YXLON 高分辨率Ｘ射线检测设备
- 瑞士Nanosurf 原子力显微镜
- 日本Ribm原子力显微镜
- 日本AND粒子计数器
- 日本JEOL显微镜
- 德国Bruker光谱仪/显微镜/台阶仪
- 韩国Ecopia美国MMR霍尔效应测试仪
- 探针台
- 美国Sonix超声波扫描显微镜
- 美Royce拉力性能测试及芯片拾取放置
- 美国Filmetrics膜厚测量仪
- 美国RTI自动特性图示仪
- 美国TEX Keithley半导体参数分析仪
- 美国MMR霍尔效应测量仪
- 德国neaspec纳米级红外光谱仪
- 少子寿命测试仪
- 纳米压痕仪
- FEI扫描电镜Thermo光谱仪
- XRD X射线衍射仪
- X 射线多晶衍射仪
- 日本 IAS 化学检测分析系统
- 德国IPI 水汽分析系统
- 德国PVA TePla 超声波扫描显微镜
- 德国ThetaMetrisis膜厚测量仪
实验检测仪器
- PPMS 综合物性测量系统
- MPMS3最新一代磁学测量系统
- Anasazi 科研用小型无液氦核磁共振波谱仪
- DynaCool 全新一代完全无液氦综合物性测量系统
- Oxford pulsar 实验室智能核磁共振波谱仪
- 纽迈核磁共振分业析
- Neaspec 德国真空太赫兹近场光学显微镜
- OptoCool 超精准全开放强磁场低温光学研究平台
- 德Attocube低温强磁场原子力/磁力显微镜
- Super-ME-II多铁性磁电测量系统
- Bruker 手持拉曼光谱仪
- 德国耐驰Netzsch
- 德国Moeller 测角仪
- 美Associated 耐压测试仪
- 接触角测量仪
- 氟油检漏仪
- 光学式坐标测量仪
- 光功率计
- Thorlabs傅立叶红外光谱仪
- 纳米压痕仪
- 日本Tohuko 超高灵敏度材料氧化分析仪
- 超精细多功能无液氦低温光学恒温器
- 振动样品磁强计
- 法Alyxan 高分辨质子传递反应质谱
- nanosc 高精度铁磁共振仪
- 美Microsense 磁克尔效应测量系统
- 智能型氦液化器
- 美OAI 光功率计
- 英Glovebox 手套箱
- LakeShore 振动样品磁强计
- 德国Attocube 显微镜
- 粒子碰撞噪声检测仪
- Rion 液体光学颗粒度仪
- ADLEMA 检漏机
- 德YXLON CT检测
- 电子元器件水份分析仪
紫外清洗等离子清洗机
- 美Harrich 等离子清洗机
- 德Diener 等离子清洗机
- 德PVA Tepla 微波等离子清洗机
- 美Nano-master 晶圆清洗机
- 美国Jelight UV清洗机
- 日本SEN 紫外UV清洗机UV灯
- 蓝星宇UV清洗机
- SAMCO紫外臭氧清洗机
太阳能检测仪
UV灯
日立Hitachi
半导体辅助工艺/光刻胶
光刻胶/硅片
化学开封机 / 激光开封机
日本Elionix
德国Lecia 切片掩膜一体机
尼康Nikon光刻机
奥地利EVG光刻杨键合机压印机
日本理音Rion 微粒子计数器
德国Netzsch
德国YXLON 检测仪
已选条件
产品分类
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ParanNano百及纳米原子力显微镜（工业型）
parcannano百及纳米工业型原子力显微镜，可集成大尺寸样品位移台、全自动光学导航系统和配套自动控制软件，可对大尺寸样品 进行全方位的光学成像定位，根据光学成像结果自动标定多个精确测量区域，并根据缺陷/待测结构的特点进行模式识别，智能选取原子力显微镜测量
价 格：￥电议型 号：产 地：欧洲
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SII德国 ParcanNano百及纳米单离子注入系统
parcannano 纳米精准定位的单离子注入系统 sii,基于新型扫描针尖精准定位的离子注入系统，实现有效控制注入半导体器件的杂质种类、数量和位置。可用于基于电离杂质诱导的量子点所构建的量子信息域，研制的设备可用于探索纳米结构器件、量子比特系统和量子信息处理器电路的开发。
价 格：￥电议型 号：SII产 地：欧洲
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Quantum XD德国Nanoscrib 双光子微纳3D打印机
德国nanoscrib 双光子微纳3d打印机quantum x,结合了灰度光刻机的卓越性能和纳米筛网创的双光子聚合技术的精确性和灵活性。该无掩模光刻系统实现了二维和2.5d的衍射和折射显微光学的快速制作。
价 格：￥电议型 号：Quantum XD产 地：欧洲
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URE-2000/A12紫外单面光刻机
ure-2000系列紫外单面光刻机，主要型号有：ure-2000a，ure-2000b，ure-20000/35,ure-20000/35a，ure-2000/25,ure-2000/17.由中国科学院制造生产。
价 格：￥电议型 号：URE-2000/A12产 地：中国大陆
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URE-2000/35紫外单面光刻机
ure-2000/35 型紫外单面光刻机，中科院设计生产，曝光面积：4 英寸 ，非常适合工厂（效率高，操作傻瓜型，自动化程度高）和高校教学科研 （可靠性好，演示方便） 。
价 格：￥电议型 号：URE-2000/35产 地：中国大陆
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Sigma SEM德Zeiss 电子束直写仪
德zeiss sigma sem 电子束直写仪,利用曝光抗蚀剂，采用电子束直接曝光，可在各种衬底材料表面直写各种图形，图形结构（小线宽为10mm），是研究材料在低维度、小尺寸下量子行为的重要工具。广泛应用于纳米器件，光子晶体，低维半导体等沿域。
价 格：￥电议型 号：Sigma SEM产 地：欧洲
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CL7000俄罗斯 Optosystem 准分子激光器
俄罗斯 optosystem 准分子激光器：cl7000, 准分子激光器是传统的气体激光器，由于波长短（紫外），短脉冲宽度，高脉冲能量，是激光器家族不可替代的品种！应用上，准分子激光器在脉冲沉积镀膜（pld），光纤光栅刻写，lasik，光刻，微纳加工等方面占主导的地位。
价 格：￥电议型 号：CL7000产 地：欧洲
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ixion 193 SLM 准分子激光器
ixion 193 slm 是一款单频全固态激光系统，适用于光学计量、193 nm 步进光学元件校准或高功率 arf 准分子激光器的带宽控制等应用。
价 格：￥电议型 号：产 地：欧洲
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Photonic Professional GT2英国Nanobean 电子束光刻机
英国nanobean nb5 电子束光刻机,具有良好的稳定性，平均正常运行时间超过93%.
价 格：￥电议型 号：Photonic Professional GT2产 地：欧洲
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FPS6100瑞典 Mycronic 掩膜版光刻机
瑞典 mycronic 掩膜版光刻机 fps6100，用于制作高精度掩膜版，广泛用于半导体，tft-lcd，微电子等行业。
价 格：￥电议型 号：FPS6100产 地：欧洲
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瑞士 NanoFrazor 3D纳米结构高速直写机
raith 150 two可实现亚5nm的曝光结构，可处理8”晶元及以下样片。环境屏蔽罩保证了系统的热稳定性，提高设备对实验室环境的容忍度，即使在相对糟糕的实验室环境下，也能保证系统的正常稳定运行。
价 格：￥电议型 号：产 地：欧洲
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PhableR 100德国Eulitha 高分辨紫外光刻系统
phabler 100 紫外光刻机是一套低成本的光学曝光系统，但却能获得高分辨率的周期性结构。同传统的紫外曝光机类似，涂覆了光刻胶的晶片以接近方式放置在掩膜版下面，被紫外光束照射。由于eulitha公司拥有突破性的phable 曝光技术，在"phable"模式下，分辨率不再受到衍射的限制，从而曝光出亚微米的线性光栅和二维光栅（六角形和正方形），且曝光结果非常均匀，质量很好。
价 格：￥电议型 号：PhableR 100产 地：欧洲
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5000E美国 OAI 光刻机
oai 5000e型大面积掩光刻机是一种先进的高性能，全自动掩模对准器和曝光工具，可为大型平板应用提供超精密，顶，亚微米对准和分辨率。 其灵活的设计允许在各种基材（圆形或方形）上印刷高达300mm或20“×20”。 曝光系统兼容近，中，或深紫外范围的光刻胶，并具有计算机控制的led显微镜照明，在不太理想的观察环境中观察。
价 格：￥电议型 号：5000E产 地：美洲
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2000SM,2000AF美国 OAI 边缘曝光系统
两种型号的2000型曝光系统包括uv光源，强度控制电源和机器人衬底处理子系统。 uv光源提供发散半角<2.0％的可调强度光束。电源从200w到2,000w。强度控制器传感器直接连接到光源，用于精确的强度监控。机器人衬底处理系统是微处理器控制的，并且可以被编程以适应各种各样的衬底尺寸。
价 格：￥电议型 号：2000SM,2000AF产 地：美洲
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2012SM美国 OAI 自动化边缘曝光系统
2012sm型自动边缘曝光系统为使用标准阴影掩模技术的边缘珠去除提供了一种经济高效的方法。 设计用于容纳8“到300mm的晶片，该工具具有自动foup装载。 掩模和基材切换可以快速且容易地实现，从而增加该生产工具的通用性和高产量。
价 格：￥电议型 号：2012SM产 地：美洲
